JPS6227701A - 光学装置用透明成形体 - Google Patents
光学装置用透明成形体Info
- Publication number
- JPS6227701A JPS6227701A JP60167869A JP16786985A JPS6227701A JP S6227701 A JPS6227701 A JP S6227701A JP 60167869 A JP60167869 A JP 60167869A JP 16786985 A JP16786985 A JP 16786985A JP S6227701 A JPS6227701 A JP S6227701A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- polycarbonate
- units
- carbonate
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光学装置用透明成形体に関する。詳しくは光学
的特性メすなわち透明性に優れ光学的な歪みの小さい成
形体に関する。
的特性メすなわち透明性に優れ光学的な歪みの小さい成
形体に関する。
光学的用途に使用する成形物、例えば板状シート状の成
形物は透明であると共に光学的歪みの小さいものである
事が必要とされる。特にディジタル信号を利用して、光
情報材料として供する場合、例えばディジタルオーディ
オディスク、ディジタルビデオディスクにおいてはその
要求が極めて厳格であシ光学的歪みについては実成形品
において、複屈折にしてj−X / 0−”以下が要求
されるのみならず、更には情報書き込み、消去を目的と
したディスクにおいては高度の耐熱性も要求される。
形物は透明であると共に光学的歪みの小さいものである
事が必要とされる。特にディジタル信号を利用して、光
情報材料として供する場合、例えばディジタルオーディ
オディスク、ディジタルビデオディスクにおいてはその
要求が極めて厳格であシ光学的歪みについては実成形品
において、複屈折にしてj−X / 0−”以下が要求
されるのみならず、更には情報書き込み、消去を目的と
したディスクにおいては高度の耐熱性も要求される。
通常か\る形状のものを成形するには簡便な処決として
射出成形法が採用されるのであるが、光学的歪みを少な
くする方法として溶融樹脂温度を上げて溶融流動性を良
くする方法がとられる0 〔発明が解決しようとする問題点〕 然し乍らこの場合、樹脂の熱劣化に伴なう種々のトラブ
ルを生起し充分々解決にはなっていない。
射出成形法が採用されるのであるが、光学的歪みを少な
くする方法として溶融樹脂温度を上げて溶融流動性を良
くする方法がとられる0 〔発明が解決しようとする問題点〕 然し乍らこの場合、樹脂の熱劣化に伴なう種々のトラブ
ルを生起し充分々解決にはなっていない。
本発明者等は透明性にすぐれ、光学的歪の小さい、しか
も耐熱性に優れた成形物を製造する方法について鋭意検
討を重ねた結果、特定のポリカーボネートについて、そ
の目的を満足する事を見い出し、本発明を得るに到った
ものである0 即ち、本発明の要旨とする所はカーボネート結合を構成
する単位の中で懸垂する芳香族基を少なくとも7個以上
含む単位が25〜700重量%含まれるポリカーボネー
トであって、且その中でフェノールフタレイン骨格を有
する単位がコ0−100重量%含まれるポリカーボネー
トを成形してなる光学装置用透明成形体に存する0 以下本発明の詳細な説明する。
も耐熱性に優れた成形物を製造する方法について鋭意検
討を重ねた結果、特定のポリカーボネートについて、そ
の目的を満足する事を見い出し、本発明を得るに到った
ものである0 即ち、本発明の要旨とする所はカーボネート結合を構成
する単位の中で懸垂する芳香族基を少なくとも7個以上
含む単位が25〜700重量%含まれるポリカーボネー
トであって、且その中でフェノールフタレイン骨格を有
する単位がコ0−100重量%含まれるポリカーボネー
トを成形してなる光学装置用透明成形体に存する0 以下本発明の詳細な説明する。
本発明に使用されるポリカーボネートとはカーボネート
結合を構成する単位の中で少なくとも7個以上の懸垂す
る芳香族基を含む単位(以下カーボネート結合単位Aと
略す)を全カーボネート結合構成単位に対し、25〜7
00重量%含むポリカーボネートであって、且、フェノ
ールフタレイン骨格を有する単位が全カーボネート結合
