JPS62195024A - ポリシロキサザンおよびその製法 - Google Patents
ポリシロキサザンおよびその製法Info
- Publication number
- JPS62195024A JPS62195024A JP61026881A JP2688186A JPS62195024A JP S62195024 A JPS62195024 A JP S62195024A JP 61026881 A JP61026881 A JP 61026881A JP 2688186 A JP2688186 A JP 2688186A JP S62195024 A JPS62195024 A JP S62195024A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fibers
- dihalosilane
- polysiloxane
- silicon oxynitride
- polysiloxazane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 39
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 33
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 claims abstract description 9
- 150000007527 lewis bases Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 76
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 43
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 40
- 238000009987 spinning Methods 0.000 claims description 20
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 claims description 17
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 8
- 239000012784 inorganic fiber Substances 0.000 claims description 4
- 239000000546 pharmaceutical excipient Substances 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002585 base Substances 0.000 description 9
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 5
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 4
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Chemical compound CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentane Chemical compound CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910000069 nitrogen hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N bromoform Chemical compound BrC(Br)Br DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 229920005565 cyclic polymer Polymers 0.000 description 2
- LJSQFQKUNVCTIA-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfide Chemical compound CCSCC LJSQFQKUNVCTIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZHUAESPXGNNFV-UHFFFAOYSA-N diethyl(methyl)phosphane Chemical compound CCP(C)CC HZHUAESPXGNNFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000578 dry spinning Methods 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- LEMQFDHLRUSMPZ-UHFFFAOYSA-N ethyl(dimethyl)phosphane Chemical compound CCP(C)C LEMQFDHLRUSMPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 2
- MABNMNVCOAICNO-UHFFFAOYSA-N selenophene Chemical compound C=1C=C[se]C=1 MABNMNVCOAICNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTDIUWINAKAPER-UHFFFAOYSA-N trimethylarsine Chemical compound C[As](C)C HTDIUWINAKAPER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZHIWRCQKBBTOW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxybutane Chemical compound CCCCOCC PZHIWRCQKBBTOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005133 29Si NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- GPBBNPPLBQIADY-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyloxane Chemical compound CC1(C)CCOCC1 GPBBNPPLBQIADY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 6-(4-aminophenyl)sulfonylpyridin-3-amine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=N1 XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002083 X-ray spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910001515 alkali metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010420 art technique Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229950005228 bromoform Drugs 0.000 description 1
- QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N carbon disulfide-14c Chemical compound S=[14C]=S QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005384 cross polarization magic-angle spinning Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001184 polypeptide Polymers 0.000 description 1
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 102000004196 processed proteins & peptides Human genes 0.000 description 1
- 108090000765 processed proteins & peptides Proteins 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene Chemical compound C1CCSC1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- PORFVJURJXKREL-UHFFFAOYSA-N trimethylstibine Chemical compound C[Sb](C)C PORFVJURJXKREL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/584—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride
- C04B35/589—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride obtained from Si-containing polymer precursors or organosilicon monomers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/54—Nitrogen-containing linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Inorganic Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規なポリシロキサザンおよび酸窒化珪素繊維
ならびにこれらの製法に係る。ポリシロキサザンを紡糸
して得られる繊維は酸窒化珪素風維製造の前駆体をなし
、酸窒化珪素繊維は運輸、エネルギー、金属−1宇宙航
空などの広範囲な産業での先端分絆に必要な高性能複合
材料の強化材として非常に有用である。
ならびにこれらの製法に係る。ポリシロキサザンを紡糸
して得られる繊維は酸窒化珪素風維製造の前駆体をなし
、酸窒化珪素繊維は運輸、エネルギー、金属−1宇宙航
空などの広範囲な産業での先端分絆に必要な高性能複合
材料の強化材として非常に有用である。
近年セラミックスの研究・開発は飛躍的に進展しており
、多くの研究者達は炭化珪素、窒化珪素等のセラミック
材料を合成してきている。一方、酸窒化珪素もまた炭化
珪素および窒化珪素と同様に耐熱性の材料であり、炭化
珪素や窒化珪素に比べて耐酸化性は高いことが知られて
いる。
、多くの研究者達は炭化珪素、窒化珪素等のセラミック
材料を合成してきている。一方、酸窒化珪素もまた炭化
珪素および窒化珪素と同様に耐熱性の材料であり、炭化
珪素や窒化珪素に比べて耐酸化性は高いことが知られて
いる。
さて、酸窒化珪素セラミック材料の合成に関してはいく
つかの先行技術がある。
つかの先行技術がある。
(1)金属珪素と二酸化珪素の混合物をアルカリ土類、
あるいはアルカリ金属の弗化物の存在下窒素雰囲気下1
150〜1350℃で窒化する方法(多用、特開昭47
−42400号公報)。珪素と二酸化珪素を出発原料と
する方法としては、その他にもこれ等の混合物にある種
の金属を添加しこれを窒素雰囲気下で加熱して繊維状あ
るいはウィスカ状に生成・成長させる方法が開示されて
いる(東、特開昭50−29498号公報;東、特開昭
51−129898号公報;東、特開昭53−7979
9号公報)。
あるいはアルカリ金属の弗化物の存在下窒素雰囲気下1
150〜1350℃で窒化する方法(多用、特開昭47
−42400号公報)。珪素と二酸化珪素を出発原料と
する方法としては、その他にもこれ等の混合物にある種
の金属を添加しこれを窒素雰囲気下で加熱して繊維状あ
るいはウィスカ状に生成・成長させる方法が開示されて
いる(東、特開昭50−29498号公報;東、特開昭
51−129898号公報;東、特開昭53−7979
9号公報)。
(2)ポリカーポジランを繊維化し、それを酸化不融化
した後800〜1400℃の温度下でNH3で処理して
5iN1.500.47なる構造を有する酸窒化硅素の
連続繊維を製造する方法(Okamura他、Chem
istry Letters 、、PP、2059−2
060.1984)’。
した後800〜1400℃の温度下でNH3で処理して
5iN1.500.47なる構造を有する酸窒化硅素の
連続繊維を製造する方法(Okamura他、Chem
istry Letters 、、PP、2059−2
060.1984)’。
前記(1)の方法は酸窒化珪素を連続長繊維化する方法
を提供していない。酸窒化珪素に限らず、各セラミック
材料は繊維状に賦形化されるとその機械的強度は飛躍的
に向上し、かつ成形の自由度も増大することが知られて
いるので、容易に長繊維化できる特性は極めて重要であ
る。
を提供していない。酸窒化珪素に限らず、各セラミック
材料は繊維状に賦形化されるとその機械的強度は飛躍的
に向上し、かつ成形の自由度も増大することが知られて
いるので、容易に長繊維化できる特性は極めて重要であ
る。
前記(2)のポリカーポジラン経由の方法は酸窒化珪素
連続繊維を製造する方法を提供している。
連続繊維を製造する方法を提供している。
しかし、そのプロセスは複雑であるのでこの点数良の余
地がある。
地がある。
本発明者等は酸窒化珪素の連続無機繊維に関するより工
業化に適した新規な製造法を研究している過程で、新規
なポリシロキサザンを適切な方法により連続繊維化すれ
ば、比較的簡単な工程で優れた性質を有する酸窒化珪素
の無機連続繊維を製造しうろことを見い出し、本発明を
完成するに至った。
業化に適した新規な製造法を研究している過程で、新規
なポリシロキサザンを適切な方法により連続繊維化すれ
ば、比較的簡単な工程で優れた性質を有する酸窒化珪素
の無機連続繊維を製造しうろことを見い出し、本発明を
完成するに至った。
すなわち、本発明はジクロロシラン(SiHgCit
2)のようなジハロシランまたはジハロシランとルイス
塩基とのアダクトをNH3およびHg0または02と反
応させて製造する新規なポリシロキサザンおよびその製
法に係わる。このポリシロキサザンは十S i Hz
N H+および+5iH20÷を主たる繰返し単位とし
、これらを基準に5〜120の重合度を有している。更
に、本発明はこの新規なポリシロキサザンを紡糸し焼成
して酸窒化珪素繊維を製造方法も提供する。この結果製
造される酸窒化珪素の無機連続繊維は実質的に珪素、窒
素および酸素から成り、窒素を5モル%以上、酸素を5
モル%以上含有し、かつ下式(1)で示される組成を有
する新規な酸窒化珪素繊維を提供する。
2)のようなジハロシランまたはジハロシランとルイス
塩基とのアダクトをNH3およびHg0または02と反
応させて製造する新規なポリシロキサザンおよびその製
法に係わる。このポリシロキサザンは十S i Hz
N H+および+5iH20÷を主たる繰返し単位とし
、これらを基準に5〜120の重合度を有している。更
に、本発明はこの新規なポリシロキサザンを紡糸し焼成
して酸窒化珪素繊維を製造方法も提供する。この結果製
造される酸窒化珪素の無機連続繊維は実質的に珪素、窒
素および酸素から成り、窒素を5モル%以上、酸素を5
モル%以上含有し、かつ下式(1)で示される組成を有
する新規な酸窒化珪素繊維を提供する。
Si・・・Nダ0モ (1)
(ここで、XはO≦X≦3、YはO≦Y≦4の範囲にあ
る)。本発明はこの新規な無機連続繊維にも係わる。こ
の新規な組成を有する無機連続繊維はポリシラザン繊維
を水または酸素を含む気体で処理して製造される新規な
ポリシロキサザン繊維を焼成することによっても製造す
ることができ、本発明はこのようなポリシロキサザン繊
維(賦形体)およびそれにもとづく無機連続繊維の製法
にも係わる。
る)。本発明はこの新規な無機連続繊維にも係わる。こ
の新規な組成を有する無機連続繊維はポリシラザン繊維
を水または酸素を含む気体で処理して製造される新規な
ポリシロキサザン繊維を焼成することによっても製造す
ることができ、本発明はこのようなポリシロキサザン繊
維(賦形体)およびそれにもとづく無機連続繊維の製法
にも係わる。
本発明を更に詳わしく説明すると、本発明で使用するジ
ハロシランは、特に一般式5iH2Xz、5izHtX
z(X=’F、 Cn 、 Br、 ■)で表わされる
ジハロモノシランやジハロジシランを使用することが好
ましい。本発明においては、これ等のシバロンランの中
でも特にジクロロシランが好ましい。このようなハロシ
ランに対して好ましくは塩基を作用させてアダクトを生
成する。本発明で使用することのできる塩基は、ジハロ
シランとアダクトを形成する反応以外の反応をしない塩
基であり、このような塩基としては例えば、ルイス塩基
、3級アミン類(トリアルキルアミン、ピリジン、ピコ
リン及びこれらの誘導体)、立体障害性の基を有する2
級アミン類、フォスフイン、スチピン、アルシン及びこ
れらの誘導体等(例えばトリメチルフォスフイン、ジメ
チルエチルフォスフイン、メチルジエチルフォスフイン
、トリエチルフォスフイン、トリメチルアルシン、トリ
メチルスチビン、トリメチルアミン、トリエチルアミン
、チオフェン、フラン、ジオキサン、セレノフェン、1
−メチルフォスフオール等)を挙げることができるが、
中でも低沸点でアンモニアより塩基性の小さい塩基(例
えばピリジン、ピコリン、トリメチルフォスフイン、ジ
メチルエチルフォスフイン、メチルジエチルフォスフイ
ン、トリエチルフォスフイン、チオフェン、フラン、ジ
オキサン、セレノフェン、■−メチルフォスフオール)
が好ましく、特にピリジン及びピリコンが取扱上及び経
済上から好ましい。使用する塩基の量は、特に厳密であ
る必要はなく、アダクト中の塩基を含めて、ジハロシラ
ンに対して化学量論酌量、即ち塩基ニジハロシラン−2
:1より過剰に存在すれば足りる。
ハロシランは、特に一般式5iH2Xz、5izHtX
z(X=’F、 Cn 、 Br、 ■)で表わされる
ジハロモノシランやジハロジシランを使用することが好
ましい。本発明においては、これ等のシバロンランの中
でも特にジクロロシランが好ましい。このようなハロシ
ランに対して好ましくは塩基を作用させてアダクトを生
成する。本発明で使用することのできる塩基は、ジハロ
シランとアダクトを形成する反応以外の反応をしない塩
基であり、このような塩基としては例えば、ルイス塩基
、3級アミン類(トリアルキルアミン、ピリジン、ピコ
リン及びこれらの誘導体)、立体障害性の基を有する2
級アミン類、フォスフイン、スチピン、アルシン及びこ
れらの誘導体等(例えばトリメチルフォスフイン、ジメ
チルエチルフォスフイン、メチルジエチルフォスフイン
、トリエチルフォスフイン、トリメチルアルシン、トリ
メチルスチビン、トリメチルアミン、トリエチルアミン
、チオフェン、フラン、ジオキサン、セレノフェン、1
−メチルフォスフオール等)を挙げることができるが、
中でも低沸点でアンモニアより塩基性の小さい塩基(例
えばピリジン、ピコリン、トリメチルフォスフイン、ジ
メチルエチルフォスフイン、メチルジエチルフォスフイ
ン、トリエチルフォスフイン、チオフェン、フラン、ジ
オキサン、セレノフェン、■−メチルフォスフオール)
が好ましく、特にピリジン及びピリコンが取扱上及び経
済上から好ましい。使用する塩基の量は、特に厳密であ
る必要はなく、アダクト中の塩基を含めて、ジハロシラ
ンに対して化学量論酌量、即ち塩基ニジハロシラン−2
:1より過剰に存在すれば足りる。
例えばピリジンにジクロロシランを加えると5it(C
Il 2 ・2C5115Nで表わされる白色固体状
のアダクトが生成する。この生成物に対してNl+、お
よびH,Oを反応させると溶媒可溶なベルヒドロポリシ
ロキサザンが生成する。
Il 2 ・2C5115Nで表わされる白色固体状
のアダクトが生成する。この生成物に対してNl+、お
よびH,Oを反応させると溶媒可溶なベルヒドロポリシ
ロキサザンが生成する。
このようにして、ジハロシランあるいはそのルイス塩基
とのアダクトにNH,とH2Oまたは02を反応させて
溶媒可溶なポリシロキサザンを生成する。NH3とH2
Oまたは02は同時に添加して反応させることが好まし
いが、どちらかを先に添加し、それぞれを順に反応させ
ることも可能である。
とのアダクトにNH,とH2Oまたは02を反応させて
溶媒可溶なポリシロキサザンを生成する。NH3とH2
Oまたは02は同時に添加して反応させることが好まし
いが、どちらかを先に添加し、それぞれを順に反応させ
ることも可能である。
このようにして生成されるポリシロキサザンは+5it
lzNH+および+5it(20÷を主たる繰り返し単
位とする共重合体である。簡単には、これらの繰り返し
単位からなる線状あるいは環状の重合体であるが、一般
的には、そのような線状あるいは環状の重合体の複合体
である。ポリシロキサザンの化学構造は出発物質に依存
し、例えば、出発物質にジクロロシランが含まれる場合
には+ S i H2S i tl 2 N H+およ
び+3iH2SiH,zO+が含まれ端には−NH2,
,−OHまたは一5in3なる単位が存在する。さらに
、本発明では、出発物質の一部に10%以下の炭化水素
基、エーテル基、エステル基、カルボニル基などの有機
基を有するジハロシランを用いることができ、その場合
には生成するポリシロキサザンにもそのような有機基が
一部に含まれるであろう。
lzNH+および+5it(20÷を主たる繰り返し単
位とする共重合体である。簡単には、これらの繰り返し
単位からなる線状あるいは環状の重合体であるが、一般
的には、そのような線状あるいは環状の重合体の複合体
である。ポリシロキサザンの化学構造は出発物質に依存
し、例えば、出発物質にジクロロシランが含まれる場合
には+ S i H2S i tl 2 N H+およ
び+3iH2SiH,zO+が含まれ端には−NH2,
,−OHまたは一5in3なる単位が存在する。さらに
、本発明では、出発物質の一部に10%以下の炭化水素
基、エーテル基、エステル基、カルボニル基などの有機
基を有するジハロシランを用いることができ、その場合
には生成するポリシロキサザンにもそのような有機基が
一部に含まれるであろう。
このポリシロキサザンに含まれる。+5iH2NH→お
よび一+5iHzO÷の割合は任意であり、それらの配
列は規則的である必要はなく、実際には不規則でである
。−+ 5iH2NH±と÷5iHzQトの割合は反応
させるNH2とl(2[)または02の比を変えて調整
することができる。
よび一+5iHzO÷の割合は任意であり、それらの配
列は規則的である必要はなく、実際には不規則でである
。−+ 5iH2NH±と÷5iHzQトの割合は反応
させるNH2とl(2[)または02の比を変えて調整
することができる。
このポリシロキサザンの重合度は+5ilJ)l+ある
いは−(−S i H20÷などの単位に基づいて、一
般的に4〜300あるいはそれ以上である。重合度はジ
ハロシランの濃度、反応温度、溶媒などを変えて調整す
ることができる。重合度がより大ぎくなると、常温で架
橋反応が起るためにポリマーのゲル化が容易に促進され
て取扱いが困難になる。
いは−(−S i H20÷などの単位に基づいて、一
般的に4〜300あるいはそれ以上である。重合度はジ
ハロシランの濃度、反応温度、溶媒などを変えて調整す
ることができる。重合度がより大ぎくなると、常温で架
橋反応が起るためにポリマーのゲル化が容易に促進され
て取扱いが困難になる。
こうして、本発明によるポリシロキサザンは、出発ジハ
ロシランとして有機基を含まないジハロシランを用いた
場合、一般的に、下記の組成を有する。有機基は、存在
する場合、水素の一部を置換する。
ロシランとして有機基を含まないジハロシランを用いた
場合、一般的に、下記の組成を有する。有機基は、存在
する場合、水素の一部を置換する。
H50〜60モル%
5i2Q〜25モル%
0 0〜25モル%(0モル%を含まない)N−0〜
20モル%(0モル%を含まない)ジクロロシランを出
発原料とするポリシラザンとポリシロキサンの製造はス
トックらの前駆的な研究に遡る(Ber、54 (19
2074Q、 Ber、52 (1919) 695)
。
20モル%(0モル%を含まない)ジクロロシランを出
発原料とするポリシラザンとポリシロキサンの製造はス
トックらの前駆的な研究に遡る(Ber、54 (19
2074Q、 Ber、52 (1919) 695)
。
同研究者らはベンゼンに熔解したジクロロシランとアン
モニアとを反応させて一+SiH□Nil+を繰返し単
位とするオリゴシラザンを生成し、これを加水分解しA
=Sitl□0+−で示されるオリゴシロキサンを生成
した。一方、サイファースらはジクロロシランのジクロ
ロメタン溶液にそれぞれアンモニアガス又は水を反応さ
せて、ポリシラザン又はポリシロキサンを合成した(C
ommunication of Am。
モニアとを反応させて一+SiH□Nil+を繰返し単
位とするオリゴシラザンを生成し、これを加水分解しA
=Sitl□0+−で示されるオリゴシロキサンを生成
した。一方、サイファースらはジクロロシランのジクロ
ロメタン溶液にそれぞれアンモニアガス又は水を反応さ
せて、ポリシラザン又はポリシロキサンを合成した(C
ommunication of Am。
Ceram、Sou、Jan、1983.C−13;I
norg、Chem、 、1983.22.2163−
2167)。本発明者らは先にジクロロシラン塩基錯体
をアンモニア分解して高分子量ポリシラザンを製造した
(特開昭60−145903号公報)。
norg、Chem、 、1983.22.2163−
2167)。本発明者らは先にジクロロシラン塩基錯体
をアンモニア分解して高分子量ポリシラザンを製造した
(特開昭60−145903号公報)。
本発明品はシラザンとシロキサンの共重合体であるとい
う点で前記ポリシロキサンと著しく異なっている。
う点で前記ポリシロキサンと著しく異なっている。
この共重合体は+5iHJl++と+5iHzO+の存
在割合にかかわりなく新規であると思われるが、少なく
とも、珪素原子の数に基づいて窒素が結合した珪素を1
モル%以上かつ酸素が結合した珪素を1モル%以上有す
る共重合体は新規である。
在割合にかかわりなく新規であると思われるが、少なく
とも、珪素原子の数に基づいて窒素が結合した珪素を1
モル%以上かつ酸素が結合した珪素を1モル%以上有す
る共重合体は新規である。
本発明に係るポリシロキサザンから酸窒化珪素繊維を製
造するには、先ず、ポリシロキサザンを適切な溶媒に溶
解して紡糸原液を調整する。溶媒としては、炭化水素、
ハロゲン化炭化水素、エーテル、窒素化合物、硫黄化合
物等が使用できる。
造するには、先ず、ポリシロキサザンを適切な溶媒に溶
解して紡糸原液を調整する。溶媒としては、炭化水素、
ハロゲン化炭化水素、エーテル、窒素化合物、硫黄化合
物等が使用できる。
好ましい溶剤は、ペンクン、ヘキサン、イソヘキサン、
メチルペンタン、ヘプタン、イソへブタン、オクタン、
イソオクタン、シクロペンクン、メチルシクロペンクン
、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン、キシレン、エチルヘンゼン等の炭化炭素、塩
化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ブロモホルム
、塩化エチレン、塩化エチリデン、トリクロロエタン、
テトラクロロエタン、クロロヘンゼン等のハロゲン化炭
化水素、エチルエーテル、プロピルエーテル、エチルブ
チルエーテル、ブチルエーテル、1.2−ジオキシエタ
ン、ジオキサン、ジメチルオキサン、テトラヒドロフラ
ン、テトラヒドロピラン、アニソール等のエーテル、ジ
エチルアミン、トリエチルアミン、ジプロピルアミン、
ジイソプロピルチジン、ブチルアミン、アニリン、ピペ
リジン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、エチレンジア
ミン、プロピレンジアミン等の窒素化合物、二硫化炭素
、硫化ジエチル、チオフェン、テトラヒドロチオフェン
等の硫黄化合物である。
メチルペンタン、ヘプタン、イソへブタン、オクタン、
イソオクタン、シクロペンクン、メチルシクロペンクン
、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン、キシレン、エチルヘンゼン等の炭化炭素、塩
化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ブロモホルム
、塩化エチレン、塩化エチリデン、トリクロロエタン、
テトラクロロエタン、クロロヘンゼン等のハロゲン化炭
化水素、エチルエーテル、プロピルエーテル、エチルブ
チルエーテル、ブチルエーテル、1.2−ジオキシエタ
ン、ジオキサン、ジメチルオキサン、テトラヒドロフラ
ン、テトラヒドロピラン、アニソール等のエーテル、ジ
エチルアミン、トリエチルアミン、ジプロピルアミン、
ジイソプロピルチジン、ブチルアミン、アニリン、ピペ
リジン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、エチレンジア
ミン、プロピレンジアミン等の窒素化合物、二硫化炭素
、硫化ジエチル、チオフェン、テトラヒドロチオフェン
等の硫黄化合物である。
この紡糸原液中のポリシロキサザン濃度は原液粘度が1
〜5000ポイズの範囲内になるように調整する。この
ポリシロキサザンの曳糸性を向上するために、必要であ
れば該紡糸原液に対して少量の紡糸助剤を添加してもよ
い。このような助剤の例として、ポリエーテル類、ポリ
アミド類、ポリエステル類、ビニル重合体類、ポリチオ
エーテル類、ポリペプチド類、等が挙げられ、この等の
中でもポリエチレンオキサイド、ポリイソブチレン、ポ
リメチルメタクリレート、ポリイソプレンおよびポリス
チレンが特に望ましい。適切な粘度を有する紡糸液を調
整するための溶液の濃縮操作は減圧蒸留等の通常の方法
が用いられる。このような濃縮操作により得られた紡糸
液は5〜90重量%のポリシロキサザンを含有している
。
〜5000ポイズの範囲内になるように調整する。この
ポリシロキサザンの曳糸性を向上するために、必要であ
れば該紡糸原液に対して少量の紡糸助剤を添加してもよ
い。このような助剤の例として、ポリエーテル類、ポリ
アミド類、ポリエステル類、ビニル重合体類、ポリチオ
エーテル類、ポリペプチド類、等が挙げられ、この等の
中でもポリエチレンオキサイド、ポリイソブチレン、ポ
リメチルメタクリレート、ポリイソプレンおよびポリス
チレンが特に望ましい。適切な粘度を有する紡糸液を調
整するための溶液の濃縮操作は減圧蒸留等の通常の方法
が用いられる。このような濃縮操作により得られた紡糸
液は5〜90重量%のポリシロキサザンを含有している
。
紡糸を行なうには、乾式紡糸が好都合であるが、遠心紡
糸、吹き出し紡糸も利用することができる。
糸、吹き出し紡糸も利用することができる。
紡糸は不活性ガス雰囲気下で室温で行なわれるが、必要
に応じて紡糸液を加熱して行なうこともできる。但し、
100℃を超えて加熱すると、ポリシロキサザンの熱分
解が開始するので注意を要する。
に応じて紡糸液を加熱して行なうこともできる。但し、
100℃を超えて加熱すると、ポリシロキサザンの熱分
解が開始するので注意を要する。
繊維の乾燥は、紡糸後に、加熱しながら減圧下で充分行
う。
う。
□こうしてポリシロキサザンの繊維、特に連続繊維が紡
糸される。このポリシロキサザン繊維は白色である。該
繊維は焼成前でも高い強度を有するので、最初に、繊維
をヤーン、織布等の形態に加工し、その後焼成すること
によって酸窒化珪素製品を製造することもできる。
糸される。このポリシロキサザン繊維は白色である。該
繊維は焼成前でも高い強度を有するので、最初に、繊維
をヤーン、織布等の形態に加工し、その後焼成すること
によって酸窒化珪素製品を製造することもできる。
乾燥したポリ、シロキサザン繊維は、不活性ガス雰囲気
下、100℃付近で熱処理を施すことが望ましい。この
熱処理の目的は、溶剤除去を更に確実にすると共に、ポ
リシロキサザンの分子鎖間の架橋反応を促進させること
により、焼成過程におけるクランク、空隙、及び気孔の
生成を最少限にするためである。
下、100℃付近で熱処理を施すことが望ましい。この
熱処理の目的は、溶剤除去を更に確実にすると共に、ポ
リシロキサザンの分子鎖間の架橋反応を促進させること
により、焼成過程におけるクランク、空隙、及び気孔の
生成を最少限にするためである。
本発明で作られるポリシロキサザン繊維は、熱に対して
不融であることから、そのまま雰囲気ガス下で焼成する
こともできる。雰囲気ガスとしては窒素が好都合である
が、アンモニア、あるいは窒素、アンモニア、アルゴン
、水素等の混合ガスを利用することもできる。このよう
な不活性ガスの雰囲気下800°C以上の温度で上記白
色の繊維を焼成する白色ないし黒色の無機繊維が得られ
る。
不融であることから、そのまま雰囲気ガス下で焼成する
こともできる。雰囲気ガスとしては窒素が好都合である
が、アンモニア、あるいは窒素、アンモニア、アルゴン
、水素等の混合ガスを利用することもできる。このよう
な不活性ガスの雰囲気下800°C以上の温度で上記白
色の繊維を焼成する白色ないし黒色の無機繊維が得られ
る。
この無機繊維は実質的に珪素、窒素および酸素から成り
、窒素を5モル%および酸素を5モル%以上含有し、し
かも前述の(1)式で表わされる新規な組成を有するも
のを含んでいる。この新規な酸窒化珪素繊維の性状は、
限定するわけではないが、典型的には、 繊維径 =5〜50μm 引張強度: 30〜300kg/mm2弾性率 : 7
〜30t/mm2 比抵抗値:2〜7×10I0Ω’cm と本発明者等が前に特許出願をした高純度窒化珪素繊維
(特願昭60−257,824号明細書)と大差はない
が、耐酸化性については相当の向上が見られる。例えば
、実施例1で得られた繊維を空気中700℃で5時間加
熱したところ重量増は2.6%であった。比較のため、
上述の窒化珪素繊維を同一条件で処理したところ、重量
増は4.8%であった。
、窒素を5モル%および酸素を5モル%以上含有し、し
かも前述の(1)式で表わされる新規な組成を有するも
のを含んでいる。この新規な酸窒化珪素繊維の性状は、
限定するわけではないが、典型的には、 繊維径 =5〜50μm 引張強度: 30〜300kg/mm2弾性率 : 7
〜30t/mm2 比抵抗値:2〜7×10I0Ω’cm と本発明者等が前に特許出願をした高純度窒化珪素繊維
(特願昭60−257,824号明細書)と大差はない
が、耐酸化性については相当の向上が見られる。例えば
、実施例1で得られた繊維を空気中700℃で5時間加
熱したところ重量増は2.6%であった。比較のため、
上述の窒化珪素繊維を同一条件で処理したところ、重量
増は4.8%であった。
このような新規な組成を有する酸窒化珪素繊維は上記以
外の方法によっても製造できる。すなわち、5iHzX
z、SiJ<Xz(これらの式中、XはF、(1、Br
あるいはIである)などで表わされるジハロシランを直
接あるいはルイス塩基とアダクトを形成後アンモニア分
解して得られるポリシラザンを紡糸してポリシラザン繊
維を生成し、これに酸素または水の気体を適当な程度に
作用させることによりポリシロキサザン繊維を生成し、
これに熱処理を施せば本発明品である上記の新規な酸窒
化珪素繊維を製造できる。すなわち、ポリシラザン繊維
(賦形体)は常温で気体状の水や酸素と反応してポリシ
ラザンの−N H−基と一〇−基とが置換してゆく。従
って、温度を一定に保った雰囲気中にポリシラザン繊維
を一定時間曝すことによってポリシラザン繊維をポリシ
ロキサザン繊維に変換することができる。このポリシロ
キサザン賦形体も新規であり、主たる繰り返し単位が+
5iHzNH+−および+5iHzO+−からなり、そ
の重合度は少なくとも4〜1700程度、そしてそれ以
上のものが製造可能である(特願昭60−257824
号明細書参照)。なお、このポリシロキサザン賦形体は
処理条件により賦形体表面と内部T: −+S i H
z H+と+5iHz())−の濃度に分布が存在し、
水または酸素の処理条件によっては賦形体の中心部にポ
リシラザン、また表面部にポリシロキサンが存在するこ
ともできる。
外の方法によっても製造できる。すなわち、5iHzX
z、SiJ<Xz(これらの式中、XはF、(1、Br
あるいはIである)などで表わされるジハロシランを直
接あるいはルイス塩基とアダクトを形成後アンモニア分
解して得られるポリシラザンを紡糸してポリシラザン繊
維を生成し、これに酸素または水の気体を適当な程度に
作用させることによりポリシロキサザン繊維を生成し、
これに熱処理を施せば本発明品である上記の新規な酸窒
化珪素繊維を製造できる。すなわち、ポリシラザン繊維
(賦形体)は常温で気体状の水や酸素と反応してポリシ
ラザンの−N H−基と一〇−基とが置換してゆく。従
って、温度を一定に保った雰囲気中にポリシラザン繊維
を一定時間曝すことによってポリシラザン繊維をポリシ
ロキサザン繊維に変換することができる。このポリシロ
キサザン賦形体も新規であり、主たる繰り返し単位が+
5iHzNH+−および+5iHzO+−からなり、そ
の重合度は少なくとも4〜1700程度、そしてそれ以
上のものが製造可能である(特願昭60−257824
号明細書参照)。なお、このポリシロキサザン賦形体は
処理条件により賦形体表面と内部T: −+S i H
z H+と+5iHz())−の濃度に分布が存在し、
水または酸素の処理条件によっては賦形体の中心部にポ
リシラザン、また表面部にポリシロキサンが存在するこ
ともできる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれにより限定されるものではない。
明はこれにより限定されるものではない。
大旌炭上
内容積300mβの四つ目フラスコにガス吹き込み管、
メカニカルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置し
た。四つロフラスコに乾燥ピリジン150mj!を入れ
、これを氷冷した。次にジクロロシラン15.8 g
(0,156mol)を約1時間かけて加えると白色固
体状のアダクト(Sll(2CR2・2C5tl、N)
が生成した。反応混合物を氷冷し、攪拌しながら、アン
モニア15.7 g (0,92mo+)、水0.33
g (0,018mol)を窒素ガスに混合して、約1
.5時間かけて吹き込んだ。反応終了後、反応混合物を
窒素雰囲気下で遠心分離し、乾燥塩化メチレンを用いて
残分を洗浄し、更に洗液と遠心分離液とを合わせて窒素
雰囲気下で濾過した。濾液には下記に示すようなポリシ
ロキサザンが2.01(g/mり1%熔解していた。
メカニカルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置し
た。四つロフラスコに乾燥ピリジン150mj!を入れ
、これを氷冷した。次にジクロロシラン15.8 g
(0,156mol)を約1時間かけて加えると白色固
体状のアダクト(Sll(2CR2・2C5tl、N)
が生成した。反応混合物を氷冷し、攪拌しながら、アン
モニア15.7 g (0,92mo+)、水0.33
g (0,018mol)を窒素ガスに混合して、約1
.5時間かけて吹き込んだ。反応終了後、反応混合物を
窒素雰囲気下で遠心分離し、乾燥塩化メチレンを用いて
残分を洗浄し、更に洗液と遠心分離液とを合わせて窒素
雰囲気下で濾過した。濾液には下記に示すようなポリシ
ロキサザンが2.01(g/mり1%熔解していた。
濾液150mAに30mgのポリエチレンオキサイド(
分子量5,000,000)を加えて溶解した後、溶剤
を減圧留去して濃縮し、約30 (g/mn)%のポ
リシロキサザンを含む紡糸原液(粘度250ポイズ)を
調製した。紡糸原液を濾過、脱泡後、窒素雰囲気下で乾
式紡糸を行い白色のポリシロキサザン繊維を得た。
分子量5,000,000)を加えて溶解した後、溶剤
を減圧留去して濃縮し、約30 (g/mn)%のポ
リシロキサザンを含む紡糸原液(粘度250ポイズ)を
調製した。紡糸原液を濾過、脱泡後、窒素雰囲気下で乾
式紡糸を行い白色のポリシロキサザン繊維を得た。
これを減圧下50°Cで4時間乾燥し、窒素雰囲気下、
100°Cで3時間熱処理した後、窒素雰囲気下で10
00°Cで5時間加熱して、黒色の繊維を得た。
100°Cで3時間熱処理した後、窒素雰囲気下で10
00°Cで5時間加熱して、黒色の繊維を得た。
得られたポリシロキサザン及び黒色繊維の化学分析によ
る元素組成(m01%)は、表1に示した通りであった
。
る元素組成(m01%)は、表1に示した通りであった
。
表 1 元素組成(mo1%)ポリシロキサザ
ンの赤外線吸収スペクトル、H’−NMR、CP/MA
S 29Si−NMRを第1図〜第3図に、黒色繊維
の粉末X線回折スペクトルを第4図に示した。但し、H
’−NMRスペクトルについては、ポリシロキサザンを
単離後、測定溶媒(CDCβ3)に可溶な生成物のめ測
定した。
ンの赤外線吸収スペクトル、H’−NMR、CP/MA
S 29Si−NMRを第1図〜第3図に、黒色繊維
の粉末X線回折スペクトルを第4図に示した。但し、H
’−NMRスペクトルについては、ポリシロキサザンを
単離後、測定溶媒(CDCβ3)に可溶な生成物のめ測
定した。
さらに、1気圧降下法による数平均分子量を測定したと
ころ、11001′であった。またゲルパーミェーショ
ンクロマトグラフィ (CP’C)を測定したところ、
第5図に示したように、ポリスチレン換算分子量ば25
0から4000、主として300から3400に分布し
ており、数平均分子量(ボリスチレン換算)は785で
あった。ポリスチレン換算分子量を蒸気圧降下法による
分子量に補正したポリシロキサザンの重合度は7.8か
ら125、主として9.4から106.5に分布する。
ころ、11001′であった。またゲルパーミェーショ
ンクロマトグラフィ (CP’C)を測定したところ、
第5図に示したように、ポリスチレン換算分子量ば25
0から4000、主として300から3400に分布し
ており、数平均分子量(ボリスチレン換算)は785で
あった。ポリスチレン換算分子量を蒸気圧降下法による
分子量に補正したポリシロキサザンの重合度は7.8か
ら125、主として9.4から106.5に分布する。
繊維直径5〜50μmの黒色繊維の引張強度は30〜2
80kg / nu ” 、弾性率は8〜20 t /
mu2T:あった。
80kg / nu ” 、弾性率は8〜20 t /
mu2T:あった。
実施例2
実施例1で得られたポリシロキサザン繊維を、乾燥温度
以外の条件は同一で、焼成温度を1300’cで処理し
て得た黒色繊維の元素組成(mo1%)は、Si :4
4.4. N :48.6. Oニア、4であった。黒
色繊維を粉末X線回折したところ、Si、α−5i3H
4゜β−3i3H,のピークが観測された。
以外の条件は同一で、焼成温度を1300’cで処理し
て得た黒色繊維の元素組成(mo1%)は、Si :4
4.4. N :48.6. Oニア、4であった。黒
色繊維を粉末X線回折したところ、Si、α−5i3H
4゜β−3i3H,のピークが観測された。
実施例3
実施例]と同じ条件で、水1.OOg (0,056m
ol)を加えたピリジンL50mnを用いてアダクトを
調製した後、実施例1および2と同一操作でポリシロキ
サザンと黒色繊維を調製した。
ol)を加えたピリジンL50mnを用いてアダクトを
調製した後、実施例1および2と同一操作でポリシロキ
サザンと黒色繊維を調製した。
得られたポリシロキサザンと黒色繊維の元素組成は表2
に示した通りであった。
に示した通りであった。
表 2 元素組成(mo1%)実施例1と同一
条件でアダクトを調製した後に乾燥アンモニア16.0
g (0,94mol)を窒素ガスに混合して、約1
.5時間かけて吹き込んだ。反応終了後、実施例1と同
一操作で1.95 (g”/mol)%のポリシラザン
を含む濾液を得た。これを実施例−1と同一操作でポリ
シラザン繊維に紡糸した後、湿度47%の雰囲気中に5
時間保持した後、実施例1と同一操作で減圧乾燥、熱処
理、焼成を行って黒色繊維を得た。
条件でアダクトを調製した後に乾燥アンモニア16.0
g (0,94mol)を窒素ガスに混合して、約1
.5時間かけて吹き込んだ。反応終了後、実施例1と同
一操作で1.95 (g”/mol)%のポリシラザン
を含む濾液を得た。これを実施例−1と同一操作でポリ
シラザン繊維に紡糸した後、湿度47%の雰囲気中に5
時間保持した後、実施例1と同一操作で減圧乾燥、熱処
理、焼成を行って黒色繊維を得た。
得られた黒色繊維の元素組成(mo1%)はsi:s4
.oN: 26.0 0 : 2o、6であった。
.oN: 26.0 0 : 2o、6であった。
実施例5
実施例1で得たポリシロキサザン繊維を湿度47%の雰
囲気下で15時間保持した後、実施例と同一の操作で処
理して得た黒色繊維の化学組成(mo1%)は、Si
: 48.5 、 N : 7.5 、0 : 44
.0であった。
囲気下で15時間保持した後、実施例と同一の操作で処
理して得た黒色繊維の化学組成(mo1%)は、Si
: 48.5 、 N : 7.5 、0 : 44
.0であった。
本発明により、新規なポリシロキサザンおよび酸窒化珪
素繊維、ならびにこれらの製法が提供され、ポリシロキ
サザンは酸窒化珪素繊維、特にその連続繊維を工業的に
製造するのに適した出発物質であり、酸窒化珪素連続繊
維の前駆体を成すポリシロキサザン繊維を簡単に製造す
ることができ、そして得られる酸窒化珪素繊維は高性能
複合材料の強化材として非常に有用である。
素繊維、ならびにこれらの製法が提供され、ポリシロキ
サザンは酸窒化珪素繊維、特にその連続繊維を工業的に
製造するのに適した出発物質であり、酸窒化珪素連続繊
維の前駆体を成すポリシロキサザン繊維を簡単に製造す
ることができ、そして得られる酸窒化珪素繊維は高性能
複合材料の強化材として非常に有用である。
第1図は本発明で得られたポリシロキサザンのKBr法
による赤外吸収スペクトル図である。 第2図はポリシロキサザンの’II−NMRスペクトル
図である。 第3図はポリシロキサザンのCP/MAS 29SiN
MRスペクトル図である。 第4閣は黒色繊維(Si−N−0)無機繊維の粉末X線
スペクトル図である。 第5図はポリシロキサザンのGP、Cクロマトグラムで
ある。
による赤外吸収スペクトル図である。 第2図はポリシロキサザンの’II−NMRスペクトル
図である。 第3図はポリシロキサザンのCP/MAS 29SiN
MRスペクトル図である。 第4閣は黒色繊維(Si−N−0)無機繊維の粉末X線
スペクトル図である。 第5図はポリシロキサザンのGP、Cクロマトグラムで
ある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、主たる繰り返し単位が−(SiH_2NH)−およ
び−(SiH_2O)−であり重合度が5〜300であ
ることを特徴とするポリシロキサザン。 2、ジハロシランまたはジハロシランとルイス塩基のア
ダクトに、アンモニアと水または酸素とを反応させて、
主たる繰り返し単位が −(SiH_2NH)−および−(SiH_2O)−で
ある重合度5〜300のポリシロキサザンを得ることを
特徴とするポリシロキサザンの製法。 3、主たる繰り返し単位が−(SiH_2NH)−およ
び−(SiH_2O)−である重合度5〜300のポリ
シロキサザンを紡糸し、それを焼成して酸窒化珪素繊維
を製造する方法。 4、実質的に珪素、窒素および酸素からなる無機繊維で
あって、窒素を5モル%以上、酸素を5モル%以上含有
し、かつ化学式 Si_1_+_XN_(_4_−_Y_)_/_3O_
Y_/_2(0≦X≦3、0≦Y≦4)で表わされる酸
窒化珪素繊維。 5、ジハロシランまたはジハロシランとルイス塩基のア
ダクトにアンモニアを反応して得られるポリシラザンを
賦形化し、得られるポリシラザン賦形体を酸素または水
を含む気体で処理して主たる繰り返し単位が−(SiH
_2NH)−および−(SiH_2O)−であるポリシ
ロキサザンを得ることを特徴とするポリシロキサザンの
製造方法。 6、ジハロシランまたはジハロシランとルイス塩基のア
ダクトにアンモニアを反応して得られるポリシラザンを
紡糸し、得られるポリシラザン繊維を酸素または水を含
む気体で処理した後、焼成して酸窒化珪素繊維を製造す
る方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61026881A JPH0618885B2 (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | ポリシロキサザンおよびその製法 |
EP87301232A EP0237199B1 (en) | 1986-02-12 | 1987-02-12 | Polysiloxazanes, silicon oxynitride fibers and processes for producing same |
DE87301232T DE3786097T2 (de) | 1986-02-12 | 1987-02-12 | Polysiloxazane, Silikonoxynitrid-Fasern und Verfahren zu deren Herstellung. |
US07/013,680 US4869858A (en) | 1986-02-12 | 1987-02-12 | Processes for producing polysiloxazanes and silicon oxynitride fibers |
US07/382,713 US4965058A (en) | 1986-02-12 | 1989-07-19 | Polysiloxazanes, silicon oxynitride fibers and processes for producing same |
US07/555,067 US5079323A (en) | 1986-02-12 | 1990-07-18 | Polysiloxazanes, silicon oxynitride fibers and processes for producing same |
US07/756,046 US5166104A (en) | 1986-02-12 | 1991-09-06 | Polysiloxazanes, silicon oxynitride fibers and processes for producing same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61026881A JPH0618885B2 (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | ポリシロキサザンおよびその製法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5191307A Division JP2575280B2 (ja) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | 酸窒化珪素繊維の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62195024A true JPS62195024A (ja) | 1987-08-27 |
JPH0618885B2 JPH0618885B2 (ja) | 1994-03-16 |
Family
ID=12205622
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61026881A Expired - Lifetime JPH0618885B2 (ja) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | ポリシロキサザンおよびその製法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US4869858A (ja) |
EP (1) | EP0237199B1 (ja) |
JP (1) | JPH0618885B2 (ja) |
DE (1) | DE3786097T2 (ja) |
Cited By (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01213339A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-08-28 | Soc Atochem | ポリシロキサザンの製造方法 |
JPH01229817A (ja) * | 1988-03-05 | 1989-09-13 | Toa Nenryo Kogyo Kk | 窒化珪素質無機繊維 |
JPH01317177A (ja) * | 1988-03-05 | 1989-12-21 | Tonen Corp | 無機繊維強化セラミックス複合材料 |
US5151390A (en) * | 1986-06-13 | 1992-09-29 | Toa Nenryo Kogyo Kabushiki Kaisha | Silicon nitride-based fibers and composite material reinforced with fibers |
US5459114A (en) * | 1992-11-26 | 1995-10-17 | Tonen Corporation | Method for producing ceramic products |
US6902875B2 (en) | 2000-08-31 | 2005-06-07 | Clariant Finance (Bvi) Limited | Photosensitive polysilazane composition, method of forming pattern therefrom, and method of burning coating film thereof |
JP