JPS62237347A - 電界効果トランジスタ型ガスセンサ− - Google Patents
電界効果トランジスタ型ガスセンサ−Info
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- JPS62237347A JPS62237347A JP7925686A JP7925686A JPS62237347A JP S62237347 A JPS62237347 A JP S62237347A JP 7925686 A JP7925686 A JP 7925686A JP 7925686 A JP7925686 A JP 7925686A JP S62237347 A JPS62237347 A JP S62237347A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、固体イオン伝導体と周期律表第■族の金属又
はその酸化物とをゲートとして用いた電界効果トランジ
スタ型ガスセンサーC以下+ FET型ガスセンサーと
いう。)に関する。
はその酸化物とをゲートとして用いた電界効果トランジ
スタ型ガスセンサーC以下+ FET型ガスセンサーと
いう。)に関する。
(従来技術)
水素や一酸化炭素等の還元性ガスのガスセンサーは、現
在防災用に用いられている。特に半導体製造業等におい
ては、5iT(4やAsH3等の可燃性、有毒性の含水
素化合物の還元性ガスを使用するため、これらのガスに
対して高感度かつ信頼性の高めガスセンサーが必要とさ
れている。
在防災用に用いられている。特に半導体製造業等におい
ては、5iT(4やAsH3等の可燃性、有毒性の含水
素化合物の還元性ガスを使用するため、これらのガスに
対して高感度かつ信頼性の高めガスセンサーが必要とさ
れている。
FET型ガスセンサーは、金属−酸化物−半導体型電界
効果トランジスタ(MOSFET)の金属ゲートの代わ
りに、ガス感応層を設けたガスセンサーである。例えば
、[アプライド・フィジックス・レター(Apol、
Phys−Lett)、26.55 (1975)J
には、ガス感応層としてPdを10OAの厚さに蒸着し
たFPT型ガスセンサーが空気中の4Onpmという極
微量のH2に対しても応答することが示されている。ま
たH2S ’p N’)T5に対しても応答することも
報告されている。
効果トランジスタ(MOSFET)の金属ゲートの代わ
りに、ガス感応層を設けたガスセンサーである。例えば
、[アプライド・フィジックス・レター(Apol、
Phys−Lett)、26.55 (1975)J
には、ガス感応層としてPdを10OAの厚さに蒸着し
たFPT型ガスセンサーが空気中の4Onpmという極
微量のH2に対しても応答することが示されている。ま
たH2S ’p N’)T5に対しても応答することも
報告されている。
(発明が解決しようとする問題点)
上1FFT型ガスセンサーは十分な応答速度と感哩を得
るためには、センサー素子を150’C程度にまで加熱
して使用しなければならず、そのため消費電力が大きく
なることや、センサー素子の経時安定性等に問題があっ
た。従−)で、常温で十分な応答速度と感度とを有する
FET型ガスセンサーの出現が望まれていた。
るためには、センサー素子を150’C程度にまで加熱
して使用しなければならず、そのため消費電力が大きく
なることや、センサー素子の経時安定性等に問題があっ
た。従−)で、常温で十分な応答速度と感度とを有する
FET型ガスセンサーの出現が望まれていた。
(問題を解決するための手段)
かかる現況に鑑み、本発明者らは、鋭意研究を重ねた結
果、常温においても感度、応答速度共に優れたFET型
ガスセンサーの開発に成功した。即ち、本発明は、ソー
ス及びドレインが半導体を介して接続されてなり、上記
半導体の表面に電気絶縁体及びゲートが順に積層されて
なる電界効果トランジスタ型ガスセンサーに於いて、該
