JPH01184741A - 光ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 光ディスクの製造方法に関し、 耐久性の優れた光ディスクを実用化することを目的とし
、 案内溝を備え、ディスク状をした透明樹脂基板上に第１
の保護膜、記録膜、第２の保護膜と順次に層形成してな
る光ディスクにおいて、前記透明樹脂基板上に有機金属
化合物をプラズマ重合させてポリマからなる薄膜を形成
した後に、プラズマ酸化を行って該薄膜の表面を非晶質
の酸化物薄膜に変え、該酸化物薄膜を備えた基板上に第
１の保護膜、記録膜、第２の保護膜と順次に層形成して
光ディスクを構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は耐久性を向上した光ディスクの製造方法に関す
る。

光ディスクはレーザ光を用いて高密度の情報記録を行う
メモリであり、狭義の光ディスクと光磁気ディスクとに
分けることができる。

こ＼で、狭義の光ディスクは記録媒体として低融点の金
属或いは合金を用い、情報の記録を穴の有無により行う
読み出し専用のメモリ　（Ｗｒｉｔｅ　０ｎｃｅ　Ｍｅ
ｎ＋ｏｒｙ）が主流である。

一方、光磁気ディスクは記録膜を垂直磁化している磁性
膜で形成し、外部より磁化方向と反対方向に垂直磁場を
加えなからレーザ光を照射すると、照射された磁性膜の
温度上昇により保磁力が減少して磁化反転が起こるのを
利用し、情報の記録と消去を行う書き換え可能なメモリ
（Ｅｒａｓａｂｌｅ　Ｍｅｍ。

ｒｙ）″である。

光ディスクにはこのような種類があるが、何れもガラス
または合成樹脂よりなる透明基板上に第１の保護膜、記
録膜、第２の保護膜と層形成して単位の光デイスク基板
が形成されている。

そして、実用的には単位の光デイスク基板の形で使うよ
りも、光ディスクの種類により、二枚を接着剤を用いて
貼り合わせた貼り合わせ形やセパレータを介して対向さ
せたサンドインチ形が用いられている。

さて、光ディスクの基板には先に記したようにガラス基
板または合成樹脂基板（以下略して樹脂基板）が使用さ
れており、前者は光の透過率がよく、反りを生ぜず、ま
た耐湿性と耐薬品性が優れているため、第１の保護膜の
形成を省略することができるなどの利点があるもの＼、 ■　基板上に案内溝（プリグループ）を形成するのに多
くの工数を必要とする。

■　機械的な衝撃に脆く、割れ易い。

■　樹脂基板に較べて高価である。

などの理由から特別な用途を除き、ポリカーボネート（
略称ＰＣ）やポリメチルメタクリレート（略称ＰＭＭＡ
）などの樹脂基板が使用されている。

本発明は、か＼る樹脂基板を使用する光ディスクについ
て、耐久性を向上した製法に関するものである。

〔従来の技術〕

先に記したように光ディスクは貼り合わせ形やサンドイ
ンチ形の構造が使用されているが、こ＼では貼り合わせ
形をとる光磁気ディスクを例として従来の技術を説明す
る。

光磁気ディスクはＰＭＭＡやＰＣからなる樹脂基板上に
スパッタリング法などを用いて二酸化硅素（Ｓｉ０□）
、酸化硅素（ＳｉＯ）など屈折率の大きな材料を１１０
０ｎ程度に形成して第１の保護膜とし、この上にテルビ
ウム・鉄・コバルト（Ｔｂ　Ｆｅ　Ｃｏ）、ガドリニウ
ム・テルビウム・鉄（Ｇｄ　Ｔｂ　Ｆｅ）などの垂直磁
化膜を１１００ｎ程度の厚さに形成して記録膜とし、こ
の上に第２の保護膜として、第１の保護膜形成材料と類
似した材料を１１００ｎ程度の厚さに層形成して単位の
光磁気ディスク基板が作られている。

そして、貼り合わせ形は、二枚の光磁気ディスク基板を
樹脂基板を外側とし、エポキシ樹脂などの接着剤を用い
て貼り合わせて作られている。

か＼る、光磁気ディスクについて、７０℃、相対湿度９
０％の高温高湿の環境に５００時間以上放置する試験を
行うと、樹脂基板と第１の保護膜との間でスポット状や
融状の膨れが発生する。

このことは、樹脂基板と第１の保護膜との間の密着性が
良くないことを示しており、耐久性に問題があることが
判る。

〔発明が解決しようとする問題点〕

以上記したように光磁気ディスクに対して高温高湿の環
境中に置く耐久試験を行うと、樹脂基板と第１の保護膜
との間でスポット状や融状の膨れを生じ、耐久性に欠け
ることが問題である。

〔問題点を解決するための手段〕

上記の問題は樹脂基板上に無機物的な官能基を有する有
機金属化合物をプラズマ重合させてポリマからなる薄膜
を形成した後に、プラズマ酸化を行って該薄膜の表面を
非晶質の酸化物薄膜に変え、該酸化物薄膜を備えた基板
上に第１の保護膜、記録膜、第２の保護膜と順次に層形
成する光ディスクの製造方法をとることにより解決する
ことができる。

〔作用〕

樹脂基板とこの上にスパッタリング法などで形成した保
護膜や記録膜との密着性が悪い理由は両者の結合が物理
的であって、化学結合を伴っていないからである。

その例証として、プラスチック板の上にスパッタリング
法や真空蒸着法などを用いて無機物の膜や金属膜を形成
した後、粘着テープを膜面に密着させて剥離すると、膜
全体が粘着テープに付着して基板より剥離してしまう。

すなわち、有機材料からなる樹脂基板と無機材料からな
る第１の保護膜とは馴染みが悪いのである。

この解決法の一つとして、シランカップリング剤やチタ
ネートカップリング剤を樹脂基板の表面に塗布する方法
がある。

然し、この方法は樹脂基板の表面がカップリング剤によ
って侵されると云う問題があり、品質および信頼性の点
で好ましくない。

そこで、本発明は有機硅素化合物のように分子内に無機
物的な官能基（例えば−５ｉＯＨ）をもつ有機金属化合
物をガス状して放射線を照射するか、或いはプラズマ環
境に曝し、二重結合を切って重合を起こさせ、樹脂基板
の上にポリマ膜を作る。

次に、この表面を酸化して無機物（例えば非晶質の５ｉ
ｎ）とし、この上に従来のように第１の保護膜、記録膜
、第２の保護膜と層形成を行うものである。

このような方法を用いると、樹脂基板の表面はラジカル
化してポリマ膜と接合しているので、密着性が良く、ま
たポリマ膜の表面は酸化して無機物となっているので第
１の保護膜との密着性も良く、そのため光磁気ディスク
の耐久性が向上するものである。

〔実施例〕

樹脂基板としてはｐｃを用い、分子内に無機物的な官能
基をもつ有機金属化合物としてはビニルトリメトキシシ
ラン（ＣＨｚ　＝　Ｃｌ−５ｉ　（ＯＣＨ３）　：ｌ）
を選んだ。

そして、Ｔ、Ｗｙｄｅｖｅｒ　　：　Ａｐｐｌｉｅｄ　
０ｐｔｉｃｓ　７１７．１６゜１９７７の方法によりＰ
Ｃ基板上にポリマを約２０ｎｍの厚さに形成した。

すなわち、プラズマ重合装置の中にｐｃ基板を置き、ビ
ニルトリメトキシシランを２．ＯＰａ程度導入した状態
で周波数１３．５ＭＨｚ、出力０．５ＫＷで１０分間放
電させ、ＰＣ基板の上にビニルトリメトキシシランの重
合膜を形成した。

次に装置内を排気した後、酸素（０□）を０．５　Ｐａ
導入し、出力０．３ＫＷで１０分間放電させて、ｐｃ基
板上の重合膜の酸化処理を行った。

か＼る膜は分光分析によると５ｉ−０の結合が確認でき
、表面はＳｉＯの非晶質膜になっていることが判る。

このようなＰＣ基板二枚の上に従来と同様にスパッタ法
により第１の保護膜としてＳｉＯ□膜を、記録膜として
Ｔｂ　Ｆｅ　Ｃｏ膜を、また第２の保護膜としてＳｉＯ
□膜を作り、エポキシ系接着剤を用いて貼り合わせて光
磁気ディスクを作った。

次に、か＼る光磁気ディスクとポリマ膜のない従来構造
の光磁気ディスクとを７０℃、９０％ＲＨの高温高湿の
雰囲気において耐久試験を行った。

その結果、本発明に係るポリマ膜を介在させたものは１
５００時間経過後においても変化がないのに対し、従来
構造のものは３００時間で膨れ状の欠陥が発生しており
、これにより本発明の有効性が証明できた。

〔発明の効果〕

以上記したように本発明の実施により有機材料からなる
樹脂基板と無機材料からなる記録媒体との密着性を向上
することができ、これにより光磁気ディスクの耐久性を
向上することができる。

代理人　弁理士　井桁　貞−゛〔

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 案内溝を備え、ディスク状をした透明樹脂基板上に第１
   の保護膜、記録膜、第２の保護膜と順次に層形成してな
   る光ディスクにおいて、 前記透明樹脂基板上に有機金属化合物をプラズマ重合さ
   せてポリマからなる薄膜を形成した後、プラズマ酸化を
   行って該薄膜の表面を非晶質の酸化物薄膜に変え、該酸
   化物薄膜を備えた基板上に第１の保護膜、記録膜、第２
   の保護膜と順次に層形成することを特徴とする光ディス
   クの製造方法。