JPS62239443A

JPS62239443A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPS62239443A
Application number: JP61083010A
Authority: JP
Inventors: Nobuhiko Kano; 宣彦加納; Akira Aoyama; 明青山; Shinobu Kunida; 国田　忍
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1986-04-10
Filing date: 1986-04-10
Publication date: 1987-10-20
Anticipated expiration: 2010-07-19
Also published as: JPH0766567B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本’ｉｔｓ明は光記録媒体の構造に関する。

〔従来σ）技術〕

光学的に記録、再生あるいは消去可能な光記録媒体は、
従来より研究開発が盛んにおこなわれて芦た。特に近年
磁気光学効果を利用した光磁気記録媒体は、消去書き換
え可能な光記録媒体として実用化寸前の状態である。と
ころ６Ｓ、光１Ｂ気記鎌媒体の記録１１１は希さ類遷移
金属膜であるため、耐候性に劣る。そのため記録ｆ＠シ
透明誘電体膜でサンドイッチレ、さらに基板どうしな貼
り合せにする貼り合せ構造が一般に用いられている。

筆３図に従来の貼り合せ光磁気記録媒体の訪面図會示す
。１けポリカーボネート基板１．２１１１　ｔで１１４
寸きである（溝ピッチ１．６μｍ、溝巾０８μｍ。

溝深さ７ｏｏＸ）、２は窒化シリコン膜１０００ス厚。

５は光磁気記録Ｍ　（Ｔｂ　Ｆｇ　（３ｏ　、　Ｎｄ　
ＤｙＦｅ部）　４５０ス厚、４け窒化シリコン：１Ｉ１
１０ｏｏｆｆｌ厚であり、以上１゜２，５．４が情報の
記碌面ｈ；設けられ之光透過性基板７である。そして６
はポリカーボネート基板であるｈ″−溝なしで、６が他
方の光透過性基板となる。６と７を貼り合せる層が５で
、ＵＶ硬化樹脂やばある。

〔発明ｈ；解決しようとする問題点〕

ところｈ’−１上記のように作製した貼り合せ情報記録
媒体は接／ｉ１部に気泡が混入する欠点ｈＺあっ゛た。

気泡の混入は真空中に砕石基板貼合せに於ても発生して
いた。二枚の基板に挾まれ之接着剤中に混入した気泡は
、記録膜層よりの情報読入出し、書、ｈ込み時、エラー
となってしまいピットエラーレートを低下させる原因と
なっていた。本発明の目的は、ピットエラーレート低下
の原因である接着剤中の混入気泡なケくする情報記録媒
体（ディスク構成）を提供する恵である。

〔問題点を解決するための手段〕

（１）　　本発明の記録媒体は情報の記録層ｈ；設けら
れた光透過性基板の記録層側と、記録層が設けられてい
ｒ（い他方の光透過性基板とを貼り合せた構成であり、
前記記録層／Ｉ−設けられていないイｌｈ力の光透過性
基板の貼り合せ面に、少なくとも一層の誘電体群が成膜
されている事を特徴とする。

（２）前記誘成体嘩の成分は、ＡＩ、Ｏ，、Ｂｊ２０８
．　Ｃａ　Ｏ。

ａｄｏ、　ｃｄＳ、　（’！ｅｏ□、　ｃｔ１２ｏ５．
ニー０８．　Ｘａ、Ｏ５，Ｍ（７Ｆ、　ＭｇＯ。

Ｎ（１２０，、Ｓ／＞２０５．　Ｓｉｎ、、　５ｉ（Ｔ
、　ＳｎＯ２，’Ｎｏ２．　ＺｎＯ，Ｚ？−０，。

ｋＳ、ＡｔＮ、　Ｓｊ、Ｎ、、　ＢｉＮ、ＴｉＮ、　Ｂ
Ｎ、　ＨＪ″Ｎ、ＺｙＮ　のうち少なくとも１成分以上
含む事を特徴とする。

（３）　　前記誘電体喚の膜厚が３０Ａ以上１０μｍ未
満である事を特徴とする。誘成体噂の厚さは、３０Ａ以
下では島状となり基板表面を均一に覆う事ｈＳできず、
１０μｍ以上では成１１儂に多大な時間を必要とするの
で現実的でない。適性なｉｌｌ厚は−３０′Ａ以七で１
０μｍ以下である。

