JPH03274452A - 電界効果トランジスタ型酸素センサ - Google Patents
電界効果トランジスタ型酸素センサInfo
- Publication number
- JPH03274452A JPH03274452A JP2076259A JP7625990A JPH03274452A JP H03274452 A JPH03274452 A JP H03274452A JP 2076259 A JP2076259 A JP 2076259A JP 7625990 A JP7625990 A JP 7625990A JP H03274452 A JPH03274452 A JP H03274452A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- solid electrolyte
- oxygen
- electrolyte membrane
- electrode film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 92
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 title claims abstract description 92
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 66
- 230000005669 field effect Effects 0.000 title claims description 24
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 67
- -1 oxygen ions Chemical class 0.000 claims abstract description 32
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 80
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 18
- 230000004044 response Effects 0.000 abstract description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 10
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract description 9
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 abstract description 8
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract description 7
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- YUOWTJMRMWQJDA-UHFFFAOYSA-J tin(iv) fluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[Sn+4] YUOWTJMRMWQJDA-UHFFFAOYSA-J 0.000 abstract description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 3
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 201000010099 disease Diseases 0.000 description 1
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000010416 ion conductor Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910002076 stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は電界効果トランジスタ型酸素センサ、特に血液
中の酸素分圧など医療用として好適な酸素センサに関す
る。
中の酸素分圧など医療用として好適な酸素センサに関す
る。
[従来の技術]
気体中、液体中の酸素濃度(酸素分圧)は、各種の反応
において非常に重要な量である。そこで、酸素分圧を測
定する種々の酸素セフすか提案されている。特に、医療
の分野において血液中の酸素分圧は、炭酸ガス分圧、血
中電解質濃度と共に非常に重要な生理量である。そこで
、病気の診断、患者の病体管理上最も良く測定される生
理量の1つである。
において非常に重要な量である。そこで、酸素分圧を測
定する種々の酸素セフすか提案されている。特に、医療
の分野において血液中の酸素分圧は、炭酸ガス分圧、血
中電解質濃度と共に非常に重要な生理量である。そこで
、病気の診断、患者の病体管理上最も良く測定される生
理量の1つである。
このような医療における酸素分圧の計測器としては、ク
ラーク型酸素電極が広く用いられている。
ラーク型酸素電極が広く用いられている。
このクラーク型酸素電極は、内部にKCJ溶液などの電
解液を密封しておき、酸素濃度に応じた電圧を発生する
ものである。従って、電解液の漏れ防止、補充等、電極
の管理が繁雑であるという問題点があった。また、この
クラーク型酸素電極は、小型化が困難であり、また連続
測定には不適切であるといった問題点があった。
解液を密封しておき、酸素濃度に応じた電圧を発生する