単位に対し20〜700重量%含まれるポリカーボネー
トである。
結合を構成する単位の中で少なくとも7個以上の懸垂す
る芳香族基を含む単位(以下カーボネート結合単位Aと
略す)を全カーボネート結合構成単位に対し、25〜7
00重量%含むポリカーボネートであって、且、フェノ
ールフタレイン骨格を有する単位が全カーボネート結合
単位に対し20〜700重量%含まれるポリカーボネー
トである。
こ\で云うカーボネート結合とはアルコール性水酸基又
はフェノール性水酸基と例えばホス位とはか\るカーボ
ネート結合間に構成される構造単位を指している。
はフェノール性水酸基と例えばホス位とはか\るカーボ
ネート結合間に構成される構造単位を指している。
又カーボネート構成単位の中に他の結合種例えばエステ
ル結合、アオド結合、カーバメート結合、エーテル結合
等が本発明の目的にさしつかえぬ範囲で含まれていても
良い。
ル結合、アオド結合、カーバメート結合、エーテル結合
等が本発明の目的にさしつかえぬ範囲で含まれていても
良い。
この様なポリカーボネートを製造する方法としては、懸
垂する芳香族基を提供し得る、例えば下記一般式(I)
で示されるジオールの一株以上にホスゲンを吹き込み、
界面ないし溶液重合させる方法を提案する事が出来る。
垂する芳香族基を提供し得る、例えば下記一般式(I)
で示されるジオールの一株以上にホスゲンを吹き込み、
界面ないし溶液重合させる方法を提案する事が出来る。
(たソしくn)式中X、7は水素原子、炭素数/〜乙の
脂肪族炭化水素基及び炭素数6〜gの芳香族炭化水素基
の中よシ選択され、かっX、7の少なくともいづれか一
つは炭素数6〜tの芳香族炭化水素基である。又2及び
Wは水素原子又は炭素数/〜乙の脂肪族炭化水素基を示
す。)この様なRmL、た、芳香族基を有するカーボネ
ート結合単位を与えるジオール化合物としては例えばり
、り′−ジヒドロキシトリフェニルメタン、グ、グ′−
ジヒドロキシコ、2.! )リフェニルエタン、<44
’−ジヒドロキシ/、/、/ )リフェニルプロパン、
p、+’−ジヒドロキシテトラ7二二ルメタン、ビス(
ターヒドロキシフェニル)ジベンジルメタン、フェノー
ルフタレイン、0−クメルレゾルシン等を挙げる事が出
来る。この様なジオール化合物によって導入されるh−
ボネート結合単位Aは全カーボネート結合単位に対し、
25〜700重量−にあυ更にその中でフェノールフタ
レイン骨格を有する単位が全カーボネート結合単位に対
し20〜100重量%含まれる事が好ましい。
脂肪族炭化水素基及び炭素数6〜gの芳香族炭化水素基
の中よシ選択され、かっX、7の少なくともいづれか一
つは炭素数6〜tの芳香族炭化水素基である。又2及び
Wは水素原子又は炭素数/〜乙の脂肪族炭化水素基を示
す。)この様なRmL、た、芳香族基を有するカーボネ
ート結合単位を与えるジオール化合物としては例えばり
、り′−ジヒドロキシトリフェニルメタン、グ、グ′−
ジヒドロキシコ、2.! )リフェニルエタン、<44
’−ジヒドロキシ/、/、/ )リフェニルプロパン、
p、+’−ジヒドロキシテトラ7二二ルメタン、ビス(
ターヒドロキシフェニル)ジベンジルメタン、フェノー
ルフタレイン、0−クメルレゾルシン等を挙げる事が出
来る。この様なジオール化合物によって導入されるh−
ボネート結合単位Aは全カーボネート結合単位に対し、
25〜700重量−にあυ更にその中でフェノールフタ
レイン骨格を有する単位が全カーボネート結合単位に対
し20〜100重量%含まれる事が好ましい。
又本発明におけるポリカーボネートにおいては、場合に
よシか\る懸垂する芳香族基を有さぬカーボネート結合
単位(以下カーボネート結合単位Bと略す)を含んでも
良い。
よシか\る懸垂する芳香族基を有さぬカーボネート結合
単位(以下カーボネート結合単位Bと略す)を含んでも
良い。
カーボネート結合単位Bを提供する方法としては例えば
下記一般式CI)で示されるジオールの一種以上を同様
の処決で重合させれば良い。
下記一般式CI)で示されるジオールの一種以上を同様
の処決で重合させれば良い。
(A、B、C,Dは水素又は炭素数/〜乙の脂肪族炭化
水素基を示す。) か\るジオール化合物としては例えば/、/ビス(4t
−ヒドロキシフェニル)メタン、/、/−ビス(ターヒ
ドロキシフェニル)エタン、/、/−ビス−(ターヒド
ロキシフェニル)フロパン、コ、コビスー(ターヒドロ
キシフェニル)プロパン(ヒスフェノールム)、コ、コ
