JPH05224438A - ポリシロキサンホモポリマーを含有する像形成部材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 改良された摩擦特性と耐磨耗性を有する外表
面層を含む光導電性像形成部材を提供することを目的と
する。 【構成】 支持基体と像形成面側上の外側層とを含み、
この外側層が連続フィルム形成性ポリマーマトリックス
中に均質に分散させた高分子量ポリシロキサンホモポリ
マーの微細球体を含むことを特徴とする静電写真像形成
部材。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、フィルム形成性ポリマ
ーマトリックス中に分散させた高分子量ポリシロキサン
を含む外側像形成層を有する静電写真像形成部材に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】静電写真像形成部材は、一般に、繰り返
しの静電写真サイクル操作に供され、このサイクル操作
は、静電写真像形成部材の露出層を磨耗せしめ、露出層
の機械的および電気的特性の漸次的劣化をもたらす。例
えば、繰り返しのサイクル操作は、電荷輸送層、電荷発
生層、オーバーコーティング層、電子写真像形成層等の
ような像形成部材の外側像形成層の露出表面に悪影響を
及ぼす。ブレードクリーニングにより感光体の像形成表
面から残留トナー粒子を除去する場合、トナー粒子はし
ばしば像形成表面に付着しサイクル操作中に彗星状の汚
れを形成する。この汚れは、ブレードクリーニングによ
っては簡単に除去できず、最終のプリント出力において
望ましくない欠陥として現れる。また、コピー紙を包装
するのに用いる巻取り機からの付着粒子は、感光体表面
上にしばしば蓄積して、クリーニング用ブレードによっ
ては容易に除去できないことも判明している。これらの
汚れは最終のプリント出力上にブラックスポット（黒
点）を形成する。さらに、紙繊維が像形成表面に絡み付
きブラックスポット様の写し出し欠陥を生ずる。また、
クリーニング用ブレードと像形成表面との間の高接触摩
擦力は、ブレードと像形成表面の両方を磨耗する傾向に
ある。磨耗による電荷輸送層厚の低下は、層を横切る電
場を増大させ、それによって暗減衰を増大させ、像形成
部材の電子写真作動寿命を短縮させる。電荷輸送層の厚
さを増大させることによって像形成部材の磨耗を補正す
る試みは、電場の減少を引起し、そのために、光電性能
を変化させまたコピーのプリント仕上がり品質を低下さ
せ、このことは、その厚めの電荷輸送層を補正するのに
かなり複雑な装置を必要とする。さらにまた、輸送層が
磨耗するにつれての輸送層の厚さの変化により、感光体
の電気特性が変化し、結果として、形成された像の品質
を変化させる。これらの問題を克服する試みはなされ続
けている。しかしながら、１つの問題の解決はさらなる
問題をもたらす。

【０００３】関連する従来技術としては、米国特許第
４，０７８，９２７号；第４，４６９，７６４号；第
４，３３２，７１５号；第４，７８４，９２８号；第
４，３４０，６５８号；第４，３８８，３９２号；第
４，７３８，９５０号；第４，２５４，２０８号；第
４，２１８，５１４号；第３，８８５，９６５号；第
４，４７４，８３４号；第４，５５９，２６１号；第
４，５６０，６１０号；および第４，５１９，６９８号
を参照されたい。クリーニング用ブレードと感光性部材
間の接触により生ずる摩擦劣化を低減させる試みには、
ワックスのような潤滑剤をトナーに添加する方法があ
る。しかしながら、そのトナーの定着性が電気的機能を
低下させ、あるいはさらなるフィルム化が生じて劣化像
の原因となり得る。摩擦力を減じる１つの試みは、感光
性ドラムの表面に潤滑剤を塗布することを含む。Kohyam
a 等に付与された米国特許第４，５１９，６９８号にお
いては、ワックス潤滑剤を用いてクリーニング用ブレー
ドを絶えず潤滑させる方法が開示されている。しかしな
がら、感光性ドラム上に形成させた潤滑剤の厚さを維持
するのが難しく、感光性部材の静電特性との干渉が起こ
り得る。低摩擦係数を有する材料でクリーニング用ブレ
ードを構築する試みもなされている。しかしながら、こ
れらの試みも、添加剤の存在に基づく他の性質特に機械
強度の低下の問題に直面する。米国特許第４，３４０，
６５８号および第４，３８８，３９２号によれば、感光
性層の表面平滑性は、ポリジメチルシロキサンのような
均展剤をポリビニルカルバゾールタイプの光導電体に添
加することによって改良し得る。通常のシリコーン油を
電荷輸送層の像形成表面上にスプレーして摩擦を減じる
場合には、電荷輸送層はサイクル操作を行わない場合で
さえも曲げたときにクラックする。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って、耐久性を増大
させ、像形成装置内での露出表面の寿命を延長させ、さ
らに、電気的および機械的完全性を維持しながら像形成
装置の各部材間の摩擦接触を減じることが望まれてい
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記および他の目的は、
本発明によれば、支持基体と像形成面側上の外側層とを
含み、この外側層が連続フィルム形成性ポリマーマトリ
ックス中に均質に分散させた高分子量ポリシロキサンホ
モポリマーの微細球体を含むことを特徴とする静電写真
像形成部材を提供することによって達成される。この像
形成部材は、像形成表面上に静電潜像を形成させ、この
静電潜像をマーキング粒子で現像してこの静電潜像と一
致したマーキング粒子像を形成させ、このマーキング粒
子像を受入れ部材に転写し、像形成表面をクリーニング
し、これらの静電潜像形成、現像、転写およびクリーニ
ングの各工程を少なくとも１回繰り返すことを含む静電
写真像形成方法において使用し得る。この像形成部材
は、上記の高分子量ポリシロキサンホモポリマーとフィ
ルム形成性ポリマーを少なくとも１種の溶媒中に溶解さ
せ、上記の高分子量ポリシロキサンホモポリマーを相分
離させて上記の連続フィルム形成性ポリマーマトリック
ス中に微細球体として均質に分散させた乾燥外側層を形
成させることによって製造し得る。