ものである。従って、電解液の漏れ防止、補充等、電極
の管理が繁雑であるという問題点があった。また、この
クラーク型酸素電極は、小型化が困難であり、また連続
測定には不適切であるといった問題点があった。
一方、電解液を必要としない酸素センサとしては、ジル
コニア固体電解質を用いたものがある。
コニア固体電解質を用いたものがある。
しかしながら、このジルコニア酸素センサは、摂氏数1
00度以上の高温でないと作動しないため、医療用の酸
素センサとしては非常に限られた範囲でしか用いること
ができなかった。
00度以上の高温でないと作動しないため、医療用の酸
素センサとしては非常に限られた範囲でしか用いること
ができなかった。
このような欠点を解決するために、例えば、rsens
ors and Actuators。
ors and Actuators。
vol、12. (1987)、pp415−423
」に示されているように、フッ化ランタンなど室温でも
比較的大きなイオン伝導度をもつ固体電解質を利用した
酸素センサが開発されている。
」に示されているように、フッ化ランタンなど室温でも
比較的大きなイオン伝導度をもつ固体電解質を利用した
酸素センサが開発されている。
このセンサは、フッ化ランタンを錫・フッ化錫電極及び
白金電極で挟み、両電極間に酸素分圧に応じた電圧を発
生するものである。この構成によれば、比較的小型であ
り、電極の管理の簡単なセンサが得られる。しかし、二
のセンサは、単体構造であるため炭酸ガス、電解質濃度
等の他の生理量を同時に計測できる複合型の小型センサ
を製作することが難しいという問題点があった。
白金電極で挟み、両電極間に酸素分圧に応じた電圧を発
生するものである。この構成によれば、比較的小型であ
り、電極の管理の簡単なセンサが得られる。しかし、二
のセンサは、単体構造であるため炭酸ガス、電解質濃度
等の他の生理量を同時に計測できる複合型の小型センサ
を製作することが難しいという問題点があった。
すなわち、医療の分野においては、上述のように炭酸ガ
ス分圧等地の生理量も同時に測定したいという要望があ
る。そして、単体のセンサは他のセンサとはもともと異
なる工程で製造されるものであるため、他の生理量を測
定するためのセンサとは別工程がほとんどとなり、他の
製造工程との整合性か取れない場合が多い。従って、こ
のセンサは、単体構造で別途製作し、その後他のセンサ
と接合するというようなこととなり、その製造か難しく
、また小形化しにくいという問題点があった。
ス分圧等地の生理量も同時に測定したいという要望があ
る。そして、単体のセンサは他のセンサとはもともと異
なる工程で製造されるものであるため、他の生理量を測
定するためのセンサとは別工程がほとんどとなり、他の
製造工程との整合性か取れない場合が多い。従って、こ
のセンサは、単体構造で別途製作し、その後他のセンサ
と接合するというようなこととなり、その製造か難しく
、また小形化しにくいという問題点があった。
一方、電界効果トランジスタ(FET)型センサは、電
界効果トランジスタの有する高い入力インピーダンスと
その増幅作用を利用しており、高感度で比較的大きな出
力を得ることができる。また、半導体集積回路技術を用
いて同一基板上に多数のセンサ素子を形成できるので、
酸素分圧の他に炭酸ガス、電解質等地の生理量を同時に
計測できる小型のセンサを容易に製作できるという利点
を有している。
界効果トランジスタの有する高い入力インピーダンスと
その増幅作用を利用しており、高感度で比較的大きな出
力を得ることができる。また、半導体集積回路技術を用
いて同一基板上に多数のセンサ素子を形成できるので、
酸素分圧の他に炭酸ガス、電解質等地の生理量を同時に
計測できる小型のセンサを容易に製作できるという利点
を有している。
このような電界効果トランジスタ型酸素センサは、例え
ばrJournal of Applied P
hysics、 vol、83. (1988)
、pp2431−2434Jに記載されており、第7図
に示すような構造を有している。
ばrJournal of Applied P
hysics、 vol、83. (1988)
、pp2431−2434Jに記載されており、第7図
に示すような構造を有している。
すなわち、シリコンなどからなる半導体基板1Gの上部
には、ソース領域12、トレイン領域14か形成されて
おり、これらの領域12.14の上にゲート絶縁膜16
が形成されている。このゲート絶縁膜16は、例えば酸
化シリコン、窒化シリコンなどが用いられる。
には、ソース領域12、トレイン領域14か形成されて
おり、これらの領域12.14の上にゲート絶縁膜16
が形成されている。このゲート絶縁膜16は、例えば酸
化シリコン、窒化シリコンなどが用いられる。
そして、このゲート絶縁膜16の上方に室温で酸素イオ
ン量に応じた起電力を発生する材料(例えば安定化ジル
コニア)からなる固体電解質膜18が積層形成され、こ
の固体電解質膜16上に酸素分子を酸素イオンに解離す
る材料(例えは白金)からなる金属電極をゲート電極2
0として形成している。また、ソース領域12とゲート
領域14の間がチャネル22となっており、ソース領域
12には、ソース電極24が接続され、ゲート領域14
にはゲート電極26か接続されている。
ン量に応じた起電力を発生する材料(例えば安定化ジル
コニア)からなる固体電解質膜18が積層形成され、こ
の固体電解質膜16上に酸素分子を酸素イオンに解離す
る材料(例えは白金)からなる金属電極をゲート電極2
0として形成している。また、ソース領域12とゲート
領域14の間がチャネル22となっており、ソース領域
12には、ソース電極24が接続され、ゲート領域14
にはゲート電極26か接続されている。
このような酸素センサにおいて、ゲート電極20を薄い
白金などの金属膜によって形成すると、このゲート電極
20を透過した酸素分子がこれを形成する白金等の触媒
作用によって、酸素イオンに解離される。この酸素イオ
ンか固体電解質膜16と相互作用することによって、ゲ
ート電極16と固体電解質膜18との界面に酸素イオン
量に応じた起電力が発生される。そこで、この起電力に
よって、ソース領域12及びドレイン領域140間のチ
ャネル22の導電率が変調され、酸素分圧の変化を電気
信号として取り出すことができる。
白金などの金属膜によって形成すると、このゲート電極
20を透過した酸素分子がこれを形成する白金等の触媒
作用によって、酸素イオンに解離される。この酸素イオ
ンか固体電解質膜16と相互作用することによって、ゲ
ート電極16と固体電解質膜18との界面に酸素イオン
量に応じた起電力が発生される。そこで、この起電力に
よって、ソース領域12及びドレイン領域140間のチ
ャネル22の導電率が変調され、酸素分圧の変化を電気
信号として取り出すことができる。
[発明が解決しようとする課8]
このように、従来の電界効果トランジスタ型酸素センサ
においては、酸素分子がゲート電極20を透過する際に
酸素イオンに解離し、該ゲート電極20と固体電解質膜
16との界面に起電力を発生するが、固体電解質膜18
がイオン伝導体であるために、ゲート電極20と固体電
解質膜18との界面における相互作用によって生じたイ
オンが固体電解質膜18の内部を移動し、固体電解質膜
18とゲート絶縁膜16との間の電位を不安定にする。
においては、酸素分子がゲート電極20を透過する際に
酸素イオンに解離し、該ゲート電極20と固体電解質膜
16との界面に起電力を発生するが、固体電解質膜18
がイオン伝導体であるために、ゲート電極20と固体電
解質膜18との界面における相互作用によって生じたイ
オンが固体電解質膜18の内部を移動し、固体電解質膜
18とゲート絶縁膜16との間の電位を不安定にする。
従って、ゲート絶縁膜16と固体電解質膜18との間の
電位から児た固体電解質膜18とゲート電極20との間
の電位差、すなわち固体電解質膜18の両端に発生する
起電力は不安定なものになり、センサの応答が不安定で
、応答速度が極めて遅いという問題点かあった。
電位から児た固体電解質膜18とゲート電極20との間
の電位差、すなわち固体電解質膜18の両端に発生する
起電力は不安定なものになり、センサの応答が不安定で
、応答速度が極めて遅いという問題点かあった。
また、従来の電界効果トランジスタ型酸素センサは、ゲ
ート絶縁膜16上に固体電解質膜18を形成し、さらに
ゲート電極20として金属膜をスパッタ法などの成膜方
法で単に積層させただけのものであった。そして、この
ような電界効果トランジスタは、平滑な半導体基板を用
いて作製されるため、ゲート電極20を極めて薄く形成
したとしても、穴などの欠陥があまり多く形成されず、
酸素分子かゲート電極20を透過(5難く、感度が十分
でないという問題点があった。
ート絶縁膜16上に固体電解質膜18を形成し、さらに
ゲート電極20として金属膜をスパッタ法などの成膜方
法で単に積層させただけのものであった。そして、この
ような電界効果トランジスタは、平滑な半導体基板を用
いて作製されるため、ゲート電極20を極めて薄く形成
したとしても、穴などの欠陥があまり多く形成されず、
酸素分子かゲート電極20を透過(5難く、感度が十分
でないという問題点があった。
着眼点
一方、ガスの検知とは別に、電界効果トランジスタ型イ
オンセンサ(ISFET)を用いて電解質溶液内のイオ
ン濃度を計測する場合には、銀・塩化銀電極に代表され
るような参照電極を溶液中に挿入して出力の安定化を図
っている。この点を鑑みて、ガスを計測する電界効果ト
ランジスタ型センサにおいても、間様の参照電極を挿入
できれば出力の安定化を図ることができるものと考えら
れる。
オンセンサ(ISFET)を用いて電解質溶液内のイオ
ン濃度を計測する場合には、銀・塩化銀電極に代表され
るような参照電極を溶液中に挿入して出力の安定化を図
っている。この点を鑑みて、ガスを計測する電界効果ト
ランジスタ型センサにおいても、間様の参照電極を挿入
できれば出力の安定化を図ることができるものと考えら
れる。
また、零電界効果トランジスタ形酸素センサに関する研
究の過程において、ゲート電極20を適当なスパッタ条
件(0,2Torrの比較的高いAr圧でスパッタする
)で、極めて薄<(100A、)形成すると、欠陥が比
較的多いゲート電極20か形成された。そして、このゲ
ート電極20を利用した電界効果トランジスタ型酸素セ
ンサの感度が上昇することがわかった。これより、ゲー
ト電極20に微少な穴を多数形成すれば、L述の欠点が
解決できるものと考られる。
究の過程において、ゲート電極20を適当なスパッタ条
件(0,2Torrの比較的高いAr圧でスパッタする
)で、極めて薄<(100A、)形成すると、欠陥が比
較的多いゲート電極20か形成された。そして、このゲ
ート電極20を利用した電界効果トランジスタ型酸素セ
ンサの感度が上昇することがわかった。これより、ゲー
ト電極20に微少な穴を多数形成すれば、L述の欠点が
解決できるものと考られる。
発明の目的
本発明は、上記問題点を解決することを課題としてなさ
れたものであり、応答速度が速く、かつ高感度の電界効
果トランジスタ型酸素センサを提供することを目的とす
る。
れたものであり、応答速度が速く、かつ高感度の電界効
果トランジスタ型酸素センサを提供することを目的とす
る。
[課題を解決するための手段]
第1発明に係る電界効果トランジスタ型酸素センサは、
第1図に示すように、上部にソース領域32及びドレイ
ン領域34が形成された半導体基板30と、この半導体
基板30の上記ソース領域32及びドレイン領域34の
上面を覆って形成されたゲート絶縁膜36と、このゲー
ト絶縁膜36上に形成された室温で酸素イオン量に応じ
た起電力を発生する材料からなる固体電解質膜38と、
この固体電解質膜38上に形成され、酸素分子を酸素イ
オンに解離する金属材料からなるゲート電極膜40と、
上記ゲート絶縁膜40と固体電解質膜38との間に挿入
配置され、上記固体電解質膜38中を伝導するイオンと
の間で化学平衡か成り立つ材料からなる参照電極膜50
とを有することを特徴とする。
第1図に示すように、上部にソース領域32及びドレイ
ン領域34が形成された半導体基板30と、この半導体
基板30の上記ソース領域32及びドレイン領域34の
上面を覆って形成されたゲート絶縁膜36と、このゲー
ト絶縁膜36上に形成された室温で酸素イオン量に応じ
た起電力を発生する材料からなる固体電解質膜38と、
この固体電解質膜38上に形成され、酸素分子を酸素イ
オンに解離する金属材料からなるゲート電極膜40と、
上記ゲート絶縁膜40と固体電解質膜38との間に挿入
配置され、上記固体電解質膜38中を伝導するイオンと
の間で化学平衡か成り立つ材料からなる参照電極膜50
とを有することを特徴とする。
ここで、半導体基板30としては、シリコン、ヒ化ガリ
ウム等の半導体か用いられる。ゲート絶縁膜36として
は、その厚みが300人〜1500人のシリコン酸化膜
あるいはシリコン窒化膜、あるいはこれらの積層膜か用
いられる。
ウム等の半導体か用いられる。ゲート絶縁膜36として
は、その厚みが300人〜1500人のシリコン酸化膜
あるいはシリコン窒化膜、あるいはこれらの積層膜か用
いられる。
室温で酸素分圧に応じた起電力を発生するヰ4料からな
る固体電解質膜38としては、酸化ジルコニウム膜、酸
化ジルコニウムに酸化イ・ントリウムを添加した膜、フ
ッ化ランタン膜、フッ化ランタンにストロンチウムまた
はユーロピウムを混合した膜などが用いられる。また、
その厚みは100人〜10000人が適当である。
る固体電解質膜38としては、酸化ジルコニウム膜、酸
化ジルコニウムに酸化イ・ントリウムを添加した膜、フ
ッ化ランタン膜、フッ化ランタンにストロンチウムまた
はユーロピウムを混合した膜などが用いられる。また、
その厚みは100人〜10000人が適当である。
酸素分子を酸素イオンに解離する金属からなるゲート電
極膜40としては、白金、パラジウム、金、イリチウム
などが用いられる。そして、このゲート電極膜40は、
酸素分子を透過する必要があるため、その厚みを100
0Å以下、特に好ましくは500Å以下とすると良い。
極膜40としては、白金、パラジウム、金、イリチウム
などが用いられる。そして、このゲート電極膜40は、
酸素分子を透過する必要があるため、その厚みを100
0Å以下、特に好ましくは500Å以下とすると良い。
参照電極膜50としては、錫、鉛、ビスマス等の金属と
、これら金属と固体電解質膜38中を伝導するイオンと
の化合物の2層積層構造のものが好適である。
、これら金属と固体電解質膜38中を伝導するイオンと
の化合物の2層積層構造のものが好適である。
第2発明に係る電界効果トランジスタ型酸素センサは、
ゲート電極膜が網目構造の金属材料からなり、1つの網
目の穴の面積はI X 1×10−4mm2以下であり
、網間の穴の総面積はゲート面積の5〜30%であるこ
とを特徴とする。
ゲート電極膜が網目構造の金属材料からなり、1つの網
目の穴の面積はI X 1×10−4mm2以下であり
、網間の穴の総面積はゲート面積の5〜30%であるこ
とを特徴とする。
このように、第2発明においては、酸素分子を酸素イオ
ンにするゲート電極膜を網目構造としている。これによ
って、ゲート電極膜40における酸素の透過を容易とし
ている。そして、固体電解質膜18における上述の起電
力はゲート電極膜40を透過した酸素分子が、酸素イオ
ンにイオン化されこの酸素イオンと固体電解質膜38力
曳相互作用することによって発生する。このため、網目
の穴の外周において酸素イオンか発生し易く、この穴の
外周囲の総延長距離は、長い方か好ましtl。
ンにするゲート電極膜を網目構造としている。これによ
って、ゲート電極膜40における酸素の透過を容易とし
ている。そして、固体電解質膜18における上述の起電
力はゲート電極膜40を透過した酸素分子が、酸素イオ
ンにイオン化されこの酸素イオンと固体電解質膜38力
曳相互作用することによって発生する。このため、網目
の穴の外周において酸素イオンか発生し易く、この穴の
外周囲の総延長距離は、長い方か好ましtl。
そこで、網目の穴の総面積が同じなら、細め10穴か沢
山設けられている方が外周囲の総延長力(長くなる。
山設けられている方が外周囲の総延長力(長くなる。
本発明においては1つの穴の面積をlXl0’5un2
以下としている。さらに、網目の穴の総面積が大き過ぎ
ると、固体電解質膜38とゲート電極膜40が接触して
いる面積が小さくなってしま堕起電力が小さくなってし
まう。そこで、この網目の穴の総面積をゲート面積の5
〜30%の範囲とすることにより、高感度の出力を得て
0る。
以下としている。さらに、網目の穴の総面積が大き過ぎ
ると、固体電解質膜38とゲート電極膜40が接触して
いる面積が小さくなってしま堕起電力が小さくなってし
まう。そこで、この網目の穴の総面積をゲート面積の5
〜30%の範囲とすることにより、高感度の出力を得て
0る。
[作用]
第1発明に係る電界効果トランジスタ型酸素センサは、
上述のような構成を有しており、ゲート電極膜40を透
過し、あるいは通過した酸素分子かゲート電極膜40と