〔実施例１〕第１図に本発明で要件し之ディスクの構造を示す。１け
ポリカーボネート基板１．２１厚で片面に？！＃、ｂ′
−けいている（溝ピヴチ１．６　ｕｒｎ　、　７辱巾０
．８　ｐｔｎ、　。

溝深さ６５０Ａ）６２は窒化シリコン膜１０００λ厚。

３は光ｔ・り気記録層（ＴｂＦｅＣｎ　）　４５０Ａ厚
、４け窒化シ１１コツ膜１０ｏｏス厚であり１以上１．
２．３．４が情報の記録層ｈ；設けられｔ光透過性基板
７である。６は溝のない平滑なポリカーボネート基板１
．２騙厚で、８け窒化シリコン１０ｏｏＫ厚である。６
と８より構成される光透過性基板９Ｖｉ５のＵＶ硬化接
着剤を介して、７の光透過性基板と貼り合せられている
。

第２図は本発明の構成ディスクの貼合せ装置の野念図で
ある。１０け真空チャンバーであり、１１け真空ポンプ
、１２けモータ、１３け接着剤塗布用ティスペンサーノ
ズル、１５けディスベア　？　−ユニット、１４けディ
スペンサー水平方向ｇ　１ｍユニット、１６け光透過性
平滑基板９を支持１−てぃろフレーム、１７け基板９の
支持を開設置１２、光透過性基板７（記録層ｈ；片面に
設けられている）上に基板９を流し込むスイッチである
。

第２図に示す貼合せ憐１舜を用層て、真空中に砕工、基
板７上にＵＶ硬化接着剤を塗布し、その後ＵＶ露光を施
こし軍１図に示すディスク構１告とした。結果は基１反
貼合せ接着剤層中への気泡混入けなく良好なピントエラ
ーレートｈｚ　ｒｑられ之。特に気泡混入に起因するバ
ーストエう−を皆無くでき７？：　。

〔実施例り筆４図Ｋ、実施例１同様第２図に示す貼合せ簿１＃を用
いてを作しｔディスク構造な示す。１′はポリメチルメ
タクリレート基板１．２　ｍ　ＪＴｔで、片面にｒＰｊ
　ｈ”寸いている。（溝ピッチ２．０μｍ　、　溝巾０
．８μｍ。

溝深さ７００λ）。２け窒化シリコンｉ［１（’ｔｏｏ
λ厚、３は光磁気記録ｊ’ｆ４　（ＮｄＤｙ　Ｆｅ　Ｃ
ｏ）　４７０人厚、４け窒化シリコン嘆１０００に厚で
あり、以上１′、り、３゜４ｈｔ情報の記優層ｈ′−設
けられた光透過性基板７である６６は溝のない平滑なポ
リメチルメタクリレートに板１．２稍厚、８αけ窒化シ
リコンｓｏｏ　Ｘ厚、８ｂけ窒化アルミニウムＳＯＯ１
原である。６と８α、８ｂより構成されろ光透過性基板
９は、５のＵＶｆ餠化接着剤を介して、７の光透過性基
板と貼り合せられている。上記構成のディスクは基板貼
り合せ妾着剤、ｔΔ中への気泡混入がなく、良好なビア
トニー７−１／　−トｈｓ得られた。、第１図に示［７
た溝ｉｉ２１ａｌ様、気泡混入に起用するバーストエラ
ーに皆無でありＬ〔実施例３〕笛５図に、実施列１同様車２図に示す貼合せ装ナベナ用
いて】！ｉ作しｔディスク構造を示す、、１はポリカー
ボネート基板’Ｌ２ｙｒｍｌ暖で１片面に溝がけいてい
る。（溝ピッチ１．６μｍ、溝巾０．８μｍ、溝深さ６
５０χ）。２′は酸化シリコン（ｓｊｏ）Ｉｌｌ　１０
００ス厚、３は光１＋１？気記録層（ｙｄｖｙＦｅｃｏ
）　　５ｏｏｘ厚であり、以上１．２′、３ｂｔ情報の
記録層が設けられ次光透過性５１板７である。６は溝の
ない平滑なポリカーボネート基板１．２職翼ワ、８′け
ＳｉＯ膜１０００λ厚であう。６と８′より構成される
光透過性基板９は、５のＵＶ硬化接着剤を介して、７の
光透過性基板と貼り合せられている。上記構成のディス
クは、基板貼り合せ接層剤層中への気泡混入め；なく、
良好なビットエラーレートが得られた。筆１図に示した
構成同様、気泡混入に起因するバーストエラー？′ｉ皆
無でもった。