ビスー(弘−ヒドロキシフェニル)ブタン、コ、コービ
ス−(lI−ヒドロキシフェニル)ペンタン、コ、コー
ビス−(ターヒドロキシフェニル)インペンタン、コ、
−一ビスー(lIヒドロキシフェニル)ヘキサン、コ、
コービス−(lIヒドロキシフェニル)インヘキサン、
コ、コービス−(lIヒドロキシ3メチルフェニル)フ
ロパン、コ、−一ビス−(ジヒドロキシ3イソプロピル
フエニル)プロパンといった、コ価のフェノール化合物
を挙げる事が出来る。
水素基を示す。) か\るジオール化合物としては例えば/、/ビス(4t
−ヒドロキシフェニル)メタン、/、/−ビス(ターヒ
ドロキシフェニル)エタン、/、/−ビス−(ターヒド
ロキシフェニル)フロパン、コ、コビスー(ターヒドロ
キシフェニル)プロパン(ヒスフェノールム)、コ、コ
ビスー(弘−ヒドロキシフェニル)ブタン、コ、コービ
ス−(lI−ヒドロキシフェニル)ペンタン、コ、コー
ビス−(ターヒドロキシフェニル)インペンタン、コ、
−一ビスー(lIヒドロキシフェニル)ヘキサン、コ、
コービス−(lIヒドロキシフェニル)インヘキサン、
コ、コービス−(lIヒドロキシ3メチルフェニル)フ
ロパン、コ、−一ビス−(ジヒドロキシ3イソプロピル
フエニル)プロパンといった、コ価のフェノール化合物
を挙げる事が出来る。
中でもコ、コビス−(弘ヒドロキシフェニル)プロパン
(ビスフェノールA)1.2.!ビスー(タビドロキシ
3メチルフエニル)プロパン(ビスフェノールC)が好
適である。重合する際に場合によってはイソフタル酸ク
ロライド、テレフタル酸クロライド、セパシン酸クロ2
イド、アジピン酸クロライドの様な酸クロライド、ピペ
ラジンの様なジアミンを共重合させてカーボネート結合
単位A及びB内に共重合させても良い。これらのカーボ
ネート結合単位を導入するにあたっては本発明の要件を
満たす範囲でランダムないしはブロックの状態で共重合
しても良いし、後から同等の組成となる様、適宜均一混
合しても良い。その際カーボネート結合単位Aが全カー
ボネート結合単位に対しコ5〜700重量%含まれ、且
、カーボネート結合単位ムの中で7エノール7タレイン
骨格を有する単位が20−100重量%含まれる事が好
ましい。
(ビスフェノールA)1.2.!ビスー(タビドロキシ
3メチルフエニル)プロパン(ビスフェノールC)が好
適である。重合する際に場合によってはイソフタル酸ク
ロライド、テレフタル酸クロライド、セパシン酸クロ2
イド、アジピン酸クロライドの様な酸クロライド、ピペ
ラジンの様なジアミンを共重合させてカーボネート結合
単位A及びB内に共重合させても良い。これらのカーボ
ネート結合単位を導入するにあたっては本発明の要件を
満たす範囲でランダムないしはブロックの状態で共重合
しても良いし、後から同等の組成となる様、適宜均一混
合しても良い。その際カーボネート結合単位Aが全カー
ボネート結合単位に対しコ5〜700重量%含まれ、且
、カーボネート結合単位ムの中で7エノール7タレイン
骨格を有する単位が20−100重量%含まれる事が好
ましい。
即ちカーボネート結合単位Aが25重量%に清たざると
又更にフェノールフタレイン骨格を有する単位が10重
量%に満たざると、ポリマーのガラス転移温度が大幅に
低下し耐熱性の点で好ましくないばかシか、光学的歪の
小さい成形体を得る上で好ましくない。
又更にフェノールフタレイン骨格を有する単位が10重
量%に満たざると、ポリマーのガラス転移温度が大幅に
低下し耐熱性の点で好ましくないばかシか、光学的歪の
小さい成形体を得る上で好ましくない。
又この発明に使用されるポリカーボネートは平均分子量
にしてtoooからコ0000のものが好ましい。
にしてtoooからコ0000のものが好ましい。
こ\で云う平均分子量とはポリマー4.017tの塩化
メチレン溶液を用い、−0℃で測定されるη8pから下
記の式/)、コ)よシ求められる値である。
メチレン溶液を用い、−0℃で測定されるη8pから下
記の式/)、コ)よシ求められる値である。
ηsp/C−(η) (/ + K”η8p ) ・
・・l)〔η) −KM” ・・
・コ)式中 Cポリマー濃度 1/l 〔η〕極限粘度に10.コj K /、ユ3 × 10 α 0.g
、7M 平均分子量 即ち g:oooに満たざると機械的物性の面で好まし
くな(20000を超えると光学的歪の少ない成形材料
を得る上で支障をきたす。なお成形するにあたって、亜
リン酸エステル類を樹脂に対しQ、07〜2重量%添加
する事は樹脂の分解による着色、物性の低下を抑制する
上で好ましい0 か\る亜リン酸エステルとしては、トリブチルホスファ
イト、トリス(−一エチルヘキシル)ホスファイト、ト
リデシルホスファイード、十キ・ トリ
ステアリルホスファイト、トリフェニルホスファイト、
トリクレジルホスファイト、コニチルへキシルジフェニ
ルホスファイト、デシルジフェニルホスファイト、トリ
シクロヘキシルホスファイト、ジステアリルペンタエリ
スリチルホスファイト等を挙げる事が出来る。
・・l)〔η) −KM” ・・
・コ)式中 Cポリマー濃度 1/l 〔η〕極限粘度に10.コj K /、ユ3 × 10 α 0.g
、7M 平均分子量 即ち g:oooに満たざると機械的物性の面で好まし
くな(20000を超えると光学的歪の少ない成形材料
を得る上で支障をきたす。なお成形するにあたって、亜
リン酸エステル類を樹脂に対しQ、07〜2重量%添加
する事は樹脂の分解による着色、物性の低下を抑制する
上で好ましい0 か\る亜リン酸エステルとしては、トリブチルホスファ
イト、トリス(−一エチルヘキシル)ホスファイト、ト
リデシルホスファイード、十キ・ トリ
ステアリルホスファイト、トリフェニルホスファイト、
トリクレジルホスファイト、コニチルへキシルジフェニ
ルホスファイト、デシルジフェニルホスファイト、トリ
シクロヘキシルホスファイト、ジステアリルペンタエリ
スリチルホスファイト等を挙げる事が出来る。
か\る亜リン酸エステルを含有させる方法としては、ト
ライブレンドする方法、押し出し機でベレット化する際
に溶融混合する方法或いはマ その際亜リン酸エステルの濃度の高いゲスターベレット
をつくシ、未添加ベレットとトライブレンドする方法が
あげられる。
ライブレンドする方法、押し出し機でベレット化する際
に溶融混合する方法或いはマ その際亜リン酸エステルの濃度の高いゲスターベレット
をつくシ、未添加ベレットとトライブレンドする方法が
あげられる。
このようにして得られた芳香族ポリカーボネートは、射
出成形等の方法によシ成形され成形品とされるが、本発
明の芳香族ポリカーボネートはその耐熱性を保持したま
ま優れた成形性及び透明性を発揮する。
出成形等の方法によシ成形され成形品とされるが、本発
明の芳香族ポリカーボネートはその耐熱性を保持したま
ま優れた成形性及び透明性を発揮する。
このため、例えば光ディスク等の光学器材の基板等とし
て好適に用いられる。本芳香族ポリカーボネートを上記
光学器材として用いる場合には成形品のヘーズ(濁度)
が3%を超えないことが望ましく、その成形条件として
は溶融樹脂温度を、25Q〜3!rθ℃程度とし、金屋
表面温度を10〜730℃程度として射出成形し為溶融
樹脂の固化速度をゆるやかにして、成形品の表面にスキ
ン層を形成させず、また光学的歪みを発生させないよう
にするのが望ましい。
て好適に用いられる。本芳香族ポリカーボネートを上記
光学器材として用いる場合には成形品のヘーズ(濁度)
が3%を超えないことが望ましく、その成形条件として
は溶融樹脂温度を、25Q〜3!rθ℃程度とし、金屋
表面温度を10〜730℃程度として射出成形し為溶融
樹脂の固化速度をゆるやかにして、成形品の表面にスキ
ン層を形成させず、また光学的歪みを発生させないよう
にするのが望ましい。
以下に実施例を挙げ本発明を具体的に説明するが、本発
明はその要旨を越えない限9以下の実施例に限定される
ものではない。
明はその要旨を越えない限9以下の実施例に限定される
ものではない。
参考例−/ ポリカーボネートオリゴマーの製造例水
陵化ナトリウム水溶液にビスフェノールAを溶解して調
製したビスフェノールAナトリウム塩の76.6%の水
溶液100重量部、p−ターシャリ−ブチルフェノール
0.25重量部、塩化メチレ/lIo重量部、ホスゲン
7重量部からなる混合物を定量的にパイプリアクターへ
供給し界面重合を行なった。反応混合物を分液しポリカ
ーボネートオリゴマーを含有する塩化メチレン溶液のみ
捕集した。
陵化ナトリウム水溶液にビスフェノールAを溶解して調
製したビスフェノールAナトリウム塩の76.6%の水
溶液100重量部、p−ターシャリ−ブチルフェノール
0.25重量部、塩化メチレ/lIo重量部、ホスゲン
7重量部からなる混合物を定量的にパイプリアクターへ
供給し界面重合を行なった。反応混合物を分液しポリカ
ーボネートオリゴマーを含有する塩化メチレン溶液のみ