ゲートが固体イオン伝導体と周期律表第■族の金属又は
その酸化物とで構成されてなる電界効果トランジスタ型
ガスセンサーである。
果、常温においても感度、応答速度共に優れたFET型
ガスセンサーの開発に成功した。即ち、本発明は、ソー
ス及びドレインが半導体を介して接続されてなり、上記
半導体の表面に電気絶縁体及びゲートが順に積層されて
なる電界効果トランジスタ型ガスセンサーに於いて、該
ゲートが固体イオン伝導体と周期律表第■族の金属又は
その酸化物とで構成されてなる電界効果トランジスタ型
ガスセンサーである。
□本発明の電界効果トランジスタ型ガスセンサーは、第
1図に示すとおり、従来公知の構造が採用されろ。即ち
、ソース1及びドレイン2とが半導体6を介して互いに
接続されており、半導体6の表面には電気絶縁体4及び
ゲート5が順に積層されている。また、ソース1及びド
レイン2は電気絶縁体上に積層された端子用金属9と電
気的に接続されている。
1図に示すとおり、従来公知の構造が採用されろ。即ち
、ソース1及びドレイン2とが半導体6を介して互いに
接続されており、半導体6の表面には電気絶縁体4及び
ゲート5が順に積層されている。また、ソース1及びド
レイン2は電気絶縁体上に積層された端子用金属9と電
気的に接続されている。
ここで、ノース1.ドレイン2.半導体3゜電気絶縁体
4.及び端子用金属9は、従来公知の材質が伺ら制限な
く採用される。
4.及び端子用金属9は、従来公知の材質が伺ら制限な
く採用される。
本発明の最大の特徴は、上記のゲート5として、固体イ
オン伝導体6と周期律表第■族の金属又はその酸化物C
以下、これらを単に■族金属と略称する。)7とを用い
る点にある。
オン伝導体6と周期律表第■族の金属又はその酸化物C
以下、これらを単に■族金属と略称する。)7とを用い
る点にある。
本発明で用いる固体イオン云導体としては、カチオン伝
導体及びアニオン伝導体のいずれでも良く、公知のもの
が何ら制限なく用い得る。例えば、カチオン伝導体とし
ては、アンチモン酸(5b2o5・nH2O) 、リン
酸ジルコニウム(Zr (HP 04 ) 2 ・nH
2O) *リン酸チタン(Ti(HPO4) −n)
(20) 、 リン酸すず(5n(E(PO4)2・
nH2O) 、リン酸アンチモン(5bHP20B ・
nH2(’) ) 、 リンモリブデン酸(85M0
12PO4g−nH20) 、リンタングステン2 (
H5W、2po4o−nH20) 、 リン酸ウラニ
ル(HUO2PO4・nH2O) 、その他H型ゼオラ
イトで代表される各種の無機イオン交換体、或いは、ポ
リスチレンスルホン酸、 Nafion(fユボン社の
登録商標)で代表される有機高分子イオン交換体などの
プロトン伝導体:L I S I coNcマテリアル
・リサーチ・プレティン(Material Re5e
arch Bulletin)11巻203頁(197
6) 〕、 LiNbO3゜LiClO4とエチレンオ
キシドの混合物などのリチウムイオン伝導体;β−アル
ミナ、〆′−アルミナ、NAsrcoNCマテリアル・
リサーチ・ブレティン(Material Re5ea
rchBulletin ) 13巻113頁(197
8)]などのナトリウムイオン伝導体:に型−β−アル
ミナ、ホランダイトなどのカリウムイオン伝導体:その
他、アンモニウムイオン、銀イオン、銅イオン等のカチ
オン伝導体等ヲ挙げることができる。
導体及びアニオン伝導体のいずれでも良く、公知のもの
が何ら制限なく用い得る。例えば、カチオン伝導体とし
ては、アンチモン酸(5b2o5・nH2O) 、リン
酸ジルコニウム(Zr (HP 04 ) 2 ・nH
2O) *リン酸チタン(Ti(HPO4) −n)
(20) 、 リン酸すず(5n(E(PO4)2・
nH2O) 、リン酸アンチモン(5bHP20B ・
nH2(’) ) 、 リンモリブデン酸(85M0
12PO4g−nH20) 、リンタングステン2 (
