JPS62277547A - ガスセンサ− - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/28—Electrolytic cell components
- G01N27/30—Electrodes, e.g. test electrodes; Half-cells
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/403—Cells and electrode assemblies
- G01N27/4035—Combination of a single ion-sensing electrode and a single reference electrode
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
■1発明の背景
(産業上の利用分野)
本発明は、電極電位応答に=つ、で液中、生体中、心る
いは気体中のガス濃度あるいはガス分圧を安定に測定で
きるガスセンサーで、さらに詳細には、炭酸ガスやアン
モニアガス等全測定するガスセンサーに関する。
いは気体中のガス濃度あるいはガス分圧を安定に測定で
きるガスセンサーで、さらに詳細には、炭酸ガスやアン
モニアガス等全測定するガスセンサーに関する。
(従来の技術の問題点)
従来、炭酸ガスセンサー、アンモニアガスセンサーなど
のガスセンサーとしては、ガラス電極、即ち、−センサ
ーの感応部とガス透過膜との間VC薄い内部浴江層が保
持されていてガス透過膜を透過し定ガス分子がこの内部
溶成に俗解してP’(e変化させ、この変化を一センサ
ーで検出する電極がムく矧られている。しかし、このよ
うな電極を用いたセンサーの場合、プラス電極の九め、
破損しやすく、小型化が困難という欠点がbつ文。本発
明者らは、これらを解決すべく固体型の一七ン丈−七開
示している(特願昭59−281076号、特願昭60
−35691号、特願昭60−53308号、特願昭6
0−93176号)。
のガスセンサーとしては、ガラス電極、即ち、−センサ
ーの感応部とガス透過膜との間VC薄い内部浴江層が保
持されていてガス透過膜を透過し定ガス分子がこの内部
溶成に俗解してP’(e変化させ、この変化を一センサ
ーで検出する電極がムく矧られている。しかし、このよ
うな電極を用いたセンサーの場合、プラス電極の九め、
破損しやすく、小型化が困難という欠点がbつ文。本発
明者らは、これらを解決すべく固体型の一七ン丈−七開
示している(特願昭59−281076号、特願昭60
−35691号、特願昭60−53308号、特願昭6
0−93176号)。
しかしながら、電極のイオン特性(とくに感度)が1ケ
月を経過するころから低下するという欠点があっ九。
月を経過するころから低下するという欠点があっ九。
■1発明の目的
従って本発明は、破損し難く、小型化可能で、生体中で
の測定が可能なイオン特性が長期間安定し友微小固体型
のガスセンサーを提供することにある。
の測定が可能なイオン特性が長期間安定し友微小固体型
のガスセンサーを提供することにある。
上記目的は、導電性基体と該導電性基体の表面を覆う酸
化還元機能層と該酸化還元機能層表面を覆う水素イオン
キャリヤー層からなる一電極部と、基準電極と、該pH
電極部と該基準電極を絶縁する絶縁層と、前記pH電極
部の露出表面および該絶縁層の露出表面お工び前記基準
電極の露出表面を覆う被覆層と、該被覆層の表面を覆う
ガス透過層とからなるガス感応部を備えてなり、ガス分
圧を電極電位応答で測定する固体型ガスセンサーにLつ
達成される。
化還元機能層と該酸化還元機能層表面を覆う水素イオン
キャリヤー層からなる一電極部と、基準電極と、該pH
電極部と該基準電極を絶縁する絶縁層と、前記pH電極
部の露出表面および該絶縁層の露出表面お工び前記基準
電極の露出表面を覆う被覆層と、該被覆層の表面を覆う
ガス透過層とからなるガス感応部を備えてなり、ガス分
圧を電極電位応答で測定する固体型ガスセンサーにLつ
達成される。
■9発明の詳細な説明