【０００６】本発明の外側層で用いる高分子量ポリシロ
キサンホモポリマーはすべて繰り返しの−Ｓｉ−Ｏ−セ
グメントの主鎖を有する。高分子量ポリシロキサンホモ
ポリマーは線状または枝分れ型であり得るが、枝分れ化
は、架橋ネットワークの形成を促進させる程度まで進行
させるべきでない、何故ならば、その様な架橋はこれら
のポリシロキサンを熱可塑性ポリマーから熱硬化性ポリ
マーに転換させるからである。熱硬化性プラスチック
は、外側層用のコーティング溶媒に不溶性であり、従っ
て、溶液コーティング法によって塗布できない。連続フ
ィルム形成性ポリマーマトリックス中に分散性の任意の
適当な熱可塑性高分子量ポリシロキサンホモポリマー
を、本発明の像形成部材の外側層において使用し得る。
典型的なポリシロキサンホモポリマーには、ポリ（ジメ
チル）シロキサンおよびポリ（ジエチルシロキサンのよ
うなポリ（ジアルキル）シロキサン、ポリ（メチルフェ
ニル）シロキサン、ポリ（ジフェニル）シロキサン、ポ
リ（パーフルオロアルキル）シロキサン、ポリ（ジグリ
シドキシ）シロキサン、ポリ（ビニルベンジル）シロキ
サン、ポリ（メチルメタクリロキシ）シロキサン、ポリ
（ジアミノアルキル）シロキサン、ポリ（ジビニルアル
キル）シロキサン、ポリ（ジクロロアルキル）シロキサ
ン等がある。これらの熱可塑性高分子量ポリシロキサン
ホモポリマーの一般式を下記に示す：

【０００７】

【化１】 （上記の式は、重合度ｘ＋１を有する高分子量線状ポリ
シロキサンホモポリマー鎖の略図である。太実線は骨格
結合を示し、点線は連鎖骨格原子によって定まった平面
を延長する結合を示す。ｘの値は重量平均分子量約２０
０，０００〜約８００，０００を有する高分子量ポリマ
ーを形成するのに十分でなければならない。記号ｍ_i 、
ｍ_l およびｍ_n はＳｉ−Ｏ結合の位置を示す。記号Θは
１８０°からＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合角を引くことによって
計算した角度を示し、Φは種々の配座状態を生ずる主鎖
の周りの回転角度を示す。Ｒ₁ およびＲ₂ は、各々、ヒ
ドロカルビル、ハロカルビルおよびシアノ低級アルキル
から選ばれた２０個までの好ましくは８個までの炭素原
子を有する有機ペンダント基である。Ｒ₃ 、Ｒ₄ および
Ｒ₅ は、各々、ヒドロカルビルおよびハロカルビルから
選ばれた２０個まで好ましくは８個までの炭素原子から
なる基から選ばれる。）

【０００８】上記の式において、Ｒ₁ およびＲ₂ は、例
えば、フェニル、ベンジル、トリル、キシリルおよびエ
チルフェニルのような単核アリール；２，６−ジクロロ
フェニル、４−ブロモフェニル、２，５−ジフルオロフ
ェニル、２，４，６−トリクロロフェニルおよび２，５
−ジブロモフェニルのようなハロゲン置換単核アリー
ル；メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ter −ブチ
ル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、オクタデ
シルのようなアルキル；ビニル、アリル、ｎ−ブテニル
−１、ｎ−ブテニル−２、ｎ−ペンテニル−２、ｎ−ヘ
キセニル−２，２，３−ジメチルブテニル−２、ｎ−ヘ
プテニルのようなアルケニル；プロパルギル、２−ブチ
ニルのようなアルキニル；クロロメチル、イオドメチ
ル、ブロモメチル、フルオロメチル、クロロエチル、イ
オドエチル、ブロモエチル、フルオロエチル、トリクロ
ロメチル、ジ−イオドエチル、トリブロモメチル、トリ
フルオロメチル、ジクロロエチル、クロロ−ｎ−プロピ
ル、ブロモ−ｎ−プロピル、イオドイソプロピル、ブロ
モ−ｎ−ブチル、ブロモ−ｔｅｒｔ−ブチル、１，３，
３−トリクロロブチル、１，３，３−トリブロモブチ
ル、クロロペンチル、ブロモペンチル、２，３−ジクロ
ロペンチル、３，３−ジブロモペンチル、クロロヘキシ
ル、ブロモヘキシル、１，４−ジクロロヘキシル、３，
３−ジブロモヘキシル、ブロモオクチルのようなハロア
ルキル；クロロビニル、ブロモビニル、クロロアリル、
ブロモアリル、３−クロロ−ｎ−ブテニル−１、３−ク
ロロ−ｎ−ペンテニル−１、３−フルオロ−ｎ−ヘプテ
ニル−１、１，３，３−トリクロロ−ｎ−ヘプテニル−
５、１，３，５−トリクロロ−ｎ−オクテニル−６、
２，３，３−トリクロロメチルペンテニル−４のような
ハロアルケニル；クロロプロパルギル、ブロモプロパル
ギルのようなハロアルキニルであり得る。

【０００９】さらに、Ｒ₁ およびＲ₂ は、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチ
ル、６−メチルシクロヘキシル、３，３−ジクロロシク
ロヘキシル、２，６−ジブロモシクロヘプチル、１−シ
クロペンテニル、３−メチル−１−シクロペンテニル、
３，４−ジメチル−１−シクロペンテニル、５−メチル
−５−シクロペンテニル、３，４−ジクロロ−５−シク
ロペンテニル、５−（ｔｅｒｔ−ブチル）１−シクロペ
ンテニル、１−シクロヘキシル、３−メチル−１−シク
ロヘキシニル、３，４−ジメチル−１−シクロヘキシニ
ルのようなシクロアルキル、シクロアルケニル、アルキ
ルまたはハロゲン置換のシクロアルキルおよびシクロア
ルケニル；シアノメチル、β−シアノエチル、γ−シア
ノプロピル、δ−シアノブチルおよびγ−シアノイソブ
チルのようなシアノアルキル；グリシドキシ；メタクリ
ロキシ；ベンジル等であり得る。Ｒ₁ およびＲ₂ 基の結
合の例には、ジメチル、ジエチル、ジフェニル、メチル
フェニル、メチルエチル、メチルオクタデシル、ジテ
トラクロロフェニル、ジペンタフルオロエチル、メチル
ペンタフルオロエチル、ジパーフルオロヘキシル、メチ
ルパーフルオロヘキシル等がある。Ｒ₃ 、Ｒ₄ およびＲ
₅ の例には、フェニル、ベンジル、トリル、キシリルお
よびエチルフェニルのような単核アリール；２，６−ジ
クロロフェニル、４−ブロモフェニル、２，５−ジフル
オロフェニル、２，４，６−トリクロロフェニルおよび
２，５−ジブロモフェニルのようなハロゲン置換単核ア
リール；メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ter −
ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルのよう
なアルキル；クロロメチル、イオドメチル、ブロモメチ
ル、フルオロメチル、クロロエチル、イオドエチル、ブ
ロモエチル、フルオロエチル、トリクロロメチル、ジ−
イオドエチル、トリブロモメチル、トリフルオロメチ
ル、ジクロロエチルのようなハロアルキル等がある。高
分子量ポリ（ジメチル）シロキサンホモポリマーのセグ
メントの特定の例は下記の式によって示される：

【００１０】

【化２】 （上記の式は、重合度１１を有する完全トランス形の線
状ポリシロキサンホモポリマー主鎖のセグメントを示
す。矢印は各結合のＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対の基双極子Ｍを示
し、ＳｉとＯ原子の周りの結合角は、それぞれ、１１０
°と１４３°であるようにする。ＳｉとＯの結合角にお
ける差異のために、線状分子は重合度が１１以上である
分子量において螺旋状即ちコイル型の構造を形成するで
あろう。）

【００１１】本発明で用いるときの“高分子量”なる表
現は、線状ポリシロキサンを疑似固体として挙動せしめ
るのに十分なポリシロキサン分子量として定義される。
さらに詳細には、この高分子量ポリシロキサンホモポリ
マーは、配管工のパテ、模型用粘土またはゴム状固形物
の組織と類似の組織を含む物理的性質を有する。即ち、
この物質は室温で静置した場合にはその形状を保持す
る。しかしながら、その形状は中庸な圧力を加えること
により容易に変化させ得る。例えば、この物質を単に指
で押すことによりその表面に凹部を形成し得る。この特
性は、適当な溶媒での溶解および最終層の乾燥時でのフ
ィルム形成性ポリマーマトリックス中の分散体の調製を
確実にする。ポリシロキサン流体と異なり、このポリシ
ロキサンホモポリマー疑似固体の添加は、乾燥像形成層
内でのポリシロキサン分散を可能にし、像サイクル操作
中に像形成部材からのポリシロキサンの浸透と滲み出し
を防止するであろう。浸透と滲み出しは、像形成部材の
電気的性質が外側層、特に、電荷発生層および電荷輸送
層の像形成表面の材料の相対的割合の変動により変化し
得るので、望ましくない。さらに、液体ポリシロキサン
の浸透と滲み出しは、トナー粒子、キャリヤー粒子およ
びクリーニング用ブレードのような、外側表面の像形成
面と接触する材料の汚染を引き起こす。一般的には、高
分子量ポリシロキサンホモポリマーは約２００，０００
〜約８００，０００の重量平均分子量を有する。このポ
リシロキサンホモポリマー分子量が約２００，０００よ
りも小さい場合、その材料はその疑似固体特性を失い、
流動体となる。約８００，０００よりも大きい分子量を
有する超高分子量ポリシロキサンホモポリマーは合成す
るのが極めて難しい。ポリシロキサンは、液体形である
場合、像形成面から浸透し滲み出して像形成用の下位装
置を汚染し、トナー粒子のクリーニング用ブレードによ
る除去効率に悪影響を及ぼす。さらにまた、滲み出し性
のある液体ポリシロキサンによるトナー粒子の汚染は、
定着操作中にトナー粒子が相互にまた紙のような受入れ
部材に定着するのを妨げ得る。

【００１２】満足し得る結果は、外側層が外側層の総重
量基準で約０．１〜約１０重量％のポリシロキサンホモ
ポリマーを含むときに得られる。好ましくは、高分子量
ポリシロキサンは、外側層の総重量基準で約０．５〜約
７重量％の量で存在する。最適の結果は、外側層の総重
量基準で約１〜約５重量％のポリシロキサンで得られ
る。ポリシロキサンの割合が約１０重量％を越えると、
所望の機械的性質が不当に低下するであろうし、また像
形成部材の像形成性能も悪影響を受け得る。例えば、外
側層が電荷輸送層である場合、その像形成部材の像形成
性能は、高分子量ポリシロキサンホモポリマーの含有量
が約１０重量％を越える場合に、電気サイクル アップ
の増大により低下し始める。また、外側層の凝集力は、
この層中の多量のポリシロキサンの存在により影響を受
ける。この凝集力の変化は、ヤング率極限引っ張り強度
および破壊時の％伸びの低下によって同定し得る。さら
に、高分子量ポリシロキサンを上記より多量に存在させ
ても、さらなる利点は得られない。連続フィルム形成性
ポリマーマトリックス中に分散させた高分子量ポリシロ
キサンホモポリマーの微細球体は、好ましくは、約０．
１〜約６μｍの平均粒度を有する。最適の結果は、球体
の平均粒度が約０．２〜約４μｍであるときに得られ
る。満足し得る結果は、球体の平均粒度が約０．０５〜
約１０μｍであるときに得られる。球体の平均粒度が約
１０μｍ縒りも大きい場合、その大粒子はコピー刷り上
がりに暗スポットを形成し得る。外側層の外表面に隣接
する球体は、外側層から部分的にはみ出し外表面にテキ
スチャー形態（textured topography)を発現せしめる。
一般的には、これらの小球体は乾燥外側層の外表面上の
約０．０１〜約０．１μｍの距離にはみ出ている。テキ
スチャー表面はクリーニング効率、ブレード寿命、およ
び像形成部材の機械的磨耗寿命を向上させる。

【００１３】任意の適当なフィルム形成性ポリマーを外
側層において使用し得る。典型的なフィルム形成性ポリ
マーには、例えば、ポリエステル、ビスフェノールポリ
カーボネートのようなポリカーボネート、ポリアミド、
ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリウレタン、Ｎ，
Ｎ^, −ジフェニル−Ｎ，Ｎ^, −ビス（３−ヒドロキシフ
ェニル）−〔１，１^, −ビフェニル〕−４，４^, −ジア
ミンとジエチレン グリコールビスクロロホルメートと
の縮合から得られたポリエーテルカーボネート等のよう
な本目的において公知の種々のバインダーがある。外側
層において使用し得る他のフィルム形成性ポリマーは、
特定の各層のタイプに関連して後述する。外側層コーテ
ィング用組成物は、少なくとも上記高分子量ポリシロキ
サンとフィルム形成性ポリマーを１種以上の溶媒に溶解
することによって調製する。任意の適当な溶媒または溶
媒混合物を用いてポリシロキサンとフィルム形成性ポリ
マーとを溶解させ得る。これらのポリシロキサン、フィ
ルム形成性ポリマーおよび溶媒は、相互にあるいは外側
像形成層の形成用に塗布した任意の他の成分と相溶性で
あるべきである。溶媒はポリシロキサンとフィルム形成
性ポリマーの両方を溶解する単一共通溶媒あるいは相互
に可溶性である溶媒の混合物であってもよい。後者の溶
媒混合物を含む実施態様においては、溶媒の１つはフィ
ルム形成性ポリマーをより容易に溶解し、溶媒のもう一
つはポリシロキサンをより容易に溶解し得るものであ
る。ポリシロキサン用の典型的な溶媒には、例えば、塩
化メチレン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，
２−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロエチレ
ン、ノーマル ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、
テトラヒドロフラン、トルエン、ｎ−オクチルアセテー
ト、ｎ−ヘキサデカン、２，４−ジクロロトルエン、お
よびこれらの混合物等がある。フィルム形成性ポリマー
用の典型的な溶媒には、例えば、塩化メチレン、１，
１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロエ
タン、１，１，２−トリクロロエチレン、ノーマル ヘ
キサン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、トルエン、お
よびこれらの混合物等がある。

【００１４】外側層コーティングは、任意の適当な方法
によって塗布し得る。静電写真像形成部材(electrostat
ographic imaging member)は当該技術において周知であ
る。典型的な静電写真像形成部材には、例えば、静電写
真像形成システム用の感光体、および電子写真像形成シ
ステム用の電子受容体およびイオノグラフィ部材があ
る。高分子量ポリシロキサン材料は、静電写真像形成部
材の任意の適当な外側層において、例えば、電荷輸送
層、単一光導電性層感光体、接地ストリップ層、電子写
真像形成層、保護オーバーコーティング層等において、
そのいずれかの層が像形成部材の像形成面上の外側層で
ある場合に使用し得る。支持基体は、不透明または実質
的に透明であり得、所定の機械的性質を有する多くの適
当な材料を含み得る。基体はさらに導電性表面も有し得
る。従って、基体は、無機または有機化合物のような非
導電性または導電性材料の層を含み得る。基体の厚さは
ビーム強度および経済性のような多くの要因による、即
ち、可撓性ベルト用の基体層は、例えば、約１２５μｍ
の実質的厚さを有し得、あるいは、最終の静電写真装置
に悪影響を及ぼさない限り、５０μｍよりも薄くない最
小厚さを有し得る。可撓性ベルトの実施態様において
は、基体層の厚さは、小直径ロール、例えば、１９ｍｍ
径ロールの周りでサイクル操作するときの最適可撓性お
よび最小引張りのためには、約６５〜約１５０μｍ好ま
しくは約７５〜約１００μｍの範囲である。支持基体の
導電性表面は、基体の厚さを通って延びた導電性材料を
含み得、あるいは自己支持性材料上の導電性材料の層ま
たはコーティングを含み得る。導電性層は、静電写真像
形成部材において所望する光透過性の度合いおよび可撓
性によって、厚さにおいて実質的に広い範囲に亘って変
化し得る。従って、可撓性像形成装置においては、導電
性層の厚さは、導電性、可撓性および光透過性の最適の
組合せにおいて、約２０〜７５０オングストローム単位
好ましくは約１００〜約２００オングストローム単位で
あり得る。可撓性導電性層は、例えば、真空蒸着法のよ
うな任意の適当なコーティング法によって基体上に形成
させた導電性金属層であり得る。

【００１５】正孔ブロッキング層を感光体の基体の導電
性表面に塗布し得る。電子バリヤーを形成して隣接の光
導電性層と下地の導電性層間の正孔移動を行い得る任意
の適当なブロッキング層を使用し得る。正孔ブロッキン
グ層は、乾燥後は約０．２μｍ未満の厚さを有すべきで
ある、何故ならば、それ以上の厚さは望ましくない高残
留電圧をもたらすからである。任意成分としての接着層
も上記正孔ブロッキング層に塗布し得る。当該技術にお
いて周知の任意の適当な接着層を使用し得る。満足し得
る結果は、約０．０５μｍ（５００オングストローム）
〜約０．３（３，０００オングストローム）の接着層厚
で得られる。その後、接着層に、任意の適当な光生成性
層を塗布し得、次いで、後述するような連続正孔輸送層
でオーバーコーティングし得、あるいはこれらの層は逆
の順序で塗布してもよい。典型的な光生成性層の例に
は、米国特許第３，３５７，９８９号、第３，４４２，
７８１号および第４，４１５，６３９号に記載されてい
るような光導電性粒子がある。当該技術において周知の
他の適当な材料も、必要に応じて、使用し得る。任意の
適当な高分子フィルム形成性バインダー材料を上記光生
成性層のマトリックスとして使用し得る。光生成性化合
物または顔料は、樹脂バインダー組成物中に種々の量で
存在し得るが、一般的には、約５〜約９０容量％の光生
成性顔料を約１０〜約９５容量％の樹脂バインダー中に
分散させ、好ましくは、約２０〜約３０容量％の光生成
性顔料を約７０〜約８０容量％の樹脂バインダー組成物
中に分散させる。

【００１６】光導電性化合物および／または顔料並びに
樹脂バインダー材料とを含有する光生成性層は、一般
に、約０．１〜約５．０μｍの厚さ範囲にあり、好まし
くは、約０．３〜約３μｍの厚さを有する。光生成性層
の厚さはバインダー含有量に相対する。高バインダー含
有量組成物は一般に厚めの層を光生成のために必要とす
る。任意の適当な通常の方法を用いて光生成性層コーテ
ィング用混合物を混合し次いで塗布し得る。活性電荷輸
送層は、電気的に不活性な高分子材料中に分散させてこ
れらの不活性材料を電気的に活性にする添加剤として有
用な活性化用化合物を含み得る。本発明の多層型光導電
体の２つの電気作動層の１つにおいて使用する特に好ま
しい輸送層は、約２５〜約７５重量％の少なくとも１種
の電荷輸送性芳香族アミン化合物と約７５〜約２５重量
％の該芳香族アミンが可溶性である高分子フィルム形成
性樹脂とを含む。電荷輸送層形成用混合物は、好ましく
は、下記の一般式を有する芳香族アミン化合物の１種以
上を含む：

【００１７】

【化３】 （式中、Ｒ₁ およびＲ₂ は置換または非置換のフェニル
基、ナフチル基およびポリフェニル基からなる群から選
ばれ、Ｒ₃ は置換または非置換のアリール基、１〜１８
個の炭素原子を有するアルキル基および３〜１８個の炭
素原子を有する脂環式化合物からなる群から選ばれる。
各置換基はＮＯ₂ 基、ＣＮ基等のような電子吸引基を含
むべきでない。）

【００１８】電荷発生層からの光生成正孔の注入を支持
しかつこれら正孔を電荷輸送層を通して輸送し得、かつ
電荷輸送層用の上記構造式によって示され得る電荷輸送
性芳香族アミンの例には、不活性樹脂バインダー中に分
散させたトリフェニルメタン、ビス（４−ジエチルアミ
ン−２−メチルフェニル）フェニルメタン、４’，４”
−ビス（ジエチルアミノ）−２’，２”−ジメチルトリ
フェニルメタン、Ｎ，Ｎ^, −ビス（アルキルフェニル）
−〔１，１^, −ビフェニル〕−４，４^, −ジアミン（式
中、アルキルは、例えば、メチル、エチル、プロピル、
ｎ−ブチル等である）、Ｎ，Ｎ^, −ジフェニル−Ｎ，Ｎ
^, −ビス（クロロフェニル）−〔１，１ ^, −ビフェニ
ル〕−４，４^, −ジアミン、Ｎ，Ｎ^, −ジフェニル−
Ｎ，Ｎ^, −ビス（３”−メチルフェニル）−〔１，１^,
−ビフェニル〕−４，４^, −ジアミン等がある。塩化メ
チレンまたは他の適当な溶媒に可溶性の任意の適当な不
活性樹脂バインダーを本発明の方法において使用し得
る。塩化メチレンに可溶性の典型的な不活性樹脂バイン
ダーには、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルカーボ
ネート、ポリビニルカルバゾール、ポリエステル、ポリ
アリレート、ポリアクリレート、ポリエーテル、ポリス
ルホン等がある。分子量は、約２０，０００〜約１５
０，０００で変化し得る。任意の適当な通常の方法を用
い電荷輸送層コーティング用混合物を混合し次いで電荷
発生層に塗布し得る。一般に、正孔輸送層の厚さは約１
０〜約５０μｍであるが、この範囲外の厚さも使用し得
る。正孔輸送層は、正孔輸送層上の静電荷を照射の不存
在下では十分な速度で伝導しないで正孔輸送層上での静
電潜像の形成と保持を妨げる程度に絶縁体であるべきで
ある。一般的には、正孔輸送層対電荷発生体層の厚さの
比は、好ましくは、約２：１〜２００：１に維持し、あ
る場合には、４００：１程に大きく維持する。好ましい
電気的に不活性な樹脂材料はポリカーボネート樹脂であ
る。

【００１９】少なくとも２つの電気作動層を有する感光
性部材の例には、米国特許第４，２６５，９９０号、第
４，２３３，３８４号、第４，３０６，００８号、第
４，２９９，８９７号、および第４，４３９，５０７号
に開示されている電荷発生体層とジアミン含有輸送層が
ある。これらの感光体は、例えば、導電性表面と上述の
電荷輸送層間に挟まれた電荷発生体層、または導電性表
面と電荷発生体層間に挟まれた電荷輸送層を含む。多層
型感光体においては、光導電性電荷発生層は正孔の光生
成能力および正孔の注入能力を発揮すべきであり、電荷
輸送層は、光導電性層が正孔を発生させこれらの光生成
させた正孔を注入するスペクトル領域では実質的に非吸
収性であるが、光導電性層からの光生成正孔の注入を支
持しかつ正孔輸送層を通して正孔を輸送し得るべきであ
る。光導電性層即ち電荷発生層が本発明の像形成部材の
外側層である場合、均一に分散させた本発明の高分子量
ポリシロキサンホモポリマーを含有し得る。ベルトの１
端に沿って電荷輸送層に隣接して配置させた通常の導電
性接地ストリップのような他の層を、導電性層、ブロッ
キング層、接着層または電荷発生層と接触させて、感光
体の導電性層のアースまたは電気バイアスへの接続を容
易にし得る。接地ストリップは、米国特許第４，６６
４，９９５号に列記された材料のような材料を含み得
る。典型的な導電性粒子には、カーボンブラック、グラ
ファイト、銅、銀、金、ニッケル、タンタル、クロム、
ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、酸化インジウム錫
等がある。これらの導電性粒子は任意の適当な形状を有
し得る。典型的な形状には、不規則形、粒状、球状、楕
円状、立体状、フレーク、フィラメント等がある。

【００２０】導電性粒子は、過度に不規則性の外表面を
有する導電性接地ストリップ層を回避するために、導電
性接地ストリップ層の厚さよりも小さい粒度を有するの
が好ましい。約１０μｍ未満の平均粒度が乾燥接地スト
リップ層の外表面での導電性粒子の過度の突出を一般に
回避して乾燥接地ストリップ層のマトリックス全体に亘
って導電性粒子の比較的均一な分散を確実にする。接地
ストリップ層で使用する導電性粒子の濃度は、使用する
特定の導電性粒子の導電度のような要因による。接地ス
トリップ層は、約７〜約４２μｍ好ましくは約１４〜約
２７μｍの厚さを有し得る。接地ストリップは、本発明
の像形成部材の外側層であり得るので、本発明の高分子
量ポリシロキサンを含有し得る。しかしながら、すべて
の像形成部材が接地ストリップを使用することはない。
接地ストリップは、存在する場合、電荷発生層、電荷輸
送層、オーバーコーティング層または誘電性層を含有す
るフィルム形成性ポリマーであり得る他の外側層に沿っ
たまた隣接した外側層として存在し得る。接地ストリッ
プが像形成部材上に外側層として存在する場合、接地ス
トリップまたは隣接外側層の何れか、あるいは接地スト
リップと隣接層の両方が均質に分散させた本発明の高分
子量ポリシロキサンホモポリマーを含有し得る。

【００２１】フィルム形成性ポリマーバインダーを含む
オーバーコーティング層を用いる場合、このオーバーコ
ーティング層は、高分子量ポリシロキサンを添加し得る
外側層であり得る。高分子量ポリシロキサンを含まない
オーバーコーティングは、当該技術において周知であ
り、電気絶縁性かまたは僅かに半導電性である。オーバ
ーコーティングは、本発明の像形成部材上で用いる場
合、連続であるべきである。オーバーコーティング層
は、約２〜約８μｍ好ましくは約３〜約６μｍの厚さ範
囲にあり得る。最適の厚さ範囲は約３〜約５μｍであ
る。ある場合においては、抗カール裏打コーティングを
像形成部材の像形成面の反対面に塗布して平坦性および
／または耐磨耗性を向上させ得る。この抗カールコーテ
ィング層は、当該技術において周知であり、電気絶縁性
または僅かに半導電性であるフィルム形成性ポリマーを
含み得る。抗カール層の厚さは、好ましくは、約３〜約
３５μｍである。電子写真像形成部材においては、導電
性層上の可撓性の誘電性層を前記の光導電性層に代えて
使用し得る。任意の適当な通常の可撓性で電気絶縁性の
フィルム形成性ポリマーを電子写真像形成部材の誘電性
層中で使用し得る。これらの誘電性層は、電子写真像形
成部材の像形成面上の外側層である場合、均質に分散さ
せた本発明の高分子量ポリシロキサンホモポリマーを含
有し得る。本発明の高分子量ポリシロキサン添加剤は、
無毒であり、不活性であり、紫外線に耐性であり、外側
層の電気特性を低下または悪影響せず、外側層の耐磨耗
性および摩擦特性を改良する。