捕集した。
得られたオリゴマーの塩化メチレン溶液の分析結果は次
の通りであった。
の通りであった。
オ リ ゴマ − 濃度′) 5.5重量%末端クロ
ロホーメート基濃度り 7.3規定末端フ工ノー
ル性水酸基濃度3)0.3 規定l)蒸発乾固させて測
定 コ)アニリンと反応させて得られるアニリン塩酸塩を0
.2規定水酸化ナトリウム水溶液で中和滴定 3)四塩化チタン、酢酸溶液に溶解させた時の発色を!
r II A nmで比色定量この様にして得られたオ
リゴマー溶液をオリゴマー溶液−Aと以降略称する。
ロホーメート基濃度り 7.3規定末端フ工ノー
ル性水酸基濃度3)0.3 規定l)蒸発乾固させて測
定 コ)アニリンと反応させて得られるアニリン塩酸塩を0
.2規定水酸化ナトリウム水溶液で中和滴定 3)四塩化チタン、酢酸溶液に溶解させた時の発色を!
r II A nmで比色定量この様にして得られたオ
リゴマー溶液をオリゴマー溶液−Aと以降略称する。
参考例−コ ポリカーボネートの製造例ポリカーボネー
トオリゴマー溶液−AI40x量s、p−ターシャリ−
ブチルフェノール0.7重量部からなる混合物に塩化メ
チレン/30重量部を加え攪拌機つき反応器に仕込みs
h。
トオリゴマー溶液−AI40x量s、p−ターシャリ−
ブチルフェノール0.7重量部からなる混合物に塩化メ
チレン/30重量部を加え攪拌機つき反応器に仕込みs
h。
rpmで攪拌した。
更に/ 4.4 ’%のビスフェノールムナトリウム塩
水溶液10重量部、Jj%水酸化ナトリウム水溶液j重
量部、−%)リエチルアミン水溶液/重量部から成る水
溶液を加える。
水溶液10重量部、Jj%水酸化ナトリウム水溶液j重
量部、−%)リエチルアミン水溶液/重量部から成る水
溶液を加える。
約へ5hr界面重合を行ない反応混合物を分液し、ポリ
カーボネート樹脂を含む塩化メチレン溶液を水、塩酸水
溶液、ついで水を用いて洗浄し、最終的には塩化メチレ
ンを蒸発させて樹脂を取り出した。
カーボネート樹脂を含む塩化メチレン溶液を水、塩酸水
溶液、ついで水を用いて洗浄し、最終的には塩化メチレ
ンを蒸発させて樹脂を取り出した。
この樹脂の平均分子量はコQ100であった。
この樹脂をポリカーボネートIとする。
参考例−3ポリカーボネートの製造例
p−ターシャリーブチルフェノールf/、1g量部に変
更する以外参考例−コと同様の処決によシボリカーボネ
ートを製造した。
更する以外参考例−コと同様の処決によシボリカーボネ
ートを製造した。
この樹脂の平均分子量は/l1700であった。
この樹脂をポリカーボネート■とする。
参考例−弘 ポリカーボネートオリゴマーの製造例亭、
lI’−ジヒドロキシII コ、コ、コトリフーエニル
エタン/4’jliji部、苛性ソーダ60重量部を含
むアルカリ水溶液91.0重量部を攪拌機つきフラスコ
に仕込み、900rpmで攪拌し、次にパラターシャリ
−ブチルフェノール3重量部を含む塩化メチレン5xo
xih部を添加する。
lI’−ジヒドロキシII コ、コ、コトリフーエニル
エタン/4’jliji部、苛性ソーダ60重量部を含
むアルカリ水溶液91.0重量部を攪拌機つきフラスコ
に仕込み、900rpmで攪拌し、次にパラターシャリ
−ブチルフェノール3重量部を含む塩化メチレン5xo
xih部を添加する。
ついでホスゲンを7コ重量部を約/ hr かけて吹き
こみ界面重合を行なう。反応混合物を分液しポリカーボ
ネートオリゴマーの含有する塩化メチレン溶液のみ捕集
する。
こみ界面重合を行なう。反応混合物を分液しポリカーボ
ネートオリゴマーの含有する塩化メチレン溶液のみ捕集
する。
得られたオリゴマーの塩化メチレン溶液の分析結果は次
の通シである。
の通シである。
オリゴマー濃度 27.5重量%
末端クロロホーメート基濃度 0.27 A’規定
末端フェノール性水酸基濃度 0.0 A 6規定
この様にして得られたオリゴマー溶液をオリゴマー溶液
Bと略称する。
末端フェノール性水酸基濃度 0.0 A 6規定
この様にして得られたオリゴマー溶液をオリゴマー溶液
Bと略称する。
参考例−5ポリカーボネートオリゴマーの製造例フェノ
ールフタレイン、201量部、苛性ソーダ3重量部を含
むアルカリ水溶液zoO重量部を攪拌機つきフラスコに
仕込み900 rpmで攪拌し次にパラーターシャリー
プチルフェノールo、tI重量部を含む塩化メチレン溶
液、yoo重量部を添加する。ついでホスゲン/コ重量
部を30分かけて吹き込み界面重合を行なう。反応混合
物を分液しポリカーボネートオリゴマーの含有する塩化
メチレン溶液のみ捕集する。
ールフタレイン、201量部、苛性ソーダ3重量部を含
むアルカリ水溶液zoO重量部を攪拌機つきフラスコに
仕込み900 rpmで攪拌し次にパラーターシャリー
プチルフェノールo、tI重量部を含む塩化メチレン溶
液、yoo重量部を添加する。ついでホスゲン/コ重量
部を30分かけて吹き込み界面重合を行なう。反応混合
物を分液しポリカーボネートオリゴマーの含有する塩化
メチレン溶液のみ捕集する。
得られたオリゴマーの塩化メチレン溶液の分析結果は次
の通υである。
の通υである。
オリゴマー濃度 1.1重量%
末端クロロホーメート基濃度 0.070規定末端
フ工ノール性水酸基濃度 0.0.72規定この様
にして得られたオリゴマー溶液をオリゴマー溶液Cと略
称する。
フ工ノール性水酸基濃度 0.0.72規定この様
にして得られたオリゴマー溶液をオリゴマー溶液Cと略
称する。
参考例−6ポリカーボネートの製造例
オリゴマー溶液B100重量部、オリゴマー溶液C1コ
30重量部、パラターシャリ−ブチルフェノールへJ重
量部、塩化メチレン10重量部から成る混合物を攪拌機
つき反応器に仕込みj j Orpmで攪拌した。
30重量部、パラターシャリ−ブチルフェノールへJ重
量部、塩化メチレン10重量部から成る混合物を攪拌機
つき反応器に仕込みj j Orpmで攪拌した。
更にコ!饅水酸化ナトリウム水溶液6重量部、1%ト’
)エチルアミン水溶液/重量部及び脱塩水60重量部か
らなる水溶液を加え/ hr 界面重合を行ない反応
混合物を分液しポリカーボネート樹脂を含む塩化メチレ
ン溶液を塩識水溶液ついで水を用いて洗浄し、最終的に
は塩化メチレンを蒸発させて樹脂を取り出した。
)エチルアミン水溶液/重量部及び脱塩水60重量部か
らなる水溶液を加え/ hr 界面重合を行ない反応
混合物を分液しポリカーボネート樹脂を含む塩化メチレ
ン溶液を塩識水溶液ついで水を用いて洗浄し、最終的に
は塩化メチレンを蒸発させて樹脂を取り出した。
この樹脂の平均分子量はii、oooであった。
この樹脂をポリカーボネート■と略称する。
参考例−7ポリカーボネートの製造例
オリゴマー溶液B 10重量部、オリゴマー溶液025
0重量部、オリゴマー溶液A 20重量部を用いる他は
ポリカーボネート■と同じ重合処決でポリカーボネート
を得た。
0重量部、オリゴマー溶液A 20重量部を用いる他は
ポリカーボネート■と同じ重合処決でポリカーボネート
を得た。
この樹脂の平均分子量は//、700であった。
この樹脂をポリカーボネート■と略称する。
実施例−/、コ 比較例−/、コ
下記表−7に示す各樹脂に対して1−エチルへキシルジ
フェニルホスファイトt / J Oppm添加した後
、0.7オンスの射出成形機(日本製鋼新製31B )
を用い、表−/に示す成形条件で厚さへコ譚、巾/ C
fHz長さ!3の短柵を成形した。
フェニルホスファイトt / J Oppm添加した後
、0.7オンスの射出成形機(日本製鋼新製31B )
を用い、表−/に示す成形条件で厚さへコ譚、巾/ C
fHz長さ!3の短柵を成形した。
又同時に高化式フローテスターにより300℃せん断速
度IO”eθC−1におけるみかけの溶融流動性の目安
とした。
度IO”eθC−1におけるみかけの溶融流動性の目安
とした。
又複屈折については、短ざく状成形片の根元(溶融樹脂
の入口方向)からλ百の位置での複屈折(工、と略記す
る。)を日本光学製偏光顕微鏡により測定した数値で評
価した。
の入口方向)からλ百の位置での複屈折(工、と略記す
る。)を日本光学製偏光顕微鏡により測定した数値で評
価した。
又Tg(ガラス転移温度)はパーキンエルマーI聾D−
8−0・で測定した。
8−0・で測定した。
本発明の樹脂は極めて高い耐熱性と光学的均質〔発明の
効果〕 本発明の成形体は耐熱性に優れ光学的歪みの小さい成形
体であり、光ディスク等として用いられる透明成形体と
して用いて大変効果的である0
効果〕 本発明の成形体は耐熱性に優れ光学的歪みの小さい成形
体であり、光ディスク等として用いられる透明成形体と
して用いて大変効果的である0
Claims (1)
- (1)カーボネート結合を構成する単位の中で懸垂する
芳香族基を少なくとも1個以上含む単位(以下カーボネ
ート結合単位Aと云う)が全カーボネート結合単位に対
し25〜100重量%含まれる、ポリカーボネートであ