以下、本発明を実カー例に基づき具体的に説明する。本
発明の特徴は第1図及び第1表を参照することにエリ一
層明瞭に理解できる。
発明の特徴は第1図及び第1表を参照することにエリ一
層明瞭に理解できる。
第1図は本発明に係わるガスセンサーで簀施例の構成図
である。導電性基体1(直径1,1龍X長さ3.0 m
x )の底面1aにテフロン被覆銅綜(0,2:utφ
)のti1!極リード12−aが導電性接着剤8で固定
され、更に導電性基体1は1.5朋露出するように熱収
縮チューブで外周が被覆絶縁されている。更に露出され
た導電性基体1の先端部は半球状に研磨され、露出部の
表面積が0.064α2(平均)になるように調整され
、電解酸化重合により、4を性基体1の露出面上に酸化
還元機能層5が形成てれている。
である。導電性基体1(直径1,1龍X長さ3.0 m
x )の底面1aにテフロン被覆銅綜(0,2:utφ
)のti1!極リード12−aが導電性接着剤8で固定
され、更に導電性基体1は1.5朋露出するように熱収
縮チューブで外周が被覆絶縁されている。更に露出され
た導電性基体1の先端部は半球状に研磨され、露出部の
表面積が0.064α2(平均)になるように調整され
、電解酸化重合により、4を性基体1の露出面上に酸化
還元機能層5が形成てれている。
本発明のイオンセンサーに使用される導電性基体1とし
ては、例えばベーサル・プレーン・ピロリティック・グ
ラファイト(basal planepyrolyti
c graphite :以下BPGという)、グラッ
シー力−ゴン等の導電性炭素材料;金、白金、銅、銀、
・9ラジウム、二、ケル、鉄等の金ム、特に貴金属又は
これらの金属のに面に酸化インノウム、酸化スズ等の半
導体ヲ抜覆し友ものが挙げられる。就中、導電性炭素材
料が好1しく、BPGが特に好フしく、形状としては円
柱状が好ましい。
ては、例えばベーサル・プレーン・ピロリティック・グ
ラファイト(basal planepyrolyti
c graphite :以下BPGという)、グラッ
シー力−ゴン等の導電性炭素材料;金、白金、銅、銀、
・9ラジウム、二、ケル、鉄等の金ム、特に貴金属又は
これらの金属のに面に酸化インノウム、酸化スズ等の半
導体ヲ抜覆し友ものが挙げられる。就中、導電性炭素材
料が好1しく、BPGが特に好フしく、形状としては円
柱状が好ましい。
また、酸・化還元機能を有する層5(以下、酸化還元機
能層ということがある)とは、これを4電性基体表面に
被着してなる電極が酸化還元反応に二って導電性基体に
一定を位を発生しうるものであり、本発明においては特
に酸素ガス分圧によって電位が変動しないものが好まし
い。
能層ということがある)とは、これを4電性基体表面に
被着してなる電極が酸化還元反応に二って導電性基体に
一定を位を発生しうるものであり、本発明においては特
に酸素ガス分圧によって電位が変動しないものが好まし
い。
斯かる酸化還元機能層5としては、例えば■キが好適な
ものとして挙げられる。なお、ここでキノン−ヒドロキ
ノン型の酸化還元反応とは、重合体の場合を例にとれは
、例えば次の反応式%式% (式中、R1,B2は例えば芳香族含有構造の化合物を
示す〕 また、アミン−キノイド型の酸化還元反応とは、前記同
様重合体の場合を例にとれば、例えば次の反応式で表わ
されるものをいう。
ものとして挙げられる。なお、ここでキノン−ヒドロキ
ノン型の酸化還元反応とは、重合体の場合を例にとれは
、例えば次の反応式%式% (式中、R1,B2は例えば芳香族含有構造の化合物を
示す〕 また、アミン−キノイド型の酸化還元反応とは、前記同
様重合体の場合を例にとれば、例えば次の反応式で表わ
されるものをいう。
(式中、R3,B4は例えは芳香族含有構造の化合物を
示す) このような酸化還元機能を有する層5を形成しうる化合
物としては、汐1」えば次の(at〜(clの化合物が
挙けられる。
示す) このような酸化還元機能を有する層5を形成しうる化合
物としては、汐1」えば次の(at〜(clの化合物が
挙けられる。
(式中、Ar、は芳香俵、各FX5は置換基、m2は1
ないしAr、の有効原子■数、n2は0ないしAr、の
有効原子個数−1を示す) で表わされるヒドロキシ芳香族化合物。Ar1の芳香核
は、例えばベンゼン核の工うに単環のものであっても、
アントラセン核、ピレン核、クリセン核、ペリレン核、
コロネン核等のように多環のものでおっても工く、まt
ベンゼン骨核のみならず複素環骨咳のものでbつても工
い。置換基B5としては、例えばメチル基等のアルキル
基、フェニル基等のアリール基、およびハロゲン原子等
が挙げられる。
ないしAr、の有効原子■数、n2は0ないしAr、の
有効原子個数−1を示す) で表わされるヒドロキシ芳香族化合物。Ar1の芳香核
は、例えばベンゼン核の工うに単環のものであっても、
アントラセン核、ピレン核、クリセン核、ペリレン核、
コロネン核等のように多環のものでおっても工く、まt
ベンゼン骨核のみならず複素環骨咳のものでbつても工
い。置換基B5としては、例えばメチル基等のアルキル
基、フェニル基等のアリール基、およびハロゲン原子等
が挙げられる。
具体的には、1列えはツメチルフェノール、フェノール
、ヒドロキシピリジン、o−1’cはコーペンノルアル
コール、o−,m−17c+!p−ヒドロギンベンズア
ルデヒド、o−−またはm−ヒドロキシアセトフェノン
、o−、m−ま之はp−ヒドロキシベンゾフェノン、o
−、コーまtはp−ヒドロキシベンゾフェノン、O〜、
m−ま之はp−カルダキ7フェノール、ソフェニルフェ
ノール、2−メチに−8−ヒドロキシキノリン、5−ヒ
ドロキシ−1,4−す7トキノノ、4−(p−ヒドロや
ジフェニル)2−7’タノン、l、5−ジヒドロキシ−
1,2,3,4〜テトラヒドロナフタレ/、ビスフェノ
ールA、ブリチルアニリド、5−ヒドロキシキノリン、
8−ヒドロキシキノリン、1.8−ノヒドロキシアント
ラキノン、5−ヒドロキシ−1,4−ナフトキノン等が
挙げられる。これらの中では、とくにツメチルフェノー
ルが好ましい。
、ヒドロキシピリジン、o−1’cはコーペンノルアル
コール、o−,m−17c+!p−ヒドロギンベンズア
ルデヒド、o−−またはm−ヒドロキシアセトフェノン
、o−、m−ま之はp−ヒドロキシベンゾフェノン、o
−、コーまtはp−ヒドロキシベンゾフェノン、O〜、
m−ま之はp−カルダキ7フェノール、ソフェニルフェ
ノール、2−メチに−8−ヒドロキシキノリン、5−ヒ
ドロキシ−1,4−す7トキノノ、4−(p−ヒドロや
ジフェニル)2−7’タノン、l、5−ジヒドロキシ−
1,2,3,4〜テトラヒドロナフタレ/、ビスフェノ
ールA、ブリチルアニリド、5−ヒドロキシキノリン、
8−ヒドロキシキノリン、1.8−ノヒドロキシアント
ラキノン、5−ヒドロキシ−1,4−ナフトキノン等が
挙げられる。これらの中では、とくにツメチルフェノー
ルが好ましい。
tbl 次式
(式中、Ar2は芳香核、各B6は置換基、m3は1な
いしAr2の有効原子価数、コ、は0ないしAr2の有
効原子価数−1′f、示す)で表わされるアミン芳香族
化合物。
いしAr2の有効原子価数、コ、は0ないしAr2の有
効原子価数−1′f、示す)で表わされるアミン芳香族
化合物。
Ar2の芳香核、置換基R6としては化合物taJにお
けるAr1、置換基B5と夫々同様のものが使用される
。アミノ芳香族化合物の具体%J 士卒げると、アニリ
ン、l、2−ノアミノベンゼン、アミノビレ/、ノアミ
ノピレン、アミ/クリセン、ノアミノピレン/、1−ア
ミノフェナントレン、9−アミノ7エナ/トレン、9.
10−ノアミノ7エナントレ/、1−アミノアントラキ
ノン、p−フェノキシアニリン、0−フェニレンノアミ
ン、p−クロロアニリン、3.5−ソクロロアニリン、
2,4.6− トリクロロアニリン、N−メチルアニリ
ン、N−フェニル−p−7エニレンノアミン等である。
けるAr1、置換基B5と夫々同様のものが使用される
。アミノ芳香族化合物の具体%J 士卒げると、アニリ
ン、l、2−ノアミノベンゼン、アミノビレ/、ノアミ
ノピレン、アミ/クリセン、ノアミノピレン/、1−ア
ミノフェナントレン、9−アミノ7エナ/トレン、9.
10−ノアミノ7エナントレ/、1−アミノアントラキ
ノン、p−フェノキシアニリン、0−フェニレンノアミ
ン、p−クロロアニリン、3.5−ソクロロアニリン、
2,4.6− トリクロロアニリン、N−メチルアニリ
ン、N−フェニル−p−7エニレンノアミン等である。
(cl 1,6−ピレンキノン、1,2,5.8−テ
トラヒドロキシナリデリン、7エナントレンキノン、ニ
ーアミノアントラキノン、プルプリン、l−アミノ−4
−ヒドロキシアントラキノ/、アントラルフィノ等のキ
ノン類。
トラヒドロキシナリデリン、7エナントレンキノン、ニ
ーアミノアントラキノン、プルプリン、l−アミノ−4
−ヒドロキシアントラキノ/、アントラルフィノ等のキ
ノン類。
これらの化合物のうち、特に2,6−キシレノール、1
−アミノピレンが好−zしい。
−アミノピレンが好−zしい。
更に、実施列に係め酸化還元機能層5全形成しうる化合
物としては、 (dl ポリ(N−メチルアニリン)〔大貫、伝田、
小山1日本化学会誌、1801−1809(1984)
〕、ポリ(2,6−ノメチルー1.4−フェニレンエー
テル)、ポリ(0−7エニレンノアミン)、ポリ(フェ
ノール)、ポリ2,6キシレノール;ピラゾロキノン系
ビニルモノマーのM 合K、インアロキサ・ソン系ビニ
ルモノマーの重合体等のキノン系ビニルポリマー稲重合
化合物の二うなtaJ〜(C1の化合物を含有する有機
化合物、(at〜(clの化合物の低重合度高分子化合
物(第17 =r”マー)、あるいは+at〜(clを
ポリビニル化合物、?リアミド化合物等の高分子化合物
に固定しtもの等の蟲該散化還元反応性を有するものが
挙げられる。これらの甲ではとくにポリ(2,6キンレ
ノール)が好ましい。なお、本明細書において、重合体
という語は単独重合体及び共重合体等の相互重合体の双
方を含む。
物としては、 (dl ポリ(N−メチルアニリン)〔大貫、伝田、
小山1日本化学会誌、1801−1809(1984)
〕、ポリ(2,6−ノメチルー1.4−フェニレンエー
テル)、ポリ(0−7エニレンノアミン)、ポリ(フェ
ノール)、ポリ2,6キシレノール;ピラゾロキノン系
ビニルモノマーのM 合K、インアロキサ・ソン系ビニ
ルモノマーの重合体等のキノン系ビニルポリマー稲重合
化合物の二うなtaJ〜(C1の化合物を含有する有機
化合物、(at〜(clの化合物の低重合度高分子化合
物(第17 =r”マー)、あるいは+at〜(clを
ポリビニル化合物、?リアミド化合物等の高分子化合物
に固定しtもの等の蟲該散化還元反応性を有するものが
挙げられる。これらの甲ではとくにポリ(2,6キンレ
ノール)が好ましい。なお、本明細書において、重合体
という語は単独重合体及び共重合体等の相互重合体の双
方を含む。
叙上の酸化還元機能層5を形成しうる化合物が導電性基
体1の表面に被着されるためには、アミノ芳香族化合物
、ヒドロキシ芳香族化合物等を電解酸化型合法または電
解析出法によって基体表面上で直接重合させる方法、あ
るいは電子線照射、光、熱などの適用によって、予め合
成された重合体を浴媒に浴かし、この溶液を浸漬・塗布
お:び乾燥にLO基基体圃面固定する方法、更には重合
体膜を化学的処理、物理的処理もしくは照射処理に二つ
て基体表面に直接固定する方法:t″採ることができる
。これらの方法の中では、特に電解酸化重合法によるの
が好ましい。
体1の表面に被着されるためには、アミノ芳香族化合物
、ヒドロキシ芳香族化合物等を電解酸化型合法または電
解析出法によって基体表面上で直接重合させる方法、あ
るいは電子線照射、光、熱などの適用によって、予め合
成された重合体を浴媒に浴かし、この溶液を浸漬・塗布
お:び乾燥にLO基基体圃面固定する方法、更には重合
体膜を化学的処理、物理的処理もしくは照射処理に二つ
て基体表面に直接固定する方法:t″採ることができる
。これらの方法の中では、特に電解酸化重合法によるの
が好ましい。
電解酸化重合法は、溶媒中で適当な支持電解質の存在下
、アミン芳香族化合物、ヒドロキシ芳香族化合物等を電
解酸化重合させ導電体の表面に重合体膜が被着されるこ
とに二り実施される。電解条件としては、−20℃で、
電極電位0.0〜1.5 V C対飽和塩化ナトリウム
カロメル電極: 5SCE )、3回帰引(掃引速度5
0 mV/5ec)後、1.5vで10分間電解反応を
行なうのが好ましい。各課としては、例えばアセトニト
リル。
、アミン芳香族化合物、ヒドロキシ芳香族化合物等を電
解酸化重合させ導電体の表面に重合体膜が被着されるこ
とに二り実施される。電解条件としては、−20℃で、
電極電位0.0〜1.5 V C対飽和塩化ナトリウム
カロメル電極: 5SCE )、3回帰引(掃引速度5
0 mV/5ec)後、1.5vで10分間電解反応を
行なうのが好ましい。各課としては、例えばアセトニト
リル。
水、ジメチルホルムアミド、ツメチルスルホキシド、プ
ロピレンカーボネート等が挙げられ、これらの中でとく
にアセトニトリルが好ましい。
ロピレンカーボネート等が挙げられ、これらの中でとく
にアセトニトリルが好ましい。
i之支持電解質としては、例えは過塩素酸ナトリウム、
硫酸、硫酸二ナトリウム、リン酸、ホウ酸、テトラフル
オロホウ素散塩、テトラフルオロリン酸カリウム、4級
アンモニウム塩などが好適なものとして卒けられ、これ
らの中ではとくに過塩素置ナトリウムが好ましい。斯く
して被着される重合体iは一般に極めて緻密であり、薄
膜であっても酸素の透過を阻止することができる。然し
、本発明に使用しうるためには。
硫酸、硫酸二ナトリウム、リン酸、ホウ酸、テトラフル
オロホウ素散塩、テトラフルオロリン酸カリウム、4級
アンモニウム塩などが好適なものとして卒けられ、これ
らの中ではとくに過塩素置ナトリウムが好ましい。斯く
して被着される重合体iは一般に極めて緻密であり、薄
膜であっても酸素の透過を阻止することができる。然し
、本発明に使用しうるためには。
酸化還元機能層5は当該酸化還元反応性を有するもので
あれば特に制限はなく、層の倣蕃の如何は問わない。
あれば特に制限はなく、層の倣蕃の如何は問わない。
酸化還元機能層5の厚さは0.1μm = 0.5 *
rnとなるようにするのが好ましい。0.1μm二つ薄
い足上好1しくない。
rnとなるようにするのが好ましい。0.1μm二つ薄
い足上好1しくない。
また、酸化還元機能層5は、これに電解質を含浸させて
使用することができる。電解質としては、例えばリン酸
水素二カリウム、過塩素酸ナトリウム、硫酸、テトラフ
ルオロホウ酸塩、テトラフェニルホウ酸塩等が挙げられ
る。これらの中ではとくに過塩素酸ナトリウムが好まし
い。酸化還元機能層5に1!jL解質を含浸させるには
、酸化還元機能J−5を24電性基体に被着したのち、
これを電解lx浴欣に浸漬する方法が簡便である。
使用することができる。電解質としては、例えばリン酸
水素二カリウム、過塩素酸ナトリウム、硫酸、テトラフ
ルオロホウ酸塩、テトラフェニルホウ酸塩等が挙げられ
る。これらの中ではとくに過塩素酸ナトリウムが好まし
い。酸化還元機能層5に1!jL解質を含浸させるには
、酸化還元機能J−5を24電性基体に被着したのち、
これを電解lx浴欣に浸漬する方法が簡便である。
叙上の妬くして導電性基体1に酸化還元機能層5が被覆
され九電極の表面に更に重ねて被覆される水素イオンキ
ャリヤー層7としては、水素イオンのイオンキャリヤー
物質及び必要により電解質塩を高分子化合物に担持せし
めた層が使用される。
され九電極の表面に更に重ねて被覆される水素イオンキ
ャリヤー層7としては、水素イオンのイオンキャリヤー
物質及び必要により電解質塩を高分子化合物に担持せし
めた層が使用される。
水素イオンキャリヤー物質としては、例えば次式
(式中、El、 、 Ft8および得は同一もしくは異
なっ九アルキル基を示し、そのうち少なくとも2つは炭
素数8〜18のアルキル基を示す)で表わされるアミン
類、および次式 (式中、B10は炭素数8〜18のアルキル基金示す) で表わされる化合物等を挙げることができ、好ましいも
のとしてはトリーn−ドデシルアミンが挙げられる。
なっ九アルキル基を示し、そのうち少なくとも2つは炭
素数8〜18のアルキル基を示す)で表わされるアミン
類、および次式 (式中、B10は炭素数8〜18のアルキル基金示す) で表わされる化合物等を挙げることができ、好ましいも
のとしてはトリーn−ドデシルアミンが挙げられる。
この中ではとくにトリドデシルアミンが好ましい。
電解質塩としては、例えばナトリウムテトラキス(p−
クロロフェニル)ボレート、炉中乎r;りh又λ7Iノ
ノンー jテトラキス(p−クロロフェニル)葉フ〜ネ、お工び
次式 %式% (式中、”1Bはアルキル基、好ましくは炭素数2〜6
のアルキル基を示す) 層材については高分子化合物として、例えば塩化ビニル
樹脂、塩化ビニル−エチレン共重合体、ポリエステル、
ポリアクリルアミド、ポリウレタンなどの有機高分子化
合物る・よびシリコーン樹脂などの無機高分子化合物士
卒げろことができる。この中ではとくに塩化ビニルがと
くに好ましい。使用される可塑剤は、溶出しにくいもの
が使用される。このような可塑剤としては、例えばセバ
シン酸ノオクチルエステル、7ジビン酸ノオクチルエス
テル、マレイン酸ノオクチルエステル、シー11−オク
チルフェニルホスホネート等が挙げられる。この中では
セバシン酸ノオクチル(DO8) 、セバシン酸ノ(2
−エチルヘキシル)が好ツしい。
クロロフェニル)ボレート、炉中乎r;りh又λ7Iノ
ノンー jテトラキス(p−クロロフェニル)葉フ〜ネ、お工び
次式 %式% (式中、”1Bはアルキル基、好ましくは炭素数2〜6
のアルキル基を示す) 層材については高分子化合物として、例えば塩化ビニル
樹脂、塩化ビニル−エチレン共重合体、ポリエステル、
ポリアクリルアミド、ポリウレタンなどの有機高分子化
合物る・よびシリコーン樹脂などの無機高分子化合物士
卒げろことができる。この中ではとくに塩化ビニルがと
くに好ましい。使用される可塑剤は、溶出しにくいもの
が使用される。このような可塑剤としては、例えばセバ
シン酸ノオクチルエステル、7ジビン酸ノオクチルエス
テル、マレイン酸ノオクチルエステル、シー11−オク
チルフェニルホスホネート等が挙げられる。この中では
セバシン酸ノオクチル(DO8) 、セバシン酸ノ(2
−エチルヘキシル)が好ツしい。
ま九各課としては、テトラヒドロフラン(1F)がとく
に好ましい。水素イオンキャリヤー層7が被覆されるに
は例えばテトラヒドロフラン等の溶媒に高分子化合物、
可塑剤、水素イオンキャリヤー物51を浴かした浴液中
に醸化還元電極を浸漬、引き上げ、風乾そして乾燥を繰
り返し、所望の厚さに調整することに二つ得られる。水
素イオンキャリヤー層7の厚さとしては0.1μm〜1
0n1特に(J、4〜2.Onとなるようにするの如く
被覆されt水素イオンキャリヤー層7の端から、約51
離して1径約0.2 muの銀線を約50正の長さ巻き
付け、残り線は基準電極リード線2−bとして用い、リ
ード線の部分はテフロン樹脂3を被覆して絶縁し、一部
はエポキシ樹脂に固定し絶縁層9としt後、0.1 k
l塩化ナトリウム、0.01M水酸化ナトリウム溶液中
で定電流を解(30mA/m2.40分)を行ない、銀
露出部分に塩化銀膜が形成されることにエリ、基準電極
4が作成される。この↓うにして、pH電極部と基準電
極4が一体となる。
に好ましい。水素イオンキャリヤー層7が被覆されるに
は例えばテトラヒドロフラン等の溶媒に高分子化合物、
可塑剤、水素イオンキャリヤー物51を浴かした浴液中
に醸化還元電極を浸漬、引き上げ、風乾そして乾燥を繰
り返し、所望の厚さに調整することに二つ得られる。水
素イオンキャリヤー層7の厚さとしては0.1μm〜1
0n1特に(J、4〜2.Onとなるようにするの如く
被覆されt水素イオンキャリヤー層7の端から、約51
離して1径約0.2 muの銀線を約50正の長さ巻き
付け、残り線は基準電極リード線2−bとして用い、リ
ード線の部分はテフロン樹脂3を被覆して絶縁し、一部
はエポキシ樹脂に固定し絶縁層9としt後、0.1 k
l塩化ナトリウム、0.01M水酸化ナトリウム溶液中
で定電流を解(30mA/m2.40分)を行ない、銀
露出部分に塩化銀膜が形成されることにエリ、基準電極
4が作成される。この↓うにして、pH電極部と基準電
極4が一体となる。
′代
叙上の如くして作成され九基準電極4の露出表面お工び
前記−電極部の露出表面および前記絶縁層9の露出表面
