JPS62212919A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、情報産業分野等に応用される高記録密度の磁
気記録媒体に関する。

従来の技術 磁気ディスク、磁気テープ等に供せられる磁気記録媒体
の開発を目的に、従来γ−Ｆ　ｅ　２０３．　Ｃ。

含有γ−Ｆ　ｅ　２０３またはＣｒＯ２等の強磁性粉末
を有機バインダー中に分散して作製する塗布型磁気記録
媒体に代わり、現在さらに高密度化を目的と２　へ−２ して、非磁性基板上に直接強磁性金属薄膜をメッキ法、
スパッタリング法、真空蒸着法、イオンブレーティング
法等によって形成する金属薄膜型磁気記録媒体が活発に
研究されている。

しかし力から、前記の金属薄膜型磁気記録媒体は、信号
の記録再生の際、高速相対運動下で磁気ヘッド等との接
触により、摩擦や摩耗によって不安定な走行性が生じ、
あるいは摩耗粉や破損が発生し易く長期の使用に耐えな
い。従って、磁気記録媒体は円滑な走行性と耐摩耗性が
使用環境条件下において持続することが実用化において
強く望まれている。

このため、従来強磁性金属薄膜上に保護膜を設けて耐摩
擦耐摩耗性の改良を行なうことにより改善がなされてお
り、種々の提案の中でも例えば高級脂肪酸やフッ素系ポ
リマー等の塗布膜がよく見られる。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、これらは走行中に膜が剥離したりあるい
は変質するなどの現象が見られ実用化に３　　、、− は不十分な点が多い。

したがって、本発明はかかる点にかんがみ、磁気ヘッド
等との良好な潤滑性を有しかつ耐摩耗にすぐれた保護膜
を備えることによシ、走行安定性にすぐれたかつ耐久性
を有する磁気記録媒体を提供することを目的としている
。

問題点を解決するだめの手段 非磁性基板上に設けた強磁性金属薄膜の表面部にｐ−キ
シリレンまたはその誘導体の重合膜を保護膜として形成
する。

作　　用 前記重合膜の形成によりそれ自身が有する低摩擦性の効
果と耐摩耗性の改善により、良好な走行性と耐久性にす
ぐれた磁気記録媒体が得られる。

このことはおそらく、ｐ−キシリレンまたはその誘導体
の重合膜が機械的強度などの点に良く、また均一な薄膜
形成がなされているためであろうと考えられる。

実施例 図は、本発明の磁気記録媒体の断面図である。

図において１は非磁性基板、２は強磁性金属薄膜、３は
ｐ−キシリレンまたはその誘導体の重合膜からなる保護
膜である。

本発明の磁気記録媒体に使用し得る非磁性基板１として
は、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカ
ーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリ酢酸セルロース、およびポリ
塩化ビニル等の高分子材料、非磁性金属材料、ガラス、
磁器等のセラミック材料等周知の材料からなるフィルム
、板等がある。

また強磁性金属薄膜２を形成する強磁性材料としては、
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉから選ばれる少なくとも１種以上の金
属、またはこれらとＭｎ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｐ。

Ｖ、Ｓｍ、Ｂｉ等またはこれらの酸化物を組み合わせた
合金があり、中でもＣｏ、Ｃｒ、Ｎｉから選ばれる少な
くとも２種の元素で構成される金属薄膜は高い磁気異方
性エネルギーを有していることや耐食性などで好ましく
、これらは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレ
ーティング法、メンキ法５へ一／゛ 等の方法で形成させることができる。なお本発明に用い
る強磁性金属薄膜２は当然前記の組成に限定されないこ
とは言うまでもない。

本発明において、保護膜３は、ｐ−キシリレンまたはそ
の誘導体の重合膜であり、下記の一般式で示され、Ｒは
−ＣＨ３，−Ｃ２Ｈ５，−Ｃ３Ｈ７などのアルキル基、
−ＣＨＯＨ，−Ｃ２Ｈ５０Ｈなどｏ　ヒ）”０キシアル
キル基、−ＣＨ２０ＣＨ３，−ＣＨ２０ＣＨ３−０２Ｈ
５０ＣＨ３などのアルコキシアルキル基、−０ＣＨ３，
−○Ｃ２Ｈ５などのアルコキシ基、−ＣＯＯＣＨ３，−
ＣＯＯＣ２Ｈ６，などノカルホアルコキシ基、カルボキ
シル基、水酸基、−ＣＨ２ＮＨ２゜−ＮＨ２，−Ｃ２Ｈ
５ＮＩＨ２などのアミン基、シアン基、ニトロ基、Ｆ、
ＣＩ！、Ｂｒ、Ｉのハロゲン基、アリール基またはアル
ケニル基であり、それぞれを単独または複数個有してい
る重合膜である。ｎは１０〜１ｏｏＯｏであり好ましく
は４０００以上である。

そしてこれらは気相熱分解法によって容易に室温６ペー
ジ で成膜されるため記録媒体に損傷を与えることなく所望
の膜厚に形成される。

これらの重合膜は物性的にも良く例えばポリ（ジク）ζ
ｐ−キシリレン）では引張シ強度が約７ｏｏＨｆ／ｃ４
．分子凝集エネルギーが１１３．３ｃａｌ／ｃｒｌであ
ることから耐摩耗性にも有効と考えられ、化学的安定性
や耐環境性にも良いことからすぐれた特性が得られるも
のと思われる。

以下、実施例で詳述する。

実施例１ 膜厚２ｏμｍのポリイミドフィルム基板上に、真空連続
蒸着法でＣｏ−０ｒ（原子数比Ｃｏ：Ｃｒ　＝８＝２）
で膜厚１１００Ａ　（ＡＥＳ分析）の強磁性金属薄膜を
作製しサンプルとした（サンプル屋１）。

これをさらに気相熱分解法によりｐ−キシリレンダイマ
ーを０．５Ｔｏｒｒ、６８０℃の条件で熱分解し２６℃
、　ｏ、１Ｔｏｒｒ下でおよそ３６０Ａのポリ（ｐ−キ
シリレン）膜を形成した（サンプル屋２）そして比較の
ためサンプル７ｆ１１の試料にステアリン酸をクロロホ
ルムで１０倍（ｗ　ｔ％）希釈した溶７　ベーノ 液とポリフｏロポリエーテル（Ｋｌｙｔｏｚｌ　５７　
ＦＳ。

Ｄｕｐｏｎｔ　）　ヲ）ジクロロトリフロロエタンで１
００倍（ｗ　ｔ％）希釈した溶液をスピンコードしそれ
ぞれ膜厚３３０Ａ、３５０Ａ（エリプソメトリ−）積層
した。

以上のサンプルを、動摩擦係数の測定で比較評価し、そ
の結果を第１表に示す。

第１表 なお評価装置は、往復動型の動摩擦係数針であり、ヘッ
ドにφ３．２５　ｉｎの鋼球（ＳＵＪｌ）を用い、荷重
（Ｐ）−１０ｑｆ、走行速度Ｍ　＝　１．０ｔｒａｎ　
／　ｓｅｃで試験した。

第１表によると、サンプル煮１は、初期からμ値が大き
く、約３０Ｐａｓｓ以後では０．６６　と上昇して金属
の摩耗粉も激しく見られた。そして、サンプル扁３，４
は耐摩擦性こそ０．２以下と小さく改良されるものの走
行が継続するにつれ傷が発生し３００　Ｐａ５ｓではと
もにμ値が上昇するなど良くなかった。

ところがポリ（ｐ−キシリレン）を保護膜としたサンプ
ルＡ２では初期からμ値が小さく３０゜Ｐａ５ｓ後にお
いても０．２３でほとんど変化なく、かつ表面観察にお
いても異常がないなど良好な結果であった。

従って、強磁性金属薄膜の上に保護膜としてポリ（ｐ−
キシリレン）積層することにより走行性の良い耐久性に
すぐれた磁気記録媒体が得られることが分かる。

実施例２ 膜厚３６μｍのポリアミドフィルム基板上に実施例１と
同様の金属組成で、膜厚８５０Ａの強磁性金属薄膜を形
成した。なお強磁性金属薄膜の蒸着中、酸素を導入し２
０ＯＡの酸化被膜層を形成９７、− した（サンプルＡ５）。

これにポリ（ジク・（ｐ−キシリレン）またはポリ（エ
チル−ｐ−キシリレン）をおよそ４０ｏＡまたは３２Ｏ
Ａ積層したサンプルを作製した（サンプルＩ６６、扁７
）。

そして比較のためサンプル煮６の表面にステアリン酸を
１０−４Ｔｏｒｒ下、室温で蒸着しおよそ３００八積層
した（サンプルＡ８）。そしてこれらを接触角の測定と
ともに、第２表に示す試験条件で動摩擦係数を測定した
。

第２表 １ｏ　〆・−５ 以上のことから、これらの中で、サンプルＡ６は実施例
１と同様にμ値が高く摩耗粉も多くし良くなかったのに
対し、サンプルＡ８は接触角が高いにもかかわらず耐摩
耗性に欠けているため良好な走行性に持続性が見られず
μ値が上昇する。

これに対しサンプルＡ　６　、７　、は接触角も８８０
゜９ｏＯと高く走行後においても摩耗粉が発生せず耐摩
擦耐摩耗性にもすぐれていた。

このことからポリ（ジクロロ−ｐ−キシリレン）または
ポリ（エチル−ｐ−キシリレン）のようなｐ−キシリレ
ンまたはその誘導体から成膜される重合膜を保護とした
磁気記録媒体は耐摩擦、耐摩耗性にすぐれた記録媒体と
して実現でき、また強磁性金属薄膜の表面部を酸化処理
した場合でも同様の効果が得られることが明らかである
。

実施例３ 第３表に示す構成のサンプルをピン−ディスク型の試験
機で評価した。この時、サンプルＡ　Ｉ　０　。

１１．１５の金属薄膜は表面酸化したものであり、保護
膜のポリ（ｐ−キシリレン）は一般式の置換１１ベー゛ 基Ｒのみを示し、それぞれ組成の下に膜厚を０であられ
している。また試験条件は、φ３ｍｍ　Ｓ　Ｕ■１　。

Ｐ　＝１０ｇｆ　、Ｖ＝ｓ、○ｍ／ｓ　　で、１２０ｍ
１ｎ後のμ値と表面観察をおこなった。

第３表 第３表によるとサンプルＡ９からＡ、　１５のいずれも
μ値が０．２前後と小さく、また表面観察においても走
行傷がほとんどみられないなどすぐれた特性を有してい
ることがわかる。またこのことが保護膜の膜厚５００Ａ
以内で達せられることからスペーシングロスに影響を与
えない範囲で可能な磁気記録媒体であると言える。

発明の効果 本発明によれば、実用化に可能な耐摩擦、耐摩耗性が改
良された磁気記録媒体が得られる。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の実施例における磁気記録媒体の断面図であ
る。 １・・・・・・非磁性基板、２・・・・・・強磁性金属
薄膜、３・・・・・・保護膜。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基板上に設けた強磁性金属薄膜の表面部に
   ｐ−キシリレンまたはその誘導体の重合膜を保護膜とし
   て形成したことを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）重合膜の膜厚が５００Å以下である特許請求の範
   囲第１項記載の磁気記録媒体。