H5W、2po4o−nH20) 、 リン酸ウラニ
ル(HUO2PO4・nH2O) 、その他H型ゼオラ
イトで代表される各種の無機イオン交換体、或いは、ポ
リスチレンスルホン酸、 Nafion(fユボン社の
登録商標)で代表される有機高分子イオン交換体などの
プロトン伝導体:L I S I coNcマテリアル
・リサーチ・プレティン(Material Re5e
arch Bulletin)11巻203頁(197
6) 〕、 LiNbO3゜LiClO4とエチレンオ
キシドの混合物などのリチウムイオン伝導体;β−アル
ミナ、〆′−アルミナ、NAsrcoNCマテリアル・
リサーチ・ブレティン(Material Re5ea
rchBulletin ) 13巻113頁(197
8)]などのナトリウムイオン伝導体:に型−β−アル
ミナ、ホランダイトなどのカリウムイオン伝導体:その
他、アンモニウムイオン、銀イオン、銅イオン等のカチ
オン伝導体等ヲ挙げることができる。
また、アニオン伝導体としては、LaF3 *PbF2
、 CaF2 、 B1F2 * Pb5nF4など
のフッ素イオン伝導体: PhC22* 5nCt2
+ CsPbC4、5rCt2 などの塩素イオン伝
導体:ZrO2゜CeO2、R105などの酸素イオン
云導体等を挙げることができる。
、 CaF2 、 B1F2 * Pb5nF4など
のフッ素イオン伝導体: PhC22* 5nCt2
+ CsPbC4、5rCt2 などの塩素イオン伝
導体:ZrO2゜CeO2、R105などの酸素イオン
云導体等を挙げることができる。
これらの固体イオン伝導体の中でも、本発明に於いては
プロトン伝導体が好ましく、さらに、アンチモン酸及び
リン酸ジルコニウムが特に好ましく用いられる。
プロトン伝導体が好ましく、さらに、アンチモン酸及び
リン酸ジルコニウムが特に好ましく用いられる。
次に、本発明で用いられる■族金属としては、Fe 、
Co 、 Ni 、 Ru 、 Rh lPd 、
Os 。
Co 、 Ni 、 Ru 、 Rh lPd 、
Os 。
Ir 、 Pt等の金属及びRuO2、IrO2等の酸
化物を挙げることができる。これらの金属又はその酸化
物の中でもPt又はPdを用いた嚇合には、還元性ガス
に対する応答時間が短いガスセンサーが得られる。
化物を挙げることができる。これらの金属又はその酸化
物の中でもPt又はPdを用いた嚇合には、還元性ガス
に対する応答時間が短いガスセンサーが得られる。
本発明のFET型ガスセンサーのゲートμ、前記の固体
イオン伝導体と■族金属とで構成されていれば良い。具
体的には、固体イオン伝導体と■族金属とが2層に積層
されてゲートを構成している態様及び前者の中に後者が
分散されてゲートを構成して論る態様等が本発明で特に
好ましい態様である。まず、前者の態様については、さ
らに電気絶縁体上に固体イオン伝導体の層、■族金属の
層をこの順に積層させる態様と、電気絶縁体上に■族金
属の層を積層させ、その上に固体イオン伝導体の層を積
層させる態様があり、いずれの態様も本発明に於いて好
適に採用される。これらの態様の場合、電気絶縁体上に
接触させて積層させる層の厚さは、薄層であることが好
ましく、通常は100〜200OAの範囲、さらに10
0〜500Aの範囲であることがFET型ガスセンサー
の感度及び応答時間の点で好ましい。もう一方の層の厚
さは特に限定されないが、固体イオン伝導体の層と■族
金属の層の界面へのガスの透過を阻害しない厚さである
ことが好まt、い。通常は、もう一方の層は100〜8
000Aの範囲、さらに200〜3000Aの範囲の#
層であることが好ましい。
イオン伝導体と■族金属とで構成されていれば良い。具
体的には、固体イオン伝導体と■族金属とが2層に積層
されてゲートを構成している態様及び前者の中に後者が
分散されてゲートを構成して論る態様等が本発明で特に
好ましい態様である。まず、前者の態様については、さ
らに電気絶縁体上に固体イオン伝導体の層、■族金属の
層をこの順に積層させる態様と、電気絶縁体上に■族金
属の層を積層させ、その上に固体イオン伝導体の層を積
層させる態様があり、いずれの態様も本発明に於いて好
適に採用される。これらの態様の場合、電気絶縁体上に
接触させて積層させる層の厚さは、薄層であることが好
ましく、通常は100〜200OAの範囲、さらに10
0〜500Aの範囲であることがFET型ガスセンサー
の感度及び応答時間の点で好ましい。もう一方の層の厚
さは特に限定されないが、固体イオン伝導体の層と■族
金属の層の界面へのガスの透過を阻害しない厚さである
ことが好まt、い。通常は、もう一方の層は100〜8
000Aの範囲、さらに200〜3000Aの範囲の#
層であることが好ましい。
次に、後者の態様、即ち、固体イオン伝導体中に■族金
属が分散されている態様について説明する。固体イオン
伝導体中の■族金属の含有量は、特に制限されないが、
得られるFET型ガスセンサーの感度や応答時間を勘案
すると、o、os 〜so重量%、さらlco、5〜1
0重量%の範囲であることが好ましい。
属が分散されている態様について説明する。固体イオン
伝導体中の■族金属の含有量は、特に制限されないが、
得られるFET型ガスセンサーの感度や応答時間を勘案
すると、o、os 〜so重量%、さらlco、5〜1
0重量%の範囲であることが好ましい。
また、■族金属が分散された固体イオン伝導体は、固体
イオン伝導体と■族金属の界面へのガスの透過を阻害し
ない厚さであることが好ましく、100〜8000又、
さらに200〜3000Aの範囲の薄層であることが好
ましい。
イオン伝導体と■族金属の界面へのガスの透過を阻害し
ない厚さであることが好ましく、100〜8000又、
さらに200〜3000Aの範囲の薄層であることが好
ましい。
以上のような薄層を形成する方法としては、公知の手段
が伺ら制限なく採用される。例えば、真空蒸着法、スパ
ッタリング法、CVO法等が好適に採用される。例えば
、■族金属の薄層を形成するには、I X 10−5T
orr以下の高真空中にて、電子ビーム加熱装置を用い
て■族金属を真空蒸着するか、あるいは■族金属のター
ゲットを用いて、Arガス雰囲気中でスパッタしても、
■族金属の薄層b=得られる。
が伺ら制限なく採用される。例えば、真空蒸着法、スパ
ッタリング法、CVO法等が好適に採用される。例えば
、■族金属の薄層を形成するには、I X 10−5T
orr以下の高真空中にて、電子ビーム加熱装置を用い
て■族金属を真空蒸着するか、あるいは■族金属のター
ゲットを用いて、Arガス雰囲気中でスパッタしても、
■族金属の薄層b=得られる。
固体イオン伝導体の薄層は、固体イオン伝導体のディス
クをターゲットとして、Ar 。
クをターゲットとして、Ar 。
02 、 H2、H2Oの単独又は2種以上の混合ガス
雰囲気中でスパッタすれば容易に得られる。
雰囲気中でスパッタすれば容易に得られる。
固体イオン伝導体と■族金属の混合薄層は、固体イオン
伝導体と■族金属を所定の割合で良(混合したディスク
をターゲットとしテ用い、前述したようにスパッタすれ
ば良い。
伝導体と■族金属を所定の割合で良(混合したディスク
をターゲットとしテ用い、前述したようにスパッタすれ
ば良い。
有機系イオン伝導体の場合には、適当な溶媒に溶解させ
たものを、ディプコーティング法やスピンコーティング
法により塗布形成することもできる。
たものを、ディプコーティング法やスピンコーティング
法により塗布形成することもできる。
このようにして形成した薄層からゲート電極を取り出す
方法としては、上記の薄層上に導電性の薄膜を積層すれ
ば良い。例えばAu +A、p 、 Cu 、 fi!
、 、 In 、 C、Si 、 ae 等の金属の他
、前記■族金属またはこれらの合金も好ましく使用され
る。
方法としては、上記の薄層上に導電性の薄膜を積層すれ
ば良い。例えばAu +A、p 、 Cu 、 fi!
、 、 In 、 C、Si 、 ae 等の金属の他
、前記■族金属またはこれらの合金も好ましく使用され
る。
なお、固体イオン伝導体の層と■族金属の層を積層する
態様におhては、14族金属の層をそのitゲート電極
として利用しても良い。
態様におhては、14族金属の層をそのitゲート電極
として利用しても良い。
本発明のFET型ガスセンサーの作動機構について以下
に説明する。
に説明する。
本発明のFET型ガスセンサーの固体イオン伝導体と■
族金属との界面では、次の(1)。
族金属との界面では、次の(1)。
(2)式に示す反応が主に起こっていると予想している
。
。
H,、(気相)→2H”(電解質)+2e(触媒)(1
)2H+(WL電解質+−jo2(気相)+2e(触媒
)→H20(気相)(2) つまり、触媒として作用する■族金属と電解質として作
用する固定イオン伝導体が接しているため(1)式の反
応は室温においても容易に起こると考えられ、このため
に、本発明のFET型ガスセンサーが低温作動が可能と
なったものと予想される。
)2H+(WL電解質+−jo2(気相)+2e(触媒
)→H20(気相)(2) つまり、触媒として作用する■族金属と電解質として作
用する固定イオン伝導体が接しているため(1)式の反
応は室温においても容易に起こると考えられ、このため
に、本発明のFET型ガスセンサーが低温作動が可能と
なったものと予想される。
本発明のFET型ガスセンサーの出力の検出回路はどの
ようであっても良い。検出回路の一例を示せば第2図に
示すとおりである。
ようであっても良い。検出回路の一例を示せば第2図に
示すとおりである。
図中、点線で囲まれた部分がFET型ガスセンサーであ
る。FET型ガスセンサーのソース端子11はインピー
ダンス変換素子10゜アース及び出力端子61にそれぞ
れ接続されており、ドレイン端子12はゲート端子15
゜定電流源19及びインピーダンス変換素子10にそれ
ぞれ接続されており、さらに、インピーダンス変換素子
10には出力端子30が接続されている。
る。FET型ガスセンサーのソース端子11はインピー
ダンス変換素子10゜アース及び出力端子61にそれぞ
れ接続されており、ドレイン端子12はゲート端子15
゜定電流源19及びインピーダンス変換素子10にそれ
ぞれ接続されており、さらに、インピーダンス変換素子
10には出力端子30が接続されている。
さらに、本発明では、以下に述べる補償素子を併用する
ことにより、従来のガスセンサーで問題となっていた湿
度の影響や、アルコール等の雑ガスの影響を大巾に抑え
ることが可能である。
ことにより、従来のガスセンサーで問題となっていた湿
度の影響や、アルコール等の雑ガスの影響を大巾に抑え
ることが可能である。
補償素子は、本発明のFET型ガスセンサーのうち■族
金属を含まないものが用いられろ。また、還元性ガスに
対して不活性なAu。
金属を含まないものが用いられろ。また、還元性ガスに
対して不活性なAu。
Ag 、 Cu 、 At 、 In 、 C* Si
、 Ge 等を■族金属にかえて用いることによっ
て湿度等の影響をキャンセルするに好都合の補償素子と
すること本できる。
、 Ge 等を■族金属にかえて用いることによっ
て湿度等の影響をキャンセルするに好都合の補償素子と
すること本できる。
このような補償素子と本発明のFET型ガスセンサーと
を同じ被検ガス雰囲気中に置くと湿度変化による出力の
変化は、本発明のFET型ガスセンサーと補償素子のい
ずれにもほぼ同じ程度で起こる。従って、被検ガス中の
湿度による影響はほぼキャンセルされる。
を同じ被検ガス雰囲気中に置くと湿度変化による出力の
変化は、本発明のFET型ガスセンサーと補償素子のい
ずれにもほぼ同じ程度で起こる。従って、被検ガス中の
湿度による影響はほぼキャンセルされる。
また、被検ガス中のアルコール等の雑ガスによる出力の
変化も、同様に補償素子の接続によってキャンセルでき
る。
変化も、同様に補償素子の接続によってキャンセルでき
る。
第3図に本発明のFET型ガスセンサーと補償素子とを
一体に製造した補償素子付FET型ガスセンサーの香石
方向の断面図を示した。
一体に製造した補償素子付FET型ガスセンサーの香石
方向の断面図を示した。
FET型ガスセンサー(FET1)と補償素子(FET
2 )とは1枚のp−型Si基板等の半導体3の上に作
製されてAる。ここでFET1のドレイン2及びFET
2のドレイン2′は、FET 1とFET2に共通のソ
ース1と半導体3を介して接続されており、FET1の
半導体3上には電気絶縁体4.固体イオン伝導体6及び
■族金属7がこの順に積層されており、FET2の半導
体3上には、電気絶縁体4.固体イオン云導体6及び還
元性ガスに感応しない金属8がこの順に積層されている
。また、F”ET 1及びFE’r2のソース及びドレ
インは電気絶縁体上に積層された端子用金属9と電気的
に接続されている。
2 )とは1枚のp−型Si基板等の半導体3の上に作
製されてAる。ここでFET1のドレイン2及びFET
2のドレイン2′は、FET 1とFET2に共通のソ
ース1と半導体3を介して接続されており、FET1の
半導体3上には電気絶縁体4.固体イオン伝導体6及び
■族金属7がこの順に積層されており、FET2の半導
体3上には、電気絶縁体4.固体イオン云導体6及び還
元性ガスに感応しない金属8がこの順に積層されている
。また、F”ET 1及びFE’r2のソース及びドレ
インは電気絶縁体上に積層された端子用金属9と電気的
に接続されている。
この様に作製した補償素子付FET型ガスセンサーの等
価回路を第4図に示した。図中、点線で囲まれた部分が
、補償素子付FET型ガスセンサーである。第4図に於
いて、FET1及びFET2のドレイン端子12及び2
2ば、それぞれ抵抗16及び26を介して定電圧源1日
に接続され、FET1及びFET2に共通なソース端子
11は、定電流源19を介して定電圧源18に接続され
、さらに、ソース端子11は、定電流源19及び定電圧
源17.27を介してFET1及びFET2のゲート端
子15及び25に夫々接続されている。このような回路
とすることによって差動増幅器が形成され、FET 1
の出力端子30゜31からの出力を測定すれば、湿度等
による影響がキャンセルされた還元性ガスのみによる電
圧変化がドレイン電圧として観測される。
価回路を第4図に示した。図中、点線で囲まれた部分が
、補償素子付FET型ガスセンサーである。第4図に於
いて、FET1及びFET2のドレイン端子12及び2
2ば、それぞれ抵抗16及び26を介して定電圧源1日
に接続され、FET1及びFET2に共通なソース端子
11は、定電流源19を介して定電圧源18に接続され
、さらに、ソース端子11は、定電流源19及び定電圧
源17.27を介してFET1及びFET2のゲート端
子15及び25に夫々接続されている。このような回路
とすることによって差動増幅器が形成され、FET 1
の出力端子30゜31からの出力を測定すれば、湿度等
による影響がキャンセルされた還元性ガスのみによる電
圧変化がドレイン電圧として観測される。
(効果)
本発明のFET型ガスセンサーは、その作動原理が■族
金属と固体イオン伝導体との界面に訃けるプロトンの活
量の変化と、それに伴う酸素の酸化反応により生成する
固体イオン伝導体上の吸着水分子の最の変化をFETに
より検出するものである。
金属と固体イオン伝導体との界面に訃けるプロトンの活
量の変化と、それに伴う酸素の酸化反応により生成する
固体イオン伝導体上の吸着水分子の最の変化をFETに
より検出するものである。
本発明のFET型ガスセンサーは、このような作動原理
であり、室温においても空気中の微量の還元性ガスを、
応答速度が速くしかも感度良く検出できるものである。
であり、室温においても空気中の微量の還元性ガスを、
応答速度が速くしかも感度良く検出できるものである。
また、センサー素子を加熱しないため、長期安定性に優
れている。
れている。
さらに、本発明のFET型ガスセンサーに補償素子を併
用した場合には、被検ガスの湿度ヤ、アルコール等の雑
ガスによる影響を抑えることができる。従って、還元性
ガスのより正確な検出が可能となる。
用した場合には、被検ガスの湿度ヤ、アルコール等の雑
ガスによる影響を抑えることができる。従って、還元性
ガスのより正確な検出が可能となる。
以下に、本発明をさらに具体的に説明するために実施例
を掲げるが1本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。
を掲げるが1本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。
実施例 1
ガスセンサーの作製方法
n型S1をドレイン及びソースとし、p型S1を半導体
とし、5102を電気絶縁体とする電界効果トランジス
タの8i02上に固体イオン伝導体の層として2ooX
の厚さにアンチモン酸の薄膜をスパッタ装置を用いて形
成した。さらに、上記固体イオン伝導体の層の上に、3