全被覆する被覆層6は、以1枯 下の如く作−成される。被覆層6を形成しうる物資とし
て電解漬液又は水溶成金保有する高分子セルロース誘導
体、水浴性高分子があげられ、この中ではとくにポリビ
ニルアルコール(以下PVAと略す)層が好適なものと
してあげられる。
前記−電極部の露出表面および前記絶縁層9の露出表面
全被覆する被覆層6は、以1枯 下の如く作−成される。被覆層6を形成しうる物資とし
て電解漬液又は水溶成金保有する高分子セルロース誘導
体、水浴性高分子があげられ、この中ではとくにポリビ
ニルアルコール(以下PVAと略す)層が好適なものと
してあげられる。
被覆層6を被覆するには、例えばPVA (電合度約2
000)を被検ガスイオン塩全含む溶媒に浴かし、 P
VAの10チ水溶液とすることが好まし乾燥(150℃
)という工程を施すことに工り、被検ガスイオンを含む
被覆層6が容易に得られる。
000)を被検ガスイオン塩全含む溶媒に浴かし、 P
VAの10チ水溶液とすることが好まし乾燥(150℃
)という工程を施すことに工り、被検ガスイオンを含む
被覆層6が容易に得られる。
被覆層6に保有される電解塩としては、被検ガスに応じ
て使用されることが好ましく、炭酸ガスに対しては、炭
酸水素ナトリウム・塩化ナトリウムが、アン七ニアガス
に対しては、塩化アンモニウム・塩化ナトリウムが、二
酸化窒素ガスに対しては亜硝酸ナトリウムが、亜硫11
iガスに対しては、硫酸水素ナトリウムが、酢酸ガスに
対して(工、酢酸ナトIJウムがとくに好ましい。5た
1【しし5七被覆増6の上に更にガス透過層10が被覆
されるには、シリコン膜組成物を溶媒にして俗解した浴
故に、被覆層6が被覆され九一体化電極を浸漬すること
にL9形成されろ。層厚としては、1μm〜1間が好ま
しく、とくに10μm〜300μmが好ましい。′!た
。
て使用されることが好ましく、炭酸ガスに対しては、炭
酸水素ナトリウム・塩化ナトリウムが、アン七ニアガス
に対しては、塩化アンモニウム・塩化ナトリウムが、二
酸化窒素ガスに対しては亜硝酸ナトリウムが、亜硫11
iガスに対しては、硫酸水素ナトリウムが、酢酸ガスに
対して(工、酢酸ナトIJウムがとくに好ましい。5た
1【しし5七被覆増6の上に更にガス透過層10が被覆
されるには、シリコン膜組成物を溶媒にして俗解した浴
故に、被覆層6が被覆され九一体化電極を浸漬すること
にL9形成されろ。層厚としては、1μm〜1間が好ま
しく、とくに10μm〜300μmが好ましい。′!た
。
ガス透過層10は疎水性であることが好ましい。
ガスセンサーを作用電極とし、内部基準電極(Ag/A
gC2)との間の起電力変化によりリン酸緩衝液中のガ
ス分圧を温度37℃にて測定し、起電力とガス分圧の関
係を対数プロットすることに二つ、ネルンストプロット
の傾きを調べた。
gC2)との間の起電力変化によりリン酸緩衝液中のガ
ス分圧を温度37℃にて測定し、起電力とガス分圧の関
係を対数プロットすることに二つ、ネルンストプロット
の傾きを調べた。
結果を第1表に示す。
なお、第1表中の被検ガスは、生体の代謝と密接な関係
にあるガスであるが、本発明のガスセンサーはこれらの
ガスに限定されるものではない。
にあるガスであるが、本発明のガスセンサーはこれらの
ガスに限定されるものではない。
(以下余日)
上記結果から、実施例1〜5において、ネルンストグロ
、)の傾きは、ガスセンサー作製後、40日経過後もネ
ルンストプロットの理論値61.55にいずれの実施例
もよく一致していることがわかる。
、)の傾きは、ガスセンサー作製後、40日経過後もネ
ルンストプロットの理論値61.55にいずれの実施例
もよく一致していることがわかる。
まt、95%応答速度は、2分倚以内であることが確認
された。
された。
■0発明の効果
本発明は、従来のガラス電極での内部成案のかわりに水
素イオンキャリヤー層と ガス透過域・1 層の間に善讐層を設は次回体型のガスセンサーな関係に
ある被検ガスイオンに応じて多種にわたって選択できる
ので、がイドワイヤー、力t−テル等と組合せることに
Lつ医療用ガスセン第1図は本発明の実施例のガスセン
サーの構成図、第2図は、本発明に基づく第2の態様の