〔実施例４〕筆６図に、μ流側１同様堕２図に示す貼合せ袈Ｉｆ−＆
用いて・反作し之ディスク構造を示す。１”はポリカー
ボネート基板縞板１．２　第１図厚、５αけ前記平滑基
板上に２Ｐ法により形成され次紫外線硬化樹脂層の凹凸
であり３０μｍ厚である（溝ピッチ１，６處、溝巾０．
８μｍ、溝深さ７００　ｇ　）。３は光磁気記録層（Ｈ
ｄ　Ｄ？／　Ｆｅ　ａｎ　）　７００　Ｋ厚であり、以
上１／／　、　５　（Ｌ　＊３が情報の記録層が設けら
れ次光透過性基板７である。６は溝のない平滑なポリカ
ーボネート基板１、２　Ｉｌｌ厚、８は窒化シリコン１
０００Ａ厚である。６と８より構成される光透過性基板
９は、５ｂのＵＶ硬化接着剤シ介して、７の光透過性基
板と貼り合せられている。上記構成のディスクは、基板
貼り合せ接着剤層中への気泡混入ｈ；なく、良好なピッ
トエラーレートｈ＝得られｔ、第１図に示し、た構成同
様、気泡混入に起因するバーストエラーは皆無で帆った
。

〔実施例５〕第７図に、実施例１同様筑２図に示す貼合せ装置を用い
て製作したディスク構、告を示す。１けポリカーボネー
ト基板１．２謁厚で片面に溝＾−寸いている。（溝ピッ
チ１．６μｍ、ｍ巾０．８μｍ、溝深さ６５０　’；＋
　）。２け窒化シリコン嘆１０００λ厚、３は光磁気記
録層（Ｔｂ　Ｆｇ　ＣＯ）　４５０人厚、４け窒化シリ
コン噂１０００入厚であり１以上１，２，３．４が情報
の記録層ｈＳ設けられた光透過性基板７である。５のＵ
Ｖ硬化接着剤を介して、２枚の光透過性基板シ貼り合せ
た構造となっている。上記構成のディスクは、基板貼り
合せ接層剤層中への気泡混入ｈ′−なく、良好なビット
エラーレートが得られた。第１：Ａに示１．た構成同様
、気泡混入に起因するバーストエラーは皆無であった。

尚、光透過性基板として、ボ１１カーボネート、Ｐ　Ｍ
　Ｍ　Ａ、エボ干シ、その仙熱町ノβ性樹脂基板、熱硬
化性樹＠基板を使用する事ができろ、、誘′ａ体；！つ
としてけ、Ｓフ’、Ｎ、、　ｋｌＮ、ＳｉＯ等、特許請
求の範囲第２項記載の材料？使用する事ができる。誘電
体嘆けｆｆｉ　％であっても多層でも良く、各種材料の
複合体であっても良い。情報記鋒膿としてはＴｂ　Ｆｅ
　（’！（＋　。

Ｎｄ　Ｄｏｔ　Ｐｇ　（１１等の光磁気媒体、その他相
変態型媒体な使用する事ｈ１できる、使用する慢着剤け
ＵＶ硬化接軒剤ｌで限定する必要はなく、嫌気性接着剤
、２液硬化性接着剤でも良い。

〔発明の効果〕

以上実施例で述べた曲り、貼り合せディスクの構ＩＪｖ
、で、記録層ｈＳ、設けられていない光透過性基板に少
なくと４一層の誘社体膜をＩｉＸ嘩する事により、真空
中での貼合せ時の接着剤層への気泡混入を防止する効果
ｈ′−ある。真空中での貼合せて接着剤層に気泡＾；入
る原因としては、光透過性基板よりのガス放出ｈ″−考
えられる。誘ル体１曜な広５畏而に施こす慣により先に
述べ之ガス放出が抑えられ接贋剤層へ気泡力を混入しな
くなる効果力を生ずると考えられる。その他、誘＋ｌｊ
体嘩ヤ帽噂する事により、唆青削と光透過性７．１：板
／ＩＳ直接、接触する事がｒＣ〈ｒ（す、欅寿剤中のモ
ノマー、第１１ゴマ−による基板表層の侵しがなくなる
効果があ奈。妾青剤によう基板の侵しは、光の敗乱現瘉
を伴なう為、ディスクの光学特性に大片な悪影響を及ぼ
す性質ｏ’＋ものである。、Ｉ：記の効果ｈ；本発明で
得られ、ディスクのバーストピント二弓−レートは大巾
だ改良された。誘雷体膜の厚さは３０′Ａ以下では島状
となり塙板表面を均一に覆５１！がで踵ず、１０μｍ以
上ではＬｉ口μ多犬な時間を必要とするので現実的でな
い。適正な膜厚は３０λ以上で１０μｍ以下である　、

【図面の簡単な説明】

第１図・・・・・・本発明ｊ（よるディスク構造図第２
図・・・・・・ディスク貼合せ集電の概念図竿３図・・
・・・・従来のディスク構造図＠４図・・・・・・本発
明によるディスク構造す第５図・・・・・・本光明によ
るディスクＮ＃債図＠　６１’４・・・・・・本発明に
よるディスク構造図第７図・・・・・・本発明によるデ
ィスク構造図以　　上Ｓ　・璧４ろシソコ濠第ｊ　図第　６　図第■図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）情報の記録層が設けられた光透過性基板の記録面
側と、記録層が設けられていない他方の光透過性基板と
を貼り合せた光記録媒体において、前記記録層が設けら
れていない他方の光透過性基板の貼り合せ面に少なくと
も一層の誘電体膜が成膜されていることを特徴とする光
記録媒体。
（２）前記誘電体膜の成分が、Ａｌ＿２Ｏ＿３、Ｂｉ＿
２Ｏ＿３、ＣａＯ、ＣｄＯ、ＣｄＳ、ＣｅＯ＿２、Ｃｄ
＿２Ｏ＿３、Ｉｎ＿２Ｏ＿３、Ｌａ＿２Ｏ＿３、ＭｇＦ
、ＭｇＯ、Ｎｄ＿２Ｏ＿３、Ｓｂ＿２Ｏ＿３、ＳｉＯ、
ＳｉＯ＿２、ＳｎＯ＿２、ＴｉＯ＿２、ＺｎＯ、ＺｒＯ
＿２、ＺｎＳ、ＡｌＮ、Ｓｉ＿３Ｎ＿４、ＳｉＮ、Ｔｉ
Ｎ、ＢＮ、ＨｆＮ、ＺｒＮのうち少なくとも１成分以上
含むことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光記
録媒体。
（３）前記誘電体膜の膜厚が３０Å以上１０μｍ未満で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光記
録媒体。