JPS62216351A - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
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- JPS62216351A JPS62216351A JP5974586A JP5974586A JPS62216351A JP S62216351 A JPS62216351 A JP S62216351A JP 5974586 A JP5974586 A JP 5974586A JP 5974586 A JP5974586 A JP 5974586A JP S62216351 A JPS62216351 A JP S62216351A
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- JP
- Japan
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- integrated circuit
- external ground
- diodes
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- line
- Prior art date
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 11
- 230000006378 damage Effects 0.000 abstract description 7
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract description 5
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0248—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
- H01L27/0251—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
- H01L27/0255—Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using diodes as protective elements
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
半導体集積回路の外部接地線の間に互いに逆方向に接続
したダイオードを設けることにより集積回路の静電気破
壊防止を行う。
したダイオードを設けることにより集積回路の静電気破
壊防止を行う。
本発明は半導体集積回路の静電気破壊に対する外部接地
線間の保護回路に関する。
線間の保護回路に関する。
近年、半導体集積回路が多機能化するにつれて、集積回
路内部の外部接地線を分離するようになって来ている。
路内部の外部接地線を分離するようになって来ている。
例えば、ドライブ部とリファレンス部の間、アナログ部
とデジタル部の間の接地線を分離し、接地電位が互いに
干渉しないようにしている。
とデジタル部の間の接地線を分離し、接地電位が互いに
干渉しないようにしている。
従来の半導体集積回路は外部接地線間には何等保護回路
を有していないため、取扱い中、外部から分離された接
地線間に静電気が入力されると素子の破壊が生じていた
。
を有していないため、取扱い中、外部から分離された接
地線間に静電気が入力されると素子の破壊が生じていた
。
本発明はこの問題を解決しようとするものである。
第3図は従来例における集積回路の外部接地線接続図で
ある。
ある。
この図において、1はP型Si基板で、これには外部接
地線22が接続され、この外部接地線2□の他端は電極
パッド3□に繋がっている。
地線22が接続され、この外部接地線2□の他端は電極
パッド3□に繋がっている。
又、Si基板1の上にはN型のエピタキシャル層があり
、これにP型の分離領域5を形成しPN接合分離を行っ
ている。この分離された島領域内に素子形成が行われ、
例えば、N型のエミッタ4が接地されるとせば、エミッ
タ4に電極パッド31をもつ外部接地線2Iが接続され
る。
、これにP型の分離領域5を形成しPN接合分離を行っ
ている。この分離された島領域内に素子形成が行われ、
例えば、N型のエミッタ4が接地されるとせば、エミッ
タ4に電極パッド31をもつ外部接地線2Iが接続され
る。
電極パッド3い32はボンディングワイヤにより外部端
子と接続される。
子と接続される。
若し、このような接地線2い2□をもつ集積回路のトラ
ンジスタに高圧の静電気が入力すると、エミッタ4から
分N vj域5にがけて、最も高い電界がかかるため、
この部で破壊が生ずる。
ンジスタに高圧の静電気が入力すると、エミッタ4から
分N vj域5にがけて、最も高い電界がかかるため、
この部で破壊が生ずる。
このように外部接地線2に高い静電気電圧がかかるのは
、取扱い中でのことである。
、取扱い中でのことである。
従来の集積回路では、外部接地線と入力線等との間には
保護回路を設けていたが、接地線相互間には未だ保護回
路を設けたものはなく、ために静電気破壊が起こり対策
が望まれていた。
保護回路を設けていたが、接地線相互間には未だ保護回
路を設けたものはなく、ために静電気破壊が起こり対策
が望まれていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
半導体集積回路の取扱い中の外部接地線間の静電気破壊
を防止する。
を防止する。
上記問題点の解決は、素子と複数の電極パッドを接続す
る、複数の外部接地線を有する半導体集積回路において
、前記複数の外部接地線の前記電極バンドに近い部分に
、互いに逆方向に接続したダイオード(6)を接続して
なる本発明による半導゛体集積回路により達成される。
る、複数の外部接地線を有する半導体集積回路において
、前記複数の外部接地線の前記電極バンドに近い部分に
、互いに逆方向に接続したダイオード(6)を接続して
なる本発明による半導゛体集積回路により達成される。
集積回路の外部接地線において、入力端子に近い所にダ
イオードの保護回路を接続しているので、取扱い中に大
きな静電気電圧がかかっても、ダイオードを通してバイ
パスされ内部のトランジスタは保護され破壊されない。
イオードの保護回路を接続しているので、取扱い中に大
きな静電気電圧がかかっても、ダイオードを通してバイ
パスされ内部のトランジスタは保護され破壊されない。
第1図は本発明における集積回路の外部接地線接続図で
ある。
ある。
この図において、第3図と同じ名称のものは同じ符号で
示す。
示す。
この図において、外部接地線回路の部分以外は第3図の
従来例におけるものと全く同じである。
従来例におけるものと全く同じである。
エミッタ4に接続される外部接地線2.と、Si基板1
に接続される外部接地線2□との間に互いに逆向きに接
続されたコレクタ・ペース ショート型ダイオード6a
、6bを備えていることが異なる。
に接続される外部接地線2□との間に互いに逆向きに接
続されたコレクタ・ペース ショート型ダイオード6a
、6bを備えていることが異なる。
これら2個のダイオード6a、 6bがあるため、取扱
い中に外部より高い静電気電圧がががっても内部のトラ
ンジスタにまで及ばず、保護される。