ガスセンサーの構成図である。
素イオンキャリヤー層と ガス透過域・1 層の間に善讐層を設は次回体型のガスセンサーな関係に
ある被検ガスイオンに応じて多種にわたって選択できる
ので、がイドワイヤー、力t−テル等と組合せることに
Lつ医療用ガスセン第1図は本発明の実施例のガスセン
サーの構成図、第2図は、本発明に基づく第2の態様の
ガスセンサーの構成図である。
1・・・At性基体、1a・・・導電性基体底面、2−
a・・・−電極リード線、2−b・・・基準電極リード
線、3・・・テフロン被覆部、4・・・基準電極、5・
・・酸化還元機能層、6・・・被覆層、7・・・水素イ
オンキャリヤー眉、8・・・導電性接着剤、9・・・絶
縁層10・・・ガス透過層。
a・・・−電極リード線、2−b・・・基準電極リード
線、3・・・テフロン被覆部、4・・・基準電極、5・
・・酸化還元機能層、6・・・被覆層、7・・・水素イ
オンキャリヤー眉、8・・・導電性接着剤、9・・・絶
縁層10・・・ガス透過層。
Claims (1)
- 導電性基体と該導電性基体の表面を覆う酸化還元機能層
と該酸化還元機能層表面を覆う水素イオンキャリヤー層
からなるpH電極部と、基準電極と、該pH電極部と該
基準電極を絶縁する絶縁層と、前記pH電極部の露出表
面および該絶縁層の露出表面および前記基準電極の露出
表面を覆う被覆層と、該被覆層の表面を覆うガス透過層
とからなるガス感応部を備えてなり、ガス分圧を電極電
位応答で測定する固体型ガスセンサー。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61120565A JPS62277547A (ja) | 1986-05-26 | 1986-05-26 | ガスセンサ− |
US07/053,280 US4839020A (en) | 1986-05-26 | 1987-05-22 | Gas sensor |
DK264387A DK264387A (da) | 1986-05-26 | 1987-05-25 | Gas-sensor |
KR1019870005239A KR900002501B1 (ko) | 1986-05-26 | 1987-05-26 | 가스 센서 |
EP87401186A EP0247941B1 (en) | 1986-05-26 | 1987-05-26 | Gas sensor |
DE8787401186T DE3782541T2 (de) | 1986-05-26 | 1987-05-26 | Gassensor. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61120565A JPS62277547A (ja) | 1986-05-26 | 1986-05-26 | ガスセンサ− |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62277547A true JPS62277547A (ja) | 1987-12-02 |
JPH048744B2 JPH048744B2 (ja) | 1992-02-18 |
Family
ID=14789451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61120565A Granted JPS62277547A (ja) | 1986-05-26 | 1986-05-26 | ガスセンサ− |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4839020A (ja) |
EP (1) | EP0247941B1 (ja) |
JP (1) | JPS62277547A (ja) |
KR (1) | KR900002501B1 (ja) |
DE (1) | DE3782541T2 (ja) |
DK (1) | DK264387A (ja) |
Families Citing this family (26)
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