つて且カーボネート結合単位Aの中で20〜100重量
%がフエノールフタレイン骨格を有する単位である芳香
族ポリカーボネートを成形してなる光学装置用透明成形
体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60167869A JPH0693299B2 (ja) | 1985-07-30 | 1985-07-30 | 光学装置用透明成形体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60167869A JPH0693299B2 (ja) | 1985-07-30 | 1985-07-30 | 光学装置用透明成形体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6227701A true JPS6227701A (ja) | 1987-02-05 |
JPH0693299B2 JPH0693299B2 (ja) | 1994-11-16 |
Family
ID=15857590
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60167869A Expired - Lifetime JPH0693299B2 (ja) | 1985-07-30 | 1985-07-30 | 光学装置用透明成形体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0693299B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5274887A (en) * | 1992-04-20 | 1994-01-04 | Yoshida Kogyo K.K. | Swivel hook assembly |
US7946002B2 (en) | 2006-10-30 | 2011-05-24 | Ykk Corporation | Connecting device |
US7998348B2 (en) | 2006-03-09 | 2011-08-16 | Nitto Denko Corporation | Spiral membrane element and process for producing the same |
US8303815B2 (en) | 2005-10-31 | 2012-11-06 | Nitto Denko Corporation | Spiral separation membrane element |
US8361318B2 (en) | 2004-03-26 | 2013-01-29 | Nitto Denko Corporation | Spiral type separation membrane element |
US9604179B2 (en) | 2007-06-11 | 2017-03-28 | Nitto Denko Corporation | Spiral membrane element and method of producing the same |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59175079A (ja) * | 1983-03-22 | 1984-10-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | デイスクのクランプ装置 |
JPS6155117A (ja) * | 1984-08-24 | 1986-03-19 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光情報材料 |
-
1985
- 1985-07-30 JP JP60167869A patent/JPH0693299B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59175079A (ja) * | 1983-03-22 | 1984-10-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | デイスクのクランプ装置 |