00大の厚さにptの薄膜を真空蒸着法により形成した
。なお、このptの薄膜はそのままゲート端子としても
利用した(第1図参照)。
とし、5102を電気絶縁体とする電界効果トランジス
タの8i02上に固体イオン伝導体の層として2ooX
の厚さにアンチモン酸の薄膜をスパッタ装置を用いて形
成した。さらに、上記固体イオン伝導体の層の上に、3
00大の厚さにptの薄膜を真空蒸着法により形成した
。なお、このptの薄膜はそのままゲート端子としても
利用した(第1図参照)。
ガスセンサーの特性評価方法
アルミナ基板上に上記FET型ガスセンサーヲマウント
し、ソース、ドレイン、ゲートの各電極からリード線を
取り出し、ガラス管中に固定した。このガラス管に、通
常は乾燥した空気を流しておき、被検ガスとして、11
000ppの水素を含む乾燥した空気を流したときのゲ
ート電圧の変化を室温において笛2図に示す回路により
測定した。
し、ソース、ドレイン、ゲートの各電極からリード線を
取り出し、ガラス管中に固定した。このガラス管に、通
常は乾燥した空気を流しておき、被検ガスとして、11
000ppの水素を含む乾燥した空気を流したときのゲ
ート電圧の変化を室温において笛2図に示す回路により
測定した。
なお、空気から被検ガスへ切り換えたときのゲート電圧
の全変化量をFET型ガスセンサーの感度として表わし
、被検ガス導入から全変化量の90%の値に達するまで
の時間を90%応答時間として表わした。その結果、感
度は218mV、90%応答時間は34秒であった。
の全変化量をFET型ガスセンサーの感度として表わし
、被検ガス導入から全変化量の90%の値に達するまで
の時間を90%応答時間として表わした。その結果、感
度は218mV、90%応答時間は34秒であった。
実施例 2
■族金属としてPdを用いた以外は、実施例1と同じ条
件でFET型ガスセンサーを構成し、特性を評価した。
件でFET型ガスセンサーを構成し、特性を評価した。
その結果、感度は224mV、90%応答時間は37秒
であった。
であった。
実施例 3
固体イオン伝導体として、リン酸ジルコニウムを用いた
以外は実施例1と同じ条件でFET型ガスセンサーを構
成し、特性を評価した。その結果、感度は208mV、
90%応答時間は33秒であった。
以外は実施例1と同じ条件でFET型ガスセンサーを構
成し、特性を評価した。その結果、感度は208mV、
90%応答時間は33秒であった。
実施例 4
実施例1で用いた電界効果トランジスタの5102上I
CPtを200Åの厚さで蒸着し、その上にアンチモン
酸を1oooAの厚さでスパッタし、さらに、その上に
A、9を500Å蒸着してゲート電極のリードとした以
外は実施例1と同じ条件でFET型ガスセンサーを43
成し、特性を評価した。その結果、感度は173 mV
であり、90%応答時間は38秒であった。
CPtを200Åの厚さで蒸着し、その上にアンチモン
酸を1oooAの厚さでスパッタし、さらに、その上に
A、9を500Å蒸着してゲート電極のリードとした以
外は実施例1と同じ条件でFET型ガスセンサーを43
成し、特性を評価した。その結果、感度は173 mV
であり、90%応答時間は38秒であった。
実施例 5
アンチモン酸にptを5%混合したものをターゲットと
して用りて、ゲートを形成した以外は実施例1と同じ条
件でFET型ガスセンサーを構成し、特性を評価した。
して用りて、ゲートを形成した以外は実施例1と同じ条
件でFET型ガスセンサーを構成し、特性を評価した。
その結果、感度は2 !16 mVであり、90%応答
時間は28秒であった。
時間は28秒であった。
実施例 6
実施例5で作製したFET型ガスセンサーを用いて、実
施例1で示す特性評価方法に従って長期安定性を調べた
。
施例1で示す特性評価方法に従って長期安定性を調べた
。
結県を第5図に示(−た。
実施例 7
第3図に示すような補償素子付FET型ガスセンサーを
作製した。実施例1で示す方法によりFET型ガスセン
サ一部を構成し、さらに、実施例1におけるptの代わ
りにAJを5ooXの厚さに蒸着した以外は、実施例1
と同じ方法で補償素子部を構成した。この素子を第4図
に示すような回路により特性を評価した。
作製した。実施例1で示す方法によりFET型ガスセン
サ一部を構成し、さらに、実施例1におけるptの代わ
りにAJを5ooXの厚さに蒸着した以外は、実施例1
と同じ方法で補償素子部を構成した。この素子を第4図
に示すような回路により特性を評価した。
まず、実施例1と同じ方法により、センサーの特性を評
価した後、加湿した空気と被検ガスを用いたときの特性
を実施例1と同じ方法で調べた。結果を第1表に示す。
価した後、加湿した空気と被検ガスを用いたときの特性
を実施例1と同じ方法で調べた。結果を第1表に示す。
第1表
比較例 1
実施例1で用いた電界効果トランジスタの8102上に
ptを200Xの厚さに蒸着しただけで、これをセンサ
ーとした。室温及び150℃で実施例1と同じ方法でセ
ンサーの特性を調べた。結果をW、2表に示した。
ptを200Xの厚さに蒸着しただけで、これをセンサ
ーとした。室温及び150℃で実施例1と同じ方法でセ
ンサーの特性を調べた。結果をW、2表に示した。
第2表
比較例 2
比較例1で作製したセンサー素子を用いて150℃で動
作させる以外は実施例7と同じ方法で長期安定性を調べ
た。結果を第5図に示し念。
作させる以外は実施例7と同じ方法で長期安定性を調べ
た。結果を第5図に示し念。
第1図及び第3図は、本発明のFET型ガスセンサー及
び補償素子付FET型ガスセンサーの垂直方向の断面図
を夫々示す。また、第2図及び第4図は、本発明のFE
T型ガスセンサー及び補償素子部F F、 T型ガスセ
ンサセンサー、FET2は補償素子、1はソース。 2及び2′はドレイン、3は半導体、4は電気絶縁体、
5はゲート、6は固体イオン伝導体。 7は周期律表第■族の金属又はその酸化物。 8は還元性ガスに感応しない金属、9は端子用金属、1
0はインピーダンス変換素子、11はソース端子、12
及び22はドレイン端子。 15及び25はゲート端子、16及び26は抵抗、17
.f8及び27は定電圧源、19は定電流源、30及び
31は出力端子を夫々示す。
び補償素子付FET型ガスセンサーの垂直方向の断面図
を夫々示す。また、第2図及び第4図は、本発明のFE
T型ガスセンサー及び補償素子部F F、 T型ガスセ
ンサセンサー、FET2は補償素子、1はソース。 2及び2′はドレイン、3は半導体、4は電気絶縁体、
5はゲート、6は固体イオン伝導体。 7は周期律表第■族の金属又はその酸化物。 8は還元性ガスに感応しない金属、9は端子用金属、1
0はインピーダンス変換素子、11はソース端子、12
及び22はドレイン端子。 15及び25はゲート端子、16及び26は抵抗、17
.f8及び27は定電圧源、19は定電流源、30及び
31は出力端子を夫々示す。
Claims (1)
- (1)ソース及びドレインが半導体を介して接続されて
なり、上記半導体の表面に電気絶縁体及びゲートが順に
積層されてなる電界効果トランジスタ型ガスセンサーに
於いて、該ゲートが固体イオン伝導体と周期律表第VII
I族の金属又はその酸化物とで構成されてなる電界効果
トランジスタ型ガスセンサー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7925686A JPS62237347A (ja) | 1986-04-08 | 1986-04-08 | 電界効果トランジスタ型ガスセンサ− |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7925686A JPS62237347A (ja) | 1986-04-08 | 1986-04-08 | 電界効果トランジスタ型ガスセンサ− |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62237347A true JPS62237347A (ja) | 1987-10-17 |
JPH0572979B2 JPH0572979B2 (ja) | 1993-10-13 |
Family
ID=13684770
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7925686A Granted JPS62237347A (ja) | 1986-04-08 | 1986-04-08 | 電界効果トランジスタ型ガスセンサ− |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62237347A (ja) |
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- 1986-04-08 JP JP7925686A patent/JPS62237347A/ja active Granted
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