【００２２】

【実施例】

【比較例１】対照の光導電性像形成部材を、厚さ３ミル
（７６．２μｍ）を有するチタンコーティングポリエス
テル〔ＩＣＩアメリカズ社から入手し得るメリネックス
(Me-linex) 442〕基体を用い、この基体に、グラビアア
プリケーターを用いて、５０ｇの３−アミノプロピルト
リエトキシシラン、１５ｇの酢酸、６８４．８ｇの２０
０プルーフ変性アルコールおよび２００ｇのヘプタンを
含有する溶液を塗布することによって作成した。次い
で、この層を強制送風炉内で１３５℃で１０分間乾燥さ
せた。得られたブロッキング層は０．０５μｍの乾燥厚
を有していた。次に、接着層を、上記ブロッキング層上
に、グラビアアプリケーターを用いて、７０：３０容量
比のテトラヒドロフラン／シクロヘキサノン混合物中に
０．５重量％（溶液の総重量基準で）のポリエステル接
着剤（Ｅ．Ｉ．デュポン社から入手し得るデュポン４
９，０００）を含有する湿潤コーティングを塗布するこ
とによって調製した。その後、この接着層を強制送風炉
内で１３５℃で５分間乾燥させた。得られた接着層は
０．０５μｍの厚さを有していた。

【００２３】その後、上記の接着界面層を、７．５容量
％の三方晶セレン、２５容量％のＮ，Ｎ^, −ジフェニル
−Ｎ，Ｎ^, −ビス（３−メチルフェニル）−１，１^, −
ビフェニル−４，４^, −ジアミン、および６７．５容量
％のポリビニルカルバゾールを含有する光生成性層でコ
ーティングした。この光生成性層は、８０ｇのポリビニ
ルカルバゾールを１４００ｍｌの１：１容量比テトラヒ
ドロフラン／トルエン混合物に加えることによって調製
した。この溶液に、８０ｇの三方晶セレンと１０，００
０ｇの１／８インチ（３．１７５ｍｍ）径ステンレスス
チール球を加えた。次いで、この混合物をボールミル上
に７２〜９６時間置いた。続いて、５００ｇの得られた
スラリーを、３６ｇのポリビニルカルバゾールと２０ｇ
のＮ，Ｎ^, −ジフェニル−Ｎ，Ｎ^, −ビス（３−メチル
フェニル）−１，１^, −ビフェニル−４，４^, −ジアミ
ンとの７５０ｍｌの１：１容量比テトラヒドロフラン／
トルエン中溶液に加えた。次いで、このスラリーをシェ
ーカー上に１０分間置いた。得られたスラリーを、押出
ダイにより上記の接着界面層に塗布して約０．５ミル
（１２．７μｍ）の湿潤厚を有する層を得た。しかしな
がら、後で塗布する接地ストリップ層との電気接触を容
易にするために、基体、ブロッキング層および接着層に
沿った約３ｍｍ幅のストリップを、光生成性層材料でコ
ーティングしないままで慎重に残した。この光生成性層
を強制送風炉内で１３５℃で５分間乾燥させて乾燥厚
２．３μｍを有する光生成性層を得た。さらに、この部
材を電荷輸送層でコーティングした。電荷輸送層コーテ
ィング溶液は、こはくガラスびんに、重量比１：１で
Ｎ，Ｎ^, −ジフェニル−Ｎ，Ｎ^,−ビス（３−メチルフ
ェニル）−１，１^, −ビフェニル−４，４^, −ジアミン
とバインダー樹脂マクロロン（Makrolon) 5705（ファル
ベンファブリケン バイエル社から入手し得る分子量約
５０，０００〜約１２０，０００を有するポリカーボネ
ート）を加えることによって調製した。得られた混合物
を塩化メチレンに溶解させてその１５重量％溶液を調製
した。次いで、この溶液を３ミル（７６．２μｍ）間隙
バード アプリケーターで上記光生成体層上に塗布して
湿潤電荷輸送層を調製した。このコーティング処理間、
相対湿度を約１４％に維持した。次いで、作成した光導
電性部材を強制送風炉内で１３５℃で５分間熱処理して
２４μｍ乾燥厚の電荷輸送層を得た。得られた外側層は
平滑で清浄で透明であった。

【００２４】

【実施例１】比較例１で述べたような２つの電気作動層
を有する光導電性像形成部材を、同じ手順と材料を用い
て作成したが、比較例１の電荷輸送層の代わりに、本発
明の電荷輸送層を用いた。本発明の電荷輸送層溶液は、
７４．２５ｇのマクロロンと７４．２５ｇのＮ，Ｎ^, −
ジフェニル−Ｎ，Ｎ^, −ビス（３−メチルフェニル）−
１，１^, −ビフェニル−４，４^, −ジアミンを８５０ｇ
の塩化メチレンに溶解させ、次いで、得られた溶液に
１．５ｇの高分子量ポリ（ジメチルシロキサン）を添加
することによって調製した。良好混合用の高速攪拌機を
用いて、上記のポリ（ジメチルシロキサン）を溶解させ
て電荷輸送層溶液を調製した。このポリ（ジメチルシロ
キサン）はダウコーニング社から入手し得る疑似固体で
あった。このポリ（ジメチルシロキサン）は約５００，
０００の分子量、２０ダイン／ｃｍの表面エネルギー、
および約−１２３℃のガラス転移温度を有していた。こ
のポリ（ジメチルシロキサン）連鎖の図式的説明は、本
発明の高分子量ポリシロキサン添加剤の詳細な説明にお
いて前記で示した２つの構造式で示している。次に、本
発明の高分子量ポリシロキサン添加剤を含有する得られ
た電荷輸送層溶液を、電荷発生層上に、３ミル（７６．
２μｍ）間隙バードアプリケーターを用いて塗布した。
湿潤コーティングを有する得られた像形成装置を強制送
風炉内で１３５℃で５分間乾燥させて乾燥電荷輸送層の
総重量基準で１重量％のポリ（ジメチルシロキサン）を
含有する２４μｍ乾燥厚の電荷輸送層を得た。溶解させ
たポリ（ジメチルシロキサン）はマトリックスポリマー
から沈澱（または相分離）して約１〜２μｍ径の小球体
を形成するので、得られた電荷輸送層は清浄で透明であ
り、組織状表面形態を有していた。乾燥電荷輸送層の外
表面上の約０．０５μｍの平均高さのポリ（ジメチルシ
ロキサン）の小球体の部分的突出は、外表面に、拡大し
て見たときサンドペーパーに似た組織を与えていた。

【００２５】

【比較例２】比較例１で述べたような２つの電気作動層
を有する対照の光導電性像形成部材を、同じ手順と材料
を用いて作成したが、比較例１の電荷輸送層の代わり
に、本発明の電荷輸送層を用いた。本発明の電荷輸送層
溶液は、７４．２５ｇのマクロロンと７４．２５ｇの
Ｎ，Ｎ^, −ジフェニル−Ｎ，Ｎ^, −ビス（３−メチルフ
ェニル）−１，１^, −ビフェニル−４，４^, −ジアミン
を８５０ｇの塩化メチレンに溶解させ、次いで、得られ
た溶液に１．５ｇの低分子量のポリ（ジメチルシロキサ
ン）−ポリカーボネートブロックコポリマーを添加する
ことによって調製した。良好混合用の高速攪拌機を用い
て、上記のポリ（ジメチルシロキサン）−ポリカーボネ
ートブロックコポリマーを溶解させて電荷輸送層溶液を
調製した。このポリ（ジメチルシロキサン）−ポリカー
ボネートブロックコポリマーは、白色粉末（ペトラッチ
社から入手し得るPS 099）であった。このポリ（ジメチ
ルシロキサン）−ポリカーボネートブロックコポリマー
は、約５，０００の分子量と約３１ダイン／ｃｍの表面
エネルギーを有していた。次に、上記低分子量ポリジメ
チルシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマー
を含有する得られた電荷輸送層溶液を、電荷発生層上
に、３ミル（７６．２μｍ）間隙バード アプリケータ
ーを用いて塗布した。湿潤コーティングを有する得られ
た像形成装置を強制送風炉内で１３５℃で５分間乾燥さ
せて乾燥電荷輸送層の総重量基準で１重量％のポリ（ジ
メチルシロキサン）−ポリカーボネートブロックコポリ
マーを含有する２４μｍ乾燥厚の電荷輸送層を得た。溶
解させたポリ（ジメチルシロキサン）−ポリカーボネー
トブロックコポリマーはマトリックスポリマーと混合
し、マトリックスポリマーから沈澱（または相分離）し
なかった。得られた層は平滑であり、清浄であり、透明
であり、何らテキスチャー状外観を含まなかった。

【００２６】

【実施例２】２つの電気作動層を有する光導電性像形成
部材を、実施例１で述べたのと同じ手順と材料を用いて
作成したが、２４μｍ乾燥厚の電荷輸送層中の高分子量
ポリ（ジメチルシロキサン）含有量は電荷輸送層の総重
量基準で３重量％であった。溶解させた高分子量ポリ
（ジメチルシロキサン）はマトリックスポリマーから沈
澱（または相分離）して約１〜２μｍ径の小球体を形成
するので、得られた電荷輸送層は清浄で透明であり、テ
キスチャー表面形態を有していた。

【００２７】

【比較例３】２つの電気作動層を有する対照の光導電性
像形成部材を、比較例２で述べたのと同じ手順と材料を
用いて作成したが、２４μｍ乾燥厚の電荷輸送層中の低
分子量ポリ（ジメチルシロキサン）−ポリカーボネート
ブロックコポリマー含有量は電荷輸送層の総重量基準で
３重量％であった。溶解させたポリ（ジメチルシロキサ
ン）−ポリカーボネートブロックコポリマーはマトリッ
クスポリマーと混合し、沈澱（または相分離）しなかっ
た。得られた層は平滑であり、清浄であり、透明であ
り、何らテキスチャー状外観を含まなかった。

【００２８】

【実施例３】２つの電気作動層を有する光導電性像形成
部材を、実施例１で述べたのと同じ手順と材料を用いて
作成したが、２４μｍ乾燥厚の電荷輸送層中の高分子量
ポリ（ジメチルシロキサン）含有量は電荷輸送層の総重
量基準で５重量％であった。溶解させた高分子量ポリ
（ジメチルシロキサン）はマトリックスポリマーから沈
澱（または相分離）して約１μｍ径の小球体を形成する
ので、得られた電荷輸送層は清浄で透明であり、テキス
チャー表面形態を有していた。

【００２９】

【比較例４】２つの電気作動層を有する対照の光導電性
像形成部材を、比較例２で述べたのと同じ手順と材料を
用いて作成したが、２４μｍ乾燥厚の電荷輸送層中の低
分子量ポリ（ジメチルシロキサン）−ポリカーボネート
ブロックコポリマー含有量は電荷輸送層の総重量基準で
５重量％であった。若干の溶解させたポリ（ジメチルシ
ロキサン）−ポリカーボネートブロックコポリマーの電
荷輸送層連続マトリックス材料からの僅かな相分離があ
った。得られた乾燥層は、平滑な外表面を有していたけ
れども、僅かに曇った外観を有していた。

【００３０】

【実施例４】比較例１〜４および実施例１〜３の光導電
性像形成部材を、低圧ナトリウムランプ（アメリカン
エレクトリック社から入手し得る）からの可干渉性光を
用いて、合板干渉周縁部発現について試験した。目視観
察による結果を、下記の表１に示す：

【００３１】

【表１】 表 １ 実施例 合板周縁部形成 比較例１（対照） 有り 実施例１ 僅か 比較例２（対照） 有り 実施例２ 無し 比較例３（対照） 有り 実施例３ 無し 比較例４（対照） 僅か

【００３２】

【実施例５】比較例１〜４および実施例１〜３の光導電
性像形成部材を、１．３ｃｍ（１／２インチ）幅のスコ
ッチ マジック テープ＃８１０（３Ｍ社から入手し得
る）を各像形成部材サンプルの電荷輸送層上に貼り付け
て剥がれ試験測定を行うことによって表面接触接着性に
ついて評価した。得られたテープ／電荷輸送層表面接触
接着強度試験の結果を、下記の表２に示す：

【００３３】

【表２】 表 ２ 実施例 １８０°剥がれ強度（ｇ／ｃｍ） 比較例１（対照） ４５５ 実施例１ ３０ 比較例２（対照） ２００ 実施例２ ２３ 比較例３（対照） １１５ 実施例３ ２１ 比較例４（対照） １００ 上記のデータは、本発明の電荷輸送層の表面エネルギー
が、テープ剥がれ強度の低下によって反映されているよ
うに、大いに低減されてサイクルゼログラフィー処理中
にブレード／像形成部材表面クリーニング効率を改善し
ていることを示唆している。

【００３４】

【実施例６】摩擦係数試験を、上方に面した電荷輸送層
（添加剤を含まず）を有する比較例１の光導電性像形成
部材を台座表面に固定させることによって行った。ポリ
ウレタンエラストマー製クリーニングブレードを２００
ｇ重量の水平滑走性プレートの底部の平坦表面に固定し
た。この滑走プレートを、上記台座上を水平の試験像形
成部材サンプル表面に対して直線に引きずり、クリーニ
ングブレードの表面は下方に面していた。滑走プレート
は、１端を該プレートに連結し他端を低摩擦プーリーの
周りに通しインストロンテンシルテスター(Instron Ten
sile Test-er)の口部に固定した薄いケーブルにより移
動させた。電荷輸送層のクリーニングブレードに対して
の摩擦係数試験を、上述のようにして、再度繰り返した
が、比較例１の光導電性像形成部材を実施例１〜３及び
比較例２〜４の各像形成部材サンプルに置き換え、各試
験において新しいブレードを用いた。比較例１、実施例
１、実施例２および実施例３の各光導電性像形成部材
を、２．５４ｃｍ×３０．５ｃｍ（１インチ×１２イン
チ）の大きさに切断し耐磨耗性について試験した。試験
は、ガラスチューブを各光導電性像形成部材上を電荷輸
送層を横切って滑らせる動力機械サイクル装置により行
った。摩擦係数および耐磨耗性試験で得られた結果を下
記の表３に示すが、この表は、１重量％、３重量％およ
び５重量％の高分子量ポリ（ジメチルシロキサン）を含
有させた本発明の電荷輸送層が、比較例１の対照像形成
部材に比し、ポリウレタンクリーニングブレードに対し
て擦ったときの表面接触摩擦係数の大いなる低減並びに
ガラス滑走プレートに対する耐磨耗性の改善を得ている
ことを示唆している。１重量％および３重量％の低含有
量では、摩擦係数の低減と耐磨耗性の改善の程度が電荷
輸送層に加えた高分子量ポリ（ジメチルシロキサン）の
量に実質的に依存していることが判った。しかしなが
ら、この依存性は、３重量％および５重量％量の高分子
量ポリ（ジメチルシロキサン）含有量においてはほんの
僅かしか認められなかった。

【００３５】

【表３】 表 ３ 実施例 ブレードに対 ３３０，０００磨耗サイ する摩擦係数 クル後の厚さ変化（μｍ） 比較例１（対照） ３．９ −１１．５ 実施例１ １．５ −７．０ 比較例２（対照） ３．７ ── 実施例２ ０．７ −５．３ 比較例３（対照） ３．４ ── 実施例３ ０．５ −４．４ 比較例４（対照） ２．５ ──

【００３６】

【実施例７】比較例１、実施例１、実施例２および実施
例３に従って作成した光導電性像形成部材の各サンプル
の電気的性質を、直径２４．２６ｃｍ（９．５５イン
チ）を有する円筒状アルミニウムドラムを含むゼログラ
フィー試験スキャナーで評価した。各試験サンプルをド
ラム上にテープ付けした。回転させたとき、各サンプル
を担持するドラムは７６．３ｃｍ（３０インチ）／秒の
一定表面速度を生じた。直流ピンコロトロン、露光光、
消去光、および５個の電圧計プローブを取り付けた各感
光体サンプルの周囲に取り付けた。サンプルの帯電時間
は３３ミリ秒であった。露光光および消去光は共に広帯
域白色光（４００〜７００ｎｍ）出力であり、各々、３
００ワット出力キセノンアーク灯により供給した。各プ
ローブと光の相対位置を下記の表４に示す：

【００３７】

【表４】 表 ４ エレメント 角度（度） 位 置 感光体からの距離 帯電 ０ ０ １８ｍｍ （ピン） １２ｍｍ （シールド） プローブ１ ２２．５０ ４７．９ｍｍ ３．１７ｍｍ 露光 ５６．２５ １１８．８ Ｎ．Ａ． プローブ２ ７８．７５ １６６．８ ３．１７ｍｍ プローブ３ １６８．７５ ３５６．０ ３．１７ｍｍ プローブ４ ２３６．２５ ４８９．０ ３．１７ｍｍ 消去 ２５８．７５ ５４８．０ １２５ｍｍ プローブ５ ３０３．７５ ６４２．９ ３．１７ｍｍ

【００３８】各試験サンプルを先ず暗中で少なくとも６
０分間停止させて４０％相対湿度および２１℃の試験条
件との平衡を確立した。次いで、各サンプルを暗中で約
９００ボルトの現像電位に負帯電させた。各サンプルの
電荷アクセプタンスおよび４００エルグ／ｃｍ² への前
面消去露光による放電後の残留電位を記録した。試験手
順を繰り返して各サンプルの光誘起放電特性（ＰＩＤ
Ｃ）を２０エルグ／ｃｍ ² までの異なる光エネルギーで
測定した。比較例１、実施例１、実施例２および実施例
３の各試験サンプルについて得た５０，０００サイクル
電気試験の結果を、下記の表５に示す：

【００３９】

【表５】 表 ５ 実施例 暗減衰速度 残留電位 ５０Ｋサイクルでの （Ｖ／秒） （Ｖ） サイクル−ダウン（Ｖ） 比較例１（対照） １５０ ９ ５５ 実施例１ １５１ ８ ５５ 実施例２ １５０ １０ ５７ 実施例３ １５１ ８ ５８

【００４０】上記の５０，０００サイクル電気データ
は、実施例１、２および３の各試験像形成部材サンプル
の電荷輸送層中での１〜５重量％の範囲の高分子量ポリ
（ジメチルシロキサン）の添加により、比較例１の対照
像形成部材サンプルに比し、本質的に同等の暗減衰速
度、残留電圧、ＰＩＤＣおよび５０，０００サイクルで
のサイクル−ダウンが得られたことを示唆している。実
施例１、２及び３の各試験サンプルにおいて得た機械的
および電気的試験の結果は、特に重要である；何故なら
ば、これらの結果は、本発明の高分子量ポリ（ジメチル
シロキサン）を電荷輸送層中に含有させることにより、
得られる電荷輸送層の所望の機械的および摩擦的性質を
改善するだけでなく、各光導電性像形成部材の決定的な
電気的完全性も維持することを示唆しているからであ
る。また、実施例１、２および３でのべたような本発明
における電荷輸送層中への高分子量ポリ（ジメチルシロ
キサン）の約１〜約５重量％の含有量での添加は、電荷
輸送層の光透明性も変化させないことも強調すべきこと
である。この層の光透過性の維持はゼログラフィー像形
成処理中に適切な光電機能を得るのに不可欠である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持基体と像形成面側上の外側層とを含
   み、この外側層が連続フィルム形成性ポリマーマトリッ
   クス中に均質に分散させた高分子量ポリシロキサンホモ
   ポリマーの微細球体を含むことを特徴とする静電写真像
   形成部材。