JPS62266175A - 塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野１ 本発明は塗布方法に関し、詳しくは基体を傷つけること
なく、膜厚ムラのないスパイラル塗布方法の改良に関す
る。

［発明の背景〕 従来薄膜を形成する塗布手段としては、ディップ（浸漬
）塗布法やスパイラル塗布法が知られている。しかしデ
ィップ塗布法では生産効率が悪く、また感光体の両端（
上下）で不均一塗膜となる等の問題があるので、かかる
欠点のないスパイラル塗布法が試みられている。

従来からスパイラル塗布法は、特開昭５２−１１９６５
１号や同６０−１５００５３号において知られており、
塗膜表面をいかに滑らかにして膜厚ムラをなくすかとい
う点から種々の研究がなされている。しかしこれらの従
来法はいずれもスパイラル塗布の一般的方法を提案する
に止まり、具体的かつ妥当な塗布条件を提案していない
ため、実際に実施した時に塗布ヘッドにより基体を傷つ
けたり、あるいは塗布ヘッドが溶媒により膨潤したり溶
解したりすることが判った。

そこで本発明は塗布ヘッドが膨潤したり溶解したりする
ことなく、かつ基体を傷付けることなく均一に塗布する
塗布方法を提供することを目的とする。

［問題点を解決するための手段］ 一般にスパイラル塗布において塗布ヘッドに用いる材質
は、塗布溶媒により、膨潤又は溶解するものであっては
ならないのは当然である。更に塗布ヘッドは基体に直接
あるいは塗布液を介して当接しているものであるから、
硬すぎても基体を傷付けることになり好ましくない。

本発明者は前記欠点を解消するためには塗布ヘッドの材
質、形状が重要なポイントであり、その材質の弾力性や
厚みには適切な範囲があるのではないかと考え、鋭意検
討の結果、弾力性や厚み自体の値ではなく、その両者の
積に適切な範囲があることを見出し、本発明に到達した
ものである。

即ち本発明の塗布方法は、エンドレスに形成された連続
周面な有する基体を一定速度で回転させ、該基体表面に
近接して設けられた塗布ヘッドを前記基体の回転軸方向
に相対的に移動させ、前記基体表面にスパイラル状に塗
布液を塗布する塗布方法において前記塗布ヘッドのＪ’
Ｘみｔ　　（ｃｍ）と該塗布ヘッドの材質のヤング率Ｅ
　（ｄｙｎｅ／ｃゴ）が、 ｔ×Ｅ≦２．ＯＸ　１０９ なる関係を有する塗布ヘッドを用いて塗布することを特
徴とする。

以下、本発明を実施するための装置を添付図面に基づき
説明する。

第１図はスパイラル塗４１装置の一例を示す平面図であ
り、同図において１は１ンドＩ／スに形成された連続周
面な有する基体であり、本実施例ではロール状のものが
用いられている。基体ｌを電子写真感光体として用いる
場合には、材質と１７で例えばアルミニウムが用いられ
る。

該基体１は駆動用モーター２で回転可能な回転軸３に固
定されている。

４は基体１の表面（特に−Ｌ方向が好ましい）に近接し
て設けられた塗布ヘー、ドで、図示しない塗布機の取付
部材４Ａに固定されている。塗布液タンク５に貯められ
た塗布液はポンプ６（例えばギアポンプ等の定量ポンプ
）によりフィルター７を介し又は介さずに塗布ヘッド４
に供給される。

塗布ヘッド４の形状は特に限定されないが２例えば第３
図に示す形状が挙げられる。同図において、ｔは塗布へ
ラド４の厚みを示し、ｌは長さを示している。該塗布ヘ
ッドの厚みは１〜１００　ＩＬｍが好ましく、より好ま
しくは５〜５０＃Ｌ１１である。

また塗布ヘッドの長さはｌＯ〜８０ＩＩＩＩ１１が好ま
しく、より好ましくは２０〜５０ｍｍである。

該塗布ヘッド４の材質のヤング率は、 ０．０７Ｘ　１０’１〜２０Ｘ　１０１１ｄｙｎｅ／ｃ
ｒｎ’が好ましく、より好ましくは０．３Ｘ　１０１１
−１０Ｘ　１０”ｄｙｎｅ／ｃｒｎ’であり、剛性率は
０．０２Ｘ１０１１〜１０Ｘ１０１１ｄｙｎｅ／ｃｒｎ
’が好ましく、より好ましくは０．ＩＸ　１０１１〜５
ＸＩ０１１ｄｙｎｅ／ｃｒｎ’である。

好ましい材質としては、ステンレス等の金属箔、樹脂ベ
ース（例えばＰＥＴ、テフロン等）が挙げられ、塗布液
の溶媒によって適宜選択使用すればよい。例えばハロゲ
ン系溶媒を用いるときには、樹脂を溶解したり、ＰＥＴ
を膨潤させたりするので、金属箔が好ましい。

本発明において塗布ヘッド４の厚みとヤング率の間には
、ｔ×Ｅ≦２．ＯＸ　１０９の関係がある。

ｔ　Ｘ　Ｅ　＞　２．ＯＸ　１０９の場合には、基体に
傷を生ずる等の欠点がある。

塗布ヘッド４と基体１の位置関係は第２図に示す如く、
塗布ヘッド４より流出する塗布液の流線方向Ｘと基体１
−１−の塗布液接点における回転方向への接線Ｙとの間
で形成される角度Ｏが９０’≦Ｏ≦１８０°になるよう
にすることが好ましい。

塗布ヘッド４を基体１の回転軸方向に相対的に移動させ
る手段は特に限定されないが、例えばポールネジ式移動
機構８が用いられる。該移動機構８は駆動用モーター９
に連結されたポールネジＩＯを基体の回転軸３に平行に
設け、該ネジ８に塗布ヘッドの取付部材１１を螺動可能
に固定し、該取付部材１１に塗布ヘッド４を固定して成
るものである。取付部材１１は通常ポールネジ１０に平
行に設けられるガイド棒１２を設けて固定されている。

塗布ヘッド４の先端は自由度があるため基体ｌの表面に
接触した状態にある。

θの調整は塗布ヘッド取付部材１１の取付箇所にＺ型デ
ィスクスタンドのような自由度を有する機構を設けるこ
とにより行うことができるが、限定されない。

以上のように構成されているので、基体ｌが所定の回転
数で回転している状態にあるとき、ポールネジＩＯを所
定の回転数で回転すれば、塗布ヘッドは回転軸３と平行
に移動するので、塗布液が塗布ヘッドに供給されるとス
パイラル塗布がなされる。

以上の実施例で、基体１はロール状のもの以外にシート
状のものであってもよく、またエンドレスであればよい
のでシームレスである必要はない。さらに基体ｌと塗布
ヘッド４が相対的に移動すればよいから基体ｌが移動し
てもよい。

本発明の塗布法は種々の基体塗布に適用可能であるが、
好ましくは電荷輸送層（以下、ＣＴＬという）の塗布に
適用することである。ＣＴＬは電荷輸送物質とバインダ
ーとを適当な溶媒に溶解して得られる塗布液を塗布する
ことにより形成される。

電荷輸送物質としては、例えば（特公昭３４−５４６７
号）、オキサゾール誘導体（例えば同３５−１１２５号
）、オキサジアゾール誘導体（例えば同３４−５４６６
号）、ピラゾリン誘導体（例えば同３４−１０３６６号
）、イミダゾール誘導体（例えば同３５−１１２１５号
、同３７−１６０９６号）、フルオレノン誘導体（特開
昭５２−１２８３７３号、同５４−１１０８３７号）、
カルバゾール誘導体（例えば同５４−５９１４２号）更
に同５Ｂ−１３４６４２号、同５８−６５４４０号等に
記載の物質が挙げられる。

バインダーとしては、電荷輸送物質との相溶性が高く、
さらに透明性及び絶縁性の高いものがよく、一般に電子
写真感光体に用いられているものはすべて用いることが
でき、例えばポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポ
リアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、
ポリビニルブチラール樹脂、ポリメチルメタクリレート
樹脂等が挙げられる。

適当な溶媒としては、沸点（ｂｐ）が８０℃〜１５０°
Ｃのものが好ましく、より好ましくは８０°０〜１２０
°Ｃのものである。具体的には、１．２−ジクロロエタ
ン（ｂｐ＝８３．５℃）、　１，１．２−トリクロロエ
タン（ｂｐ＝１１３．５℃）、　１．４−ジオキサン（
ｂｐ＝１０１．３℃）、ベンゼン（ｂｐ＝８０．１°Ｃ
）、　トルエン（ｂｐ＝ｔ　１０．８℃）、’　＋　ｍ
＋　Ｐ　＋−キシレン（ｂｐ＝１３８〜１４４°Ｃ）等
が挙げられる。また沸点が８０℃〜１５０℃の範囲にな
い溶媒でも高温点溶媒と低沸点溶媒の混合により、沸点
調整を行い使用することができる。

本発明に用いられる塗布液は、」二記以外に他の物質を
含有せしめることができる。例えばシロキサン系化合物
を含有せしめば、塗布表面が平滑化するという効果があ
る。シロキサン系化合物としてはジメチルポリシロキサ
ン、メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる。添
加量は塗布液全量に対し１−１１００００ｐｐが好まし
く、より好ましくはｌＯ〜　１１０００ｐｐである。

本発明に用いられる塗布液の温度は１０〜３０℃が好ま
しく、より好ましくは１５〜２５℃である。

以上説明した本発明の塗布方法は、感光体だけでなく、
絶縁層（ＮＰ）　、静電記録等の記録層、磁気記録材料
等の塗布にも適用可能である。

［発明の効果］ 本発明によれば、塗布ヘッドが膨潤したり溶解したりす
ることなく、かつ基体を傷付けることなく均一に塗布す
ることができる。

［実施例］ 以下本発明の実施例を挙げ、更に具体的に説明する。

実施例１ 下記組成の塗布液を調製した。粘度は１２ｃｐ温度は２
５℃であった。

ジクロロエタン　　　　　　　　　５０Ｉｌ立１．１．
２−）ジクロロエタン　　　　　５０腸立ポリカーポネ
ー）　（Ｌ−１２５０，音大化成社製）ｇ １．１−ビス（４−Ｎ、　Ｎ−ジベンジルアミノ−２−
メチルフェニル）ノルマルブタン　　　５ｇメチルフェ
ニルポリシロキサンｌＸｌ０−２　ｇ次いで第１図に示
す装置を用い以下のようにして塗布を行った。

基体として１００ｍｍφＸ　３３０＋ｕａのアルミニウ
ムシリンダーを用いた。この基体な１００ｒｐ＋ｉで回
転させながら、塗布ヘッドにギヤポンプを利用して３８
ｍ１　／ｗｉｎの割合で上記の塗布液を送り込み、塗布
ヘッドを１０ｍｍ／ｓｅｅの速さで移動させた。塗布ヘ
ッドは厚さ１１０７ｚのステンレス（ヤング率１８．７
Ｘ　１０１１ｄｙｎｅ／ｃｒｎ’　）を用い、巾２Ｏｎ
＋ｍ、長さ５０ｍｍ（７）ものを用いた。

塗布ヘッドは、塗布液を介して基体にθ＝１３５°で接
触しており、塗布ヘッドから基体−にに供給された塗布
液によりスパイラル塗布を行い、ウェット膜厚２０２　
ｐＬｍの塗膜を形成した。

この塗膜は基体上でレベリングしており、メチルフェニ
ルポリシロキサンの微量添加により、ゆず肌のない平滑
な塗膜となった。また塗布ヘッドによる基体の傷も発生
しなかった。

実施例２ 実施例１において、塗布ヘッドを厚さ４５９　＃Ｌｍの
ＰＥＴ　（ヤング率３．９２Ｘ　１０”ｄｙｎｅ／ｃｒ
ｎ’）に代えた。

ｔ×Ｅ＝　　１．８ＸＩ０９であった。上記以外は同様
にして塗布を行った所、実施例１と同様に平滑な塗膜が
得られ、基体の傷も発生しなかった。

比較例１ 実施例１において、塗布ヘッドを１１ｇｍのステンレス
に代えた。ｔ×Ｅ＝　２．２Ｘ１０９であった。

上記以外は同様にして塗布を行った所、基体に傷が発生
した。

［実験例］ 実施例１、実施例２及び比較例１のようにしてＣＴＬを
形成した後、次の処方の塗布液をスプレーで吹イ・１け
ＣＧＬをｌｐｍの厚さに設けた。

塩化メチレン　　　　　　　　　　　１００■文１．１
．２−トリクロロエチレン　　　　　１００ｍ文２−ブ
ロム７ンスアンスロン（２Ｙ、ＩＣＩ社製）　　　　　
　　　　　　　３ｇポリ六−ポネート（バシライトＬ−
１２５０，帝人化成社ｍＷ）　　３ｇその後１００℃の
温度で３時間乾燥した。

こうして得られた感光体を普通紙複写機Ｕ−Ｂｉｘ−２
５００改造機に装着し、画像評価を行ったところ実施例
１，２の感光体は良好な画像が得られたが、比較例１の
感光体は傷部分にスジ状の画像不良が発生した。

【図面の簡単な説明】

第１図はスパイラル塗布装置の一例を示す平面図、第２
図は塗布ヘッドからの塗布液供給方向と基体」−の塗布
液流れ方向の接線との角度θを示す要部拡大断面図、第
３図は塗布ヘッドの要部を示す斜視図である。 ｌ・・・基体 ２・・・駆動用モーター ３・・・回転軸 ４・・・塗布ヘッド ５・・・塗布液タンク ６・・・ポンプ ７・・・フィルター ８・・・ポールネジ式移動機構 ９・・・駆動用モーター １０・・・ポールネジ １１・・・取付部材 １２・・・ガイド棒

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 エンドレスに形成された連続周面を有する基体を一定速
   度で回転させ、該基体表面に近接して設けられた塗布ヘ
   ッドを前記基体の回転軸方向に相対的に移動させ、前記
   基体表面にスパイラル状に塗布液を塗布する塗布方法に
   おいて前記塗布ヘッドの厚みを（ｃｍ）と該塗布ヘッド
   の材質のヤング率Ｅ（ｄｙｎｅ／ｃｍ＾２）が、 ｔ×Ｅ≦２．０×１０＾９ なる関係を有する塗布ヘッドを用いて塗布することを特
   徴とする塗布方法。