固体電解質膜38の界面:;達すると、ここにおいて酸
素分子はゲート電極膜40を構成する金属の触媒作用に
よって、酸素イオンに解離される。二のようにして生成
された酸素イオンと固体電解質膜38が相互作用するこ
とによって、ゲート電極膜40と固体電解質膜38との
界面に酸素分圧に応じた起電力が発生する。
上述のような構成を有しており、ゲート電極膜40を透
過し、あるいは通過した酸素分子かゲート電極膜40と
固体電解質膜38の界面:;達すると、ここにおいて酸
素分子はゲート電極膜40を構成する金属の触媒作用に
よって、酸素イオンに解離される。二のようにして生成
された酸素イオンと固体電解質膜38が相互作用するこ
とによって、ゲート電極膜40と固体電解質膜38との
界面に酸素分圧に応じた起電力が発生する。
そしてこの起電力によって、ソース領域32及びドレイ
ン領域34との間のチャネルの導電率が変調されるため
、酸素分圧の変化に応じた電気信号を取り出すことがで
きる。
ン領域34との間のチャネルの導電率が変調されるため
、酸素分圧の変化に応じた電気信号を取り出すことがで
きる。
ここで、固体電解質膜38として酸化ジルコニウム、酸
化ジルコニウムに酸化イツトリウムを添加したものなど
を採用した場合には、酸素イオンか固体電解質膜38中
に移動分布することによって起電力が発生する。また、
固体電解質膜38として、フッ化ランタン膜、フッ化ラ
ンタンにストロンチウムまたはユーロピウムを混合した
膜においては、ゲート電極膜40の触媒作用で生じた酸
素イオンがフッ化ランタン等のフッ素を遊離させて生じ
たフッ素イオンか固体電解質膜38中を移動し分布する
ことによって起電力が発生する。
化ジルコニウムに酸化イツトリウムを添加したものなど
を採用した場合には、酸素イオンか固体電解質膜38中
に移動分布することによって起電力が発生する。また、
固体電解質膜38として、フッ化ランタン膜、フッ化ラ
ンタンにストロンチウムまたはユーロピウムを混合した
膜においては、ゲート電極膜40の触媒作用で生じた酸
素イオンがフッ化ランタン等のフッ素を遊離させて生じ
たフッ素イオンか固体電解質膜38中を移動し分布する
ことによって起電力が発生する。
そして、この発明においては、参照電極膜50がゲート
絶縁膜36と固体電解質膜38との間に挿入配置されて
いる。この参照電極膜50は固体電解質膜に伝導するイ
オンとの間で化学平衡が成り立つ材料からなっている。
絶縁膜36と固体電解質膜38との間に挿入配置されて
いる。この参照電極膜50は固体電解質膜に伝導するイ
オンとの間で化学平衡が成り立つ材料からなっている。
例えば、参照電極膜50は、錫、鉛、ビスマス等の金属
(代表してAと記す)と、これらの金属と固体電解質膜
38中を伝導するイオン(代表してQと記す)との化合
物との2層構造で構成される。従って、上述の記号で化
学式を表せば、AQとなる。そこで、固体電解質膜38
と参照電極膜50との界面では、関与する電子をe、Q
イオンのイオン値をnとすると、 AQ+n e−A+Q” −(1)で表
される化学平衡か成り立つ。そこで、固体電解質膜38
中をイオンQ0−か伝導して固体電解質膜38と参照電
極膜50との間に到達しても、上述の式(1)の平衡反
応によって、固体電解質膜38と参照電極膜50との間
の電荷量は一定に保たれ、該界面の電位は一定に保たれ
る。このため、固体電解質膜38中をイオンが移動して
もセンサの出力にはドリフトが発生しなくなり、安定し
た出力が早期に得られ、応答速度が速くなる。
(代表してAと記す)と、これらの金属と固体電解質膜
38中を伝導するイオン(代表してQと記す)との化合
物との2層構造で構成される。従って、上述の記号で化
学式を表せば、AQとなる。そこで、固体電解質膜38
と参照電極膜50との界面では、関与する電子をe、Q
イオンのイオン値をnとすると、 AQ+n e−A+Q” −(1)で表
される化学平衡か成り立つ。そこで、固体電解質膜38
中をイオンQ0−か伝導して固体電解質膜38と参照電
極膜50との間に到達しても、上述の式(1)の平衡反
応によって、固体電解質膜38と参照電極膜50との間
の電荷量は一定に保たれ、該界面の電位は一定に保たれ
る。このため、固体電解質膜38中をイオンが移動して
もセンサの出力にはドリフトが発生しなくなり、安定し
た出力が早期に得られ、応答速度が速くなる。
第2発明によれば、ゲート電極膜40には、1つの網目
の穴の面積がI X 10 ’mm2以下の穴が多数形
成されているので、酸素分子はこの穴を通り、ゲート電
極膜40と固体電解質膜38の接する部分に到達し易く
なっている。しかも、穴の面積を非常に小さなものとし
たため、穴の外周囲の総延長は長大なものとなっている
。そこで、酸素分子はゲート電極膜を構成する金属の触
媒作用を受は易く、酸素イオンを効率的に生成すること
ができる。さらに、網目の穴の総面積は、ゲート電極膜
40の部分の面積の5〜30%の範囲となっている。こ
のため、固体電解質膜38とゲート電極膜40との接触
面積が少な過ぎるということはない。そこで、ゲート電
極膜40を構成する金属の触媒作用によって発生する酸
素イオンの数は、網目の穴のない場合に比べて多くなり
、また酸素イオンと固体電解質膜38との相互作用によ
って生ずる起電力が大きくなる。従って、酸素分圧の変
化として取り出される電気信号の大きさが増加し、感度
が増加する。
の穴の面積がI X 10 ’mm2以下の穴が多数形
成されているので、酸素分子はこの穴を通り、ゲート電
極膜40と固体電解質膜38の接する部分に到達し易く
なっている。しかも、穴の面積を非常に小さなものとし
たため、穴の外周囲の総延長は長大なものとなっている
。そこで、酸素分子はゲート電極膜を構成する金属の触
媒作用を受は易く、酸素イオンを効率的に生成すること
ができる。さらに、網目の穴の総面積は、ゲート電極膜
40の部分の面積の5〜30%の範囲となっている。こ
のため、固体電解質膜38とゲート電極膜40との接触
面積が少な過ぎるということはない。そこで、ゲート電
極膜40を構成する金属の触媒作用によって発生する酸
素イオンの数は、網目の穴のない場合に比べて多くなり
、また酸素イオンと固体電解質膜38との相互作用によ
って生ずる起電力が大きくなる。従って、酸素分圧の変
化として取り出される電気信号の大きさが増加し、感度
が増加する。
第2図に網目の穴の総面積のゲート面積に対する割合と
センサ出力電圧変化量の関係について示す。これより、
穴の総面積が5〜30%程度であるどきに、十分なセン
サ出力が得られることが理解される。
センサ出力電圧変化量の関係について示す。これより、
穴の総面積が5〜30%程度であるどきに、十分なセン
サ出力が得られることが理解される。
[発明の効果]
以上説明したように、この発明に係る電界効果トランジ
スタ型酸素センサによれば、参照電極膜がゲート絶縁膜
と固体電解質膜との間に挿入配置されており、この参照
電極膜と固体電解質膜中を伝導するイオンとの間におい
ては、化学平衡が成り立っている。このため、固体電解
質膜中を伝導してきたイオンがこの界面に到達しても、
固体電解質膜と参照電極との間の電荷量は一定に保たれ
、該界面の電位を一定に保つことができる。そこで、固
体電解質膜中のイオンの移動に起因するセンサ出力中の
ドリフト発生を防止することができ、応答速度を速くす
ることができる。
スタ型酸素センサによれば、参照電極膜がゲート絶縁膜
と固体電解質膜との間に挿入配置されており、この参照
電極膜と固体電解質膜中を伝導するイオンとの間におい
ては、化学平衡が成り立っている。このため、固体電解
質膜中を伝導してきたイオンがこの界面に到達しても、
固体電解質膜と参照電極との間の電荷量は一定に保たれ
、該界面の電位を一定に保つことができる。そこで、固
体電解質膜中のイオンの移動に起因するセンサ出力中の
ドリフト発生を防止することができ、応答速度を速くす
ることができる。
また、ゲー]・電極膜を所定の網目構造としたため、酸
素の透過を促進1−1酸素イオンの発生を増加すること
ができ、感度を上昇することができる。
素の透過を促進1−1酸素イオンの発生を増加すること
ができ、感度を上昇することができる。
[実施例コ
以下、この発明の実施例について図面に基づいて説明す
る。
る。
第3図は全体構成を示す斜視図であり、比抵抗20Ωc
fflのp型シリコン基板30の上部にn型のソース領
域32及びN型のドレイン領域34か形成され、その上
にシリコン酸化膜(厚み1000人)及びシリコン窒化
膜(厚み1000人)の2層膜からなるゲート絶縁膜3
6か形成されている。
fflのp型シリコン基板30の上部にn型のソース領
域32及びN型のドレイン領域34か形成され、その上
にシリコン酸化膜(厚み1000人)及びシリコン窒化
膜(厚み1000人)の2層膜からなるゲート絶縁膜3
6か形成されている。
そして、このゲート絶縁膜36の上に参照電極膜50と
して、錫膜52とフッ化錫膜54をこの順番に積層しで
ある。また、この参照電極膜50の上に、室温で酸素分
圧に応じた起電力を発生する固体電解質膜38として、
フッ化ランタン蒸着膜を積層1−1この固体電解質膜3
8上に、ゲート電極膜40として酸素分子を酸素イオン
に変える材料である白金を100人の厚みで形成してい
る。
して、錫膜52とフッ化錫膜54をこの順番に積層しで
ある。また、この参照電極膜50の上に、室温で酸素分
圧に応じた起電力を発生する固体電解質膜38として、
フッ化ランタン蒸着膜を積層1−1この固体電解質膜3
8上に、ゲート電極膜40として酸素分子を酸素イオン
に変える材料である白金を100人の厚みで形成してい
る。
また、ソース領域32にはソース電極46か接続され、
ドレイン領域34にはトレイン電極48か接続されてい
る。さらに、ゲート電極膜40には、網目状の構成とさ
れており、穴44が多数形成されている。
ドレイン領域34にはトレイン電極48か接続されてい
る。さらに、ゲート電極膜40には、網目状の構成とさ
れており、穴44が多数形成されている。
本実施例の電界効果トランジスタ形酸素センサ及び参照
電極膜をない参照例について、その雰囲気を窒素雰囲気
から酸素雰囲気にステップ状に変化させた場合の出力電
圧を第4図に示す。なお、この例では、ゲート電極膜4
0において穴44のないものを使用した。図より、参照
電極膜のない参照例のセンサにおいては、出力か一定値
に到達するのに約40分を要するのに対して、本実施例
に係る参照電極膜50を有するセンサでは、5分以内で
一定値に到達しており、応答時間を10分の1以下にす
ることかできていることか分かる。
電極膜をない参照例について、その雰囲気を窒素雰囲気
から酸素雰囲気にステップ状に変化させた場合の出力電
圧を第4図に示す。なお、この例では、ゲート電極膜4
0において穴44のないものを使用した。図より、参照
電極膜のない参照例のセンサにおいては、出力か一定値
に到達するのに約40分を要するのに対して、本実施例
に係る参照電極膜50を有するセンサでは、5分以内で
一定値に到達しており、応答時間を10分の1以下にす
ることかできていることか分かる。
これは、白金のゲート電極膜40の触媒作用でイオン化
された酸素イオンか、ゲート電極膜40と固体電解質膜
38との界面で相互作用し、固体電解質膜38にフッ素
イオン(F )を遊離し、該フッ素イオンが固体電解
質膜38中を移動して分布するが、本実施例においては
、参照電極膜50が存在するために、ゲート絶縁膜36
と固体電解質膜38との電位が安定しているためである
。
された酸素イオンか、ゲート電極膜40と固体電解質膜
38との界面で相互作用し、固体電解質膜38にフッ素
イオン(F )を遊離し、該フッ素イオンが固体電解
質膜38中を移動して分布するが、本実施例においては
、参照電極膜50が存在するために、ゲート絶縁膜36
と固体電解質膜38との電位が安定しているためである
。
すなわち、参照電極膜36と固体電解質膜38との界面
では、 SnF +2e −Sn+2F −(2)で
表わされる平衡が成り立っている。そして、フッ素イオ
ンの移動にかかわらず、固体電解質膜38の両端の電位
差が酸素濃度によって一定に定まるためである。
では、 SnF +2e −Sn+2F −(2)で
表わされる平衡が成り立っている。そして、フッ素イオ
ンの移動にかかわらず、固体電解質膜38の両端の電位
差が酸素濃度によって一定に定まるためである。
さらに、第5図にゲート電極膜40を網目構造でないも
の(平板電極型センサ)と、1つの網目の穴の形状が正
方形でかつその面積が2.5×1O−5nv2で、網目
の穴の総面積のゲート部分に対する面積が8%である網
目構造の電極を有するもの(A型センサ)、及び1つの
網目の穴がその外周に第6図に示すような凸凹を有する
形状のものとし、その面積が2. 5 X 10−0−
5tnで網目の穴の総面積のゲート部分に対する面積か
8%である網目構造のゲート電極膜を有するもの(B型
センサ)の3つの電界効果トランジスタ型酸素センサを
窒素雰囲気と酸素雰囲気に交互に晒したときの出力の変
化量をを示す。ここで、これらのセンサはいずれも参照
電極膜50を有するものである。
の(平板電極型センサ)と、1つの網目の穴の形状が正
方形でかつその面積が2.5×1O−5nv2で、網目
の穴の総面積のゲート部分に対する面積が8%である網
目構造の電極を有するもの(A型センサ)、及び1つの
網目の穴がその外周に第6図に示すような凸凹を有する
形状のものとし、その面積が2. 5 X 10−0−
5tnで網目の穴の総面積のゲート部分に対する面積か
8%である網目構造のゲート電極膜を有するもの(B型
センサ)の3つの電界効果トランジスタ型酸素センサを
窒素雰囲気と酸素雰囲気に交互に晒したときの出力の変
化量をを示す。ここで、これらのセンサはいずれも参照
電極膜50を有するものである。
第5図より明らかなように、A型センサでは、平板電極
型センサに比べて出力の変化量が1.4倍以上増加して
いる。これより、網目構造とすることにより感度が上昇
できることか理解される。
型センサに比べて出力の変化量が1.4倍以上増加して
いる。これより、網目構造とすることにより感度が上昇
できることか理解される。
さらに、網目の穴かその外周に第6図に示す凸凹を有す
る形状としたB型センサでは、A型センサよりも出力の
変化量が大きく、網目の穴の外周に凸凹を設けたことに
よる効果を示している。
る形状としたB型センサでは、A型センサよりも出力の
変化量が大きく、網目の穴の外周に凸凹を設けたことに
よる効果を示している。
以上のように、本発明によれば速い応答速度を有し、か
つ高感度の電界効果トランジスタ型酸素センサを得るこ
とができる。
つ高感度の電界効果トランジスタ型酸素センサを得るこ
とができる。
第1図は本発明の電界効果トランジスタ型酸素センサの
構成を示す概略断面図、 第2図は網目構造における網目の穴のゲート部分に対す
る割合がセンサ圧力に及はす影響を示す特性図、 第3図は網目構造のゲート電極膜を宜するセンサの概略
斜視図、 第4図は参照電極膜を有さないセンサと参照電極膜を有
するセンサの応答曲線の比較を示す特性図、 第5図は従来の電界効果トランジスタ型酸素センサ及び
本発明による電界効果トランジスタ型酸素センサを窒素
雰囲気と酸素雰囲気に交互に晒した時の出力変化の比較
を示す特性図、 第6図はゲート電極膜における網目の穴の構成を示す平
面図、 第7図は従来の電界効果トランジスタの構造を示す概略
断面図である。 30 ・・・ 半導体基板 32 ・・・ ソース領域 34 ・・・ ドレイン領域 36 ・・・ ゲート絶縁膜 固体電解質膜 ゲート電極膜 ・・ チャネル ・・ 網目の穴 参照電極膜
構成を示す概略断面図、 第2図は網目構造における網目の穴のゲート部分に対す
る割合がセンサ圧力に及はす影響を示す特性図、 第3図は網目構造のゲート電極膜を宜するセンサの概略
斜視図、 第4図は参照電極膜を有さないセンサと参照電極膜を有
するセンサの応答曲線の比較を示す特性図、 第5図は従来の電界効果トランジスタ型酸素センサ及び
本発明による電界効果トランジスタ型酸素センサを窒素
雰囲気と酸素雰囲気に交互に晒した時の出力変化の比較
を示す特性図、 第6図はゲート電極膜における網目の穴の構成を示す平
面図、 第7図は従来の電界効果トランジスタの構造を示す概略
断面図である。 30 ・・・ 半導体基板 32 ・・・ ソース領域 34 ・・・ ドレイン領域 36 ・・・ ゲート絶縁膜 固体電解質膜 ゲート電極膜 ・・ チャネル ・・ 網目の穴 参照電極膜
Claims (2)
- (1)上部にソース領域及びドレイン領域が形成された
半導体基板と、 この半導体基板の上記ソース領域及びドレイン領域の上
面を覆って形成されたゲート絶縁膜と、このゲート絶縁
膜上に形成された室温で酸素イオン量に応じた起電力を
発生する材料からなる固体電解質膜と、 この固体電解質膜上に形成され、酸素分子を酸素イオン
に解離する金属材料からなるゲート電極膜と、 上記ゲート絶縁膜と固体電解質膜との間に挿入配置され
、上記固体電解質膜中を伝導するイオンとの間で化学平
衡が成り立つ材料からなる参照電極膜と、 を有することを特徴とする電界効果トランジスタ型酸素
センサ。 - (2)請求項(1)記載の酸素センサにおいて、上記ゲ
ート電極膜は網目構造の金属材料からなり、1つの網目
の穴の面積は1×10^−^4mm^2以下であり、網
間の穴の総面積はゲート面積の5〜30%であることを
特徴とする電界効果トランジスタ型酸素センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2076259A JPH03274452A (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | 電界効果トランジスタ型酸素センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2076259A JPH03274452A (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | 電界効果トランジスタ型酸素センサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03274452A true JPH03274452A (ja) | 1991-12-05 |
Family
ID=13600217
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2076259A Pending JPH03274452A (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | 電界効果トランジスタ型酸素センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03274452A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1325921C (zh) * | 2005-05-27 | 2007-07-11 | 东南大学 | 抗辐射电场微传感器 |
CN1330968C (zh) * | 2005-05-27 | 2007-08-08 | 东南大学 | 基于p型金属氧化物半导体管结构的微电场传感器 |
JP2017053794A (ja) * | 2015-09-11 | 2017-03-16 | 株式会社東芝 | 電気化学センサ |
-
1990
- 1990-03-26 JP JP2076259A patent/JPH03274452A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1325921C (zh) * | 2005-05-27 | 2007-07-11 | 东南大学 | 抗辐射电场微传感器 |
CN1330968C (zh) * | 2005-05-27 | 2007-08-08 | 东南大学 | 基于p型金属氧化物半导体管结构的微电场传感器 |
JP2017053794A (ja) * | 2015-09-11 | 2017-03-16 | 株式会社東芝 | 電気化学センサ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4638346A (en) | Field effect transistor-type moisture sensor | |
JPS5825221B2 (ja) | Fet比較電極 | |
US4698657A (en) | FET type sensor and a method for driving the same | |
JPH1062383A (ja) | 電気化学センサ | |
US4356150A (en) | Humidity sensor with electrical rejection of contaminants | |
JPH03274452A (ja) | 電界効果トランジスタ型酸素センサ | |
JPS5949542B2 (ja) | 流体中の特定物質の濃度を測定するためのセンサ | |
JP3167022B2 (ja) | ガスセンサ | |
JPS6312252B2 (ja) | ||
JPS63128246A (ja) | 電界効果トランジスタ型酸素ガスセンサ | |
TWI342392B (en) | Ph-ion selective field effect transistor (ph-isfet) with a miniaturized silver chloride reference electrode | |
JPS6326569A (ja) | イオン選択性電極装置 | |
JP2926912B2 (ja) | 酸素センサ | |
JPH0210146A (ja) | 感湿素子およびその動作回路 | |
JPH07167833A (ja) | ガスセンサ | |
JPH02249962A (ja) | Fetセンサ | |
JP2501856B2 (ja) | 電気化学式センサ | |
JPH01216250A (ja) | 電気化学式センサ | |
JPH06265516A (ja) | 酸素湿度センサ | |
JPH01216260A (ja) | 電気化学式センサ | |
JPS62250352A (ja) | 電界効果トランジスタ型酸素ガスセンサ | |
JPH02216046A (ja) | 電気化学式センサ | |
JPH04106465A (ja) | 電気化学式ガスセンサ | |
JPH0425753A (ja) | ガスセンサ | |
JPH04208848A (ja) | 電気化学式ガスセンサ及びその製法 |