JPS6155117A (ja) * | 1984-08-24 | 1986-03-19 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光情報材料 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5274887A (en) * | 1992-04-20 | 1994-01-04 | Yoshida Kogyo K.K. | Swivel hook assembly |
US8361318B2 (en) | 2004-03-26 | 2013-01-29 | Nitto Denko Corporation | Spiral type separation membrane element |
US8303815B2 (en) | 2005-10-31 | 2012-11-06 | Nitto Denko Corporation | Spiral separation membrane element |
US7998348B2 (en) | 2006-03-09 | 2011-08-16 | Nitto Denko Corporation | Spiral membrane element and process for producing the same |
US7946002B2 (en) | 2006-10-30 | 2011-05-24 | Ykk Corporation | Connecting device |
US9604179B2 (en) | 2007-06-11 | 2017-03-28 | Nitto Denko Corporation | Spiral membrane element and method of producing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0693299B2 (ja) | 1994-11-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6155117A (ja) | 光情報材料 | |
JP4602560B2 (ja) | 光情報記録デバイス用の組成物及び製品 | |
JP3830983B2 (ja) | 芳香族ポリカーボネート組成物 | |
EP0175905B1 (en) | Polycarbonate and its use as optical disc substrate | |
JPS6227701A (ja) | 光学装置用透明成形体 | |
JP2828699B2 (ja) | 高分子化合物及びそれよりなる光学成形品 | |
JPH0668021B2 (ja) | 光ディスク基板の製造方法 | |
JPS6239624A (ja) | ポリカ−ボネ−トよりなる光デイスク基板 | |
US5350790A (en) | Polycarbonate resin composition for optical use | |
JP3867930B2 (ja) | 芳香族ポリカーボネート組成物 | |
JPH09157376A (ja) | 芳香族ポリカーボネート樹脂およびその製造方法 | |
JPH09183836A (ja) | 芳香族ポリカーボネート樹脂 | |
JPH09157377A (ja) | 芳香族ポリカーボネート樹脂およびその製造方法 | |
JPH0620783B2 (ja) | ポリカ−ボネ−ト樹脂製光デイスク基板の製造法 | |
JPH03215523A (ja) | 光学機器用素材 | |
JP2509724B2 (ja) | 光学式ディスク基板の製造方法 | |
JPH0625399A (ja) | 光カード用基材 | |
JPH0834846A (ja) | 芳香族ポリカーボネート共重合体 | |
JP2836680B2 (ja) | ポリカーボネート樹脂よりなる光ディスク基板の製造法 | |
JPS6123625A (ja) | 成形材料 | |
JPS6356556A (ja) | ポリカ−ボネ−ト樹脂組成物 | |
JPS62181115A (ja) | 光学的特性の優れた成形物の製造方法 | |
JPH01292031A (ja) | 光学材料用樹脂組成物 | |
JPS6227426A (ja) | 芳香族ポリカ−ボネ−ト | |
JPH09183835A (ja) | 芳香族ポリカーボネート樹脂 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |