JPS6219855A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS6219855A JPS6219855A JP60158207A JP15820785A JPS6219855A JP S6219855 A JPS6219855 A JP S6219855A JP 60158207 A JP60158207 A JP 60158207A JP 15820785 A JP15820785 A JP 15820785A JP S6219855 A JPS6219855 A JP S6219855A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposed
- photomask
- upper frame
- frame
- light transmissive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は露光装置に関するものである。
被露光物を露光装置にて露光する場合、才３図に断面図
で示すように、被露光物２とフォトマスク３とを合わせ
て光透過性板１とこれを囲う装置枠５内へ挿入し、装置
枠５を減圧し、被露光物２とフォトマスク３とを減圧力
に相当する大気圧で密着させたのち、光源を点灯させて
フォトマスク３のパターンを被露光物２へ転写する。こ
の様な公知の露光装置においては、才４図に断面図で示
すように、光透過性板１に異物７が付着したり、あるい
は傷８が発生すると矛５図に断面図で示すように異物７
および傷８は露光時に光を遮断または拡散させてしまう
ため、フォトマスク３のパターンが正確に被露光物２へ
転写されな（なり、才５図の被露光物２に示すように斜
線部分しか露光されていないような欠陥のあるパターン
ができてしまうことになる。さらにこの様な異物および
傷等はそのままの位置にとどまって存在するため、この
露光装置で露光するすべての製品に同様な欠陥不良を発
生させて多量の不良品を発生させてしまうという欠点が
あった。
で示すように、被露光物２とフォトマスク３とを合わせ
て光透過性板１とこれを囲う装置枠５内へ挿入し、装置
枠５を減圧し、被露光物２とフォトマスク３とを減圧力
に相当する大気圧で密着させたのち、光源を点灯させて
フォトマスク３のパターンを被露光物２へ転写する。こ
の様な公知の露光装置においては、才４図に断面図で示
すように、光透過性板１に異物７が付着したり、あるい
は傷８が発生すると矛５図に断面図で示すように異物７
および傷８は露光時に光を遮断または拡散させてしまう
ため、フォトマスク３のパターンが正確に被露光物２へ
転写されな（なり、才５図の被露光物２に示すように斜
線部分しか露光されていないような欠陥のあるパターン
ができてしまうことになる。さらにこの様な異物および
傷等はそのままの位置にとどまって存在するため、この
露光装置で露光するすべての製品に同様な欠陥不良を発
生させて多量の不良品を発生させてしまうという欠点が
あった。
従来、光透過性膜あるいは光透過性板は上記の如く減圧
による密着露光装置においては欠（ことのできない構成
要素であり、容易に除去できるものではないため、清浄
頻度を多くしたり、傷をつげないような慎重な作業を行
うと℃・うような消極的な対策をとる以外にな（、しば
しば製品の歩留りを低下させる大きな要因になっていた
。
による密着露光装置においては欠（ことのできない構成
要素であり、容易に除去できるものではないため、清浄
頻度を多くしたり、傷をつげないような慎重な作業を行
うと℃・うような消極的な対策をとる以外にな（、しば
しば製品の歩留りを低下させる大きな要因になっていた
。
なおこの分野の先行技術としては、たとえば株式会社オ
ーク製作所発行のカタログ「写真製版用光源装置ジェッ
トプリンタ２０００Ｊに記載された技術などがある。
ーク製作所発行のカタログ「写真製版用光源装置ジェッ
トプリンタ２０００Ｊに記載された技術などがある。
本発明の目的とするところは、上記如き従来の問題点を
除去するものであり、光透過性膜あるいは光透過性板に
付着した異物および発生した傷が原因で発生するパター
ン欠陥を防止するような露光装置を提供することにある
。
除去するものであり、光透過性膜あるいは光透過性板に
付着した異物および発生した傷が原因で発生するパター
ン欠陥を防止するような露光装置を提供することにある
。
本発明の特徴とするところは、光透過性膜あるいは光透
過性板を廃止し、フォトマスク自身が該光透過性膜また
は光透過性板を兼ねるような枠構造を設けて、光透過性
膜または光透過性板に付着した異物および発生した傷が
原因で多量のパターン不良品を作ってしまう要因を除去
することである。
過性板を廃止し、フォトマスク自身が該光透過性膜また
は光透過性板を兼ねるような枠構造を設けて、光透過性
膜または光透過性板に付着した異物および発生した傷が
原因で多量のパターン不良品を作ってしまう要因を除去
することである。
すなわち本発明は、フォトマスクの上側に設けられた額
縁状の枠であってこのフォトマスクと枠状の真空バンキ
ングを介して接する上側枠と、この上側枠の下側形状に
対応して別の真空パッキングを介して接する下側枠と、
少なくともこれらフォトマスク、上側枠および下側枠で
囲まれる空間を減圧して上側枠をフォトマスクと下側枠
に密着せしめる減圧手段とを有する露光装置を特徴とす
る。
縁状の枠であってこのフォトマスクと枠状の真空バンキ
ングを介して接する上側枠と、この上側枠の下側形状に
対応して別の真空パッキングを介して接する下側枠と、
少なくともこれらフォトマスク、上側枠および下側枠で
囲まれる空間を減圧して上側枠をフォトマスクと下側枠
に密着せしめる減圧手段とを有する露光装置を特徴とす
る。
次に本発明の実施例につき図面を用いて詳細に説明する
。
。
、？１図および矛２図は本発明の一実施例を示す断面図
である。才１図において、フォトマスク３と被露光物２
は合わせてバックシート１２上に置かれている。一方、
上側枠１０と下側枠１６にはそれぞれ真空パツキン１１
が取付けられており、上側枠１０に取付けられた真空パ
ッキング１１しｉフォトマスク３と密着し、下側枠１５
に取付けられた真空パツキン１１は上側枠と密着するよ
うに配置しである。またバックシート１２はゴム等の柔
軟性のある材料とする。このようにフォトマスク３と被
露光物２が載置された状態で、上側枠１０を下側枠１３
上へ降ろすと、バックシート１２、真空パッキング１１
．上側枠１０および被露光物２で囲まれる空間が密閉さ
れた空間となる。
である。才１図において、フォトマスク３と被露光物２
は合わせてバックシート１２上に置かれている。一方、
上側枠１０と下側枠１６にはそれぞれ真空パツキン１１
が取付けられており、上側枠１０に取付けられた真空パ
ッキング１１しｉフォトマスク３と密着し、下側枠１５
に取付けられた真空パツキン１１は上側枠と密着するよ
うに配置しである。またバックシート１２はゴム等の柔
軟性のある材料とする。このようにフォトマスク３と被
露光物２が載置された状態で、上側枠１０を下側枠１３
上へ降ろすと、バックシート１２、真空パッキング１１
．上側枠１０および被露光物２で囲まれる空間が密閉さ
れた空間となる。
そこで、真空吸引口６からこの密閉空間内の空気を減圧
すると才２図に示した状態となり、この密閉空間の減圧
量に相当する大気圧がバンクシート１２に加わりフォト
マスク３と被露光物２が密着する。以上説明したような
構造を有する露光装置によれば、光透過性膜あるいは光
透過性板を使用せずにフォトマスクと被露光物を大気圧
により密着露光することが可能である。
すると才２図に示した状態となり、この密閉空間の減圧
量に相当する大気圧がバンクシート１２に加わりフォト
マスク３と被露光物２が密着する。以上説明したような
構造を有する露光装置によれば、光透過性膜あるいは光
透過性板を使用せずにフォトマスクと被露光物を大気圧
により密着露光することが可能である。
なお上側枠１０は額縁状の形状をした枠であり、七の材
質は従来の装置枠５と同じ材料でよい。
質は従来の装置枠５と同じ材料でよい。
また上側枠１０および下側枠１３に取り付ける真空パッ
キング１１は枠形状となっており、その材質はゴム等一
般の真空パッキングに用いる材料でよい。また真空パッ
キング１１はフォトマスク３と上側枠１０および上側枠
１０と下側枠１３との間に介在させるパッキング治具で
あり、密着させるどちら側に取り付けられていてもよく
、あるいは取り付けられていな（でもよい。
キング１１は枠形状となっており、その材質はゴム等一
般の真空パッキングに用いる材料でよい。また真空パッ
キング１１はフォトマスク３と上側枠１０および上側枠
１０と下側枠１３との間に介在させるパッキング治具で
あり、密着させるどちら側に取り付けられていてもよく
、あるいは取り付けられていな（でもよい。
以上述べた如く、本発明によれば次なる効果がある。
（１） フォトマスクが光透過性膜あるいは光透過性
板を兼ねた構造になっているため、光透過性膜あるいは
光透過性板に起因するパターン欠陥不良を防止すること
ができる。
板を兼ねた構造になっているため、光透過性膜あるいは
光透過性板に起因するパターン欠陥不良を防止すること
ができる。
（２） 光透過性膜あるいは光透過性板を使用してい
ないため、これらの清浄及び交換等の保守工数を低減で
きる。
ないため、これらの清浄及び交換等の保守工数を低減で
きる。
（３） 光透過性膜あるいは光透過性板を使用してい
ないため、特に平行光源を用いた露光装置においては光
を拡散させる要素が除去できるため、解像度を向上させ
ることができる。
ないため、特に平行光源を用いた露光装置においては光
を拡散させる要素が除去できるため、解像度を向上させ
ることができる。
矛１図は本発明の一実施例である露光装置の減圧前の断
面図、才２図は矛１図に示す露光装置の減圧後の断面図
、才３図は従来の露光装置の断面図、矛４図は、１′Ｆ
５図の露光装置に障害物が生じた状態を示す断面図、矛
５図は矛４図の障害物によって露光障害が生じた状態を
示す断面図である。 １・・・光透過性板、２・・・被露光物、５・・・フォ
トマスク、１０・・・上側枠、１１・・・真空パッキン
グ、１２・・・バックシート、１３・・・下側枠。 第 ／ 凶 猶２ 叫 ／ａ
面図、才２図は矛１図に示す露光装置の減圧後の断面図
、才３図は従来の露光装置の断面図、矛４図は、１′Ｆ
５図の露光装置に障害物が生じた状態を示す断面図、矛
５図は矛４図の障害物によって露光障害が生じた状態を
示す断面図である。 １・・・光透過性板、２・・・被露光物、５・・・フォ
トマスク、１０・・・上側枠、１１・・・真空パッキン
グ、１２・・・バックシート、１３・・・下側枠。 第 ／ 凶 猶２ 叫 ／ａ
Claims (1)
- フォトマスクを介して被露光物に光を当てることによ
つて該被露光物を露光する露光装置において、前記フォ
トマスクの上側に設けられた額縁状の枠であつて前記フ
ォトマスクと枠状の真空パッキングを介して接する上側
枠と、前記上側枠の下側形状に対応して別の真空パッキ
ングを介して接する下側枠と、少なくとも前記フォトマ
スク、上側枠および下側枠で囲まれる空間を減圧して前
記上側枠を前記フォトマスクと下側枠に密着せしめる減
圧手段とを有することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60158207A JPS6219855A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60158207A JPS6219855A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6219855A true JPS6219855A (ja) | 1987-01-28 |
Family
ID=15666622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60158207A Pending JPS6219855A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6219855A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3025171U (ja) * | 1995-11-24 | 1996-06-11 | 宇野 良治 | 内視鏡用ディスポーザブルマウスピース |
| US7015057B2 (en) | 1994-04-22 | 2006-03-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing a drive circuit of active matrix device |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5222882A (en) * | 1975-08-14 | 1977-02-21 | Mitsubishi Electric Corp | Vacuum tight printing unit |
| JPS5321574A (en) * | 1976-08-11 | 1978-02-28 | Mitsubishi Electric Corp | Contact and separation method of photo mask |
| JPS55110246A (en) * | 1979-02-19 | 1980-08-25 | Fujitsu Ltd | Production of photomask |
-
1985
- 1985-07-19 JP JP60158207A patent/JPS6219855A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5222882A (en) * | 1975-08-14 | 1977-02-21 | Mitsubishi Electric Corp | Vacuum tight printing unit |
| JPS5321574A (en) * | 1976-08-11 | 1978-02-28 | Mitsubishi Electric Corp | Contact and separation method of photo mask |
| JPS55110246A (en) * | 1979-02-19 | 1980-08-25 | Fujitsu Ltd | Production of photomask |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7015057B2 (en) | 1994-04-22 | 2006-03-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing a drive circuit of active matrix device |
| US7027022B2 (en) | 1994-04-22 | 2006-04-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Drive circuit of active matrix type display device having buffer with parallel connected elemental circuits and manufacturing method thereof |
| US7459355B2 (en) | 1994-04-22 | 2008-12-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Drive circuit of active matrix device and manufacturing method thereof |
| JP3025171U (ja) * | 1995-11-24 | 1996-06-11 | 宇野 良治 | 内視鏡用ディスポーザブルマウスピース |
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