い中に外部より高い静電気電圧がががっても内部のトラ
ンジスタにまで及ばず、保護される。
第1図における集積回路のバイポーラトランジスタの絶
縁分離はPN接合によるものについて述べたが、この絶
縁分離が誘電体絶縁分離によるものでも、静電気に対す
る保護方法は何等変わりない。
縁分離はPN接合によるものについて述べたが、この絶
縁分離が誘電体絶縁分離によるものでも、静電気に対す
る保護方法は何等変わりない。
第2図は本発明における外部接地線n個の場合の接続図
である。
である。
集積回路に多くの外部接地線を有する場合は、例えばn
個の外部接地線の場合は、外部接地線2゜と外部接地線
22の間に互いに逆向きのダイオード6a+ 、6b+
を接続する。このようにして、外部接地線2.、 、
211の間にはダイオード6a、l−1,6b7−0を
挿入する。斯くすることにより多くの外部接地線を有す
る集積回路に対しても、破壊防止をすることが出来る。
個の外部接地線の場合は、外部接地線2゜と外部接地線
22の間に互いに逆向きのダイオード6a+ 、6b+
を接続する。このようにして、外部接地線2.、 、
211の間にはダイオード6a、l−1,6b7−0を
挿入する。斯くすることにより多くの外部接地線を有す
る集積回路に対しても、破壊防止をすることが出来る。
又、この方法はバイポーラトランジスタによる集積回路
についてのみならず、又FETによる集積回路について
も適用し得るものである。
についてのみならず、又FETによる集積回路について
も適用し得るものである。
半導体集積回路の外部接地線の間にダイオードによる保
護回路を設けて、取扱い中における静電気による破壊か
ら集積回路を保護する。
護回路を設けて、取扱い中における静電気による破壊か
ら集積回路を保護する。
第1図は本発明における集積回路の外部接地線接続図、
第2図は本発明における外部接地線n個の場合の接続図
、 第3図は従来例における集積回路の外部接地線接続図で
ある。 これら図において、 1はSi基板、 21.2□、・・・2oは外部接地線、3い3□、・・
・五は電極パッド、 4はエミッタ、 5はP型分離領域、 6a、 6bはダイオード、
、 第3図は従来例における集積回路の外部接地線接続図で
ある。 これら図において、 1はSi基板、 21.2□、・・・2oは外部接地線、3い3□、・・
・五は電極パッド、 4はエミッタ、 5はP型分離領域、 6a、 6bはダイオード、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 素子と複数の電極パッドを接続する、複数の外部接地線
を有する半導体集積回路において、前記複数の外部接地
線(2)の前記電極パッド(3)に近い部分に、 互いに逆方向に接続したダイオード(6)を接続してな
る ことを特徴とする半導体集積回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5974586A JPS62216351A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5974586A JPS62216351A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 半導体集積回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62216351A true JPS62216351A (ja) | 1987-09-22 |
JPH057870B2 JPH057870B2 (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=13122076
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5974586A Granted JPS62216351A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 半導体集積回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62216351A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6336557A (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-17 | Nec Corp | 相補型mis集積回路 |
JPH01257348A (ja) * | 1988-04-07 | 1989-10-13 | Fujitsu Ltd | スタンダード・セル集積回路装置 |
JPH01273345A (ja) * | 1988-04-26 | 1989-11-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 集積回路 |
JPH0228362A (ja) * | 1988-06-10 | 1990-01-30 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体集積回路装置 |
JPH02251169A (ja) * | 1989-03-24 | 1990-10-08 | Nec Corp | 半導体集積回路装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5950559A (ja) * | 1982-09-16 | 1984-03-23 | Hitachi Ltd | 半導体装置保護回路 |
-
1986
- 1986-03-18 JP JP5974586A patent/JPS62216351A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5950559A (ja) * | 1982-09-16 | 1984-03-23 | Hitachi Ltd | 半導体装置保護回路 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6336557A (ja) * | 1986-07-30 | 1988-02-17 | Nec Corp | 相補型mis集積回路 |
JPH01257348A (ja) * | 1988-04-07 | 1989-10-13 | Fujitsu Ltd | スタンダード・セル集積回路装置 |
JPH01273345A (ja) * | 1988-04-26 | 1989-11-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 集積回路 |
JPH0228362A (ja) * | 1988-06-10 | 1990-01-30 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体集積回路装置 |
JPH02251169A (ja) * | 1989-03-24 | 1990-10-08 | Nec Corp | 半導体集積回路装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH057870B2 (ja) | 1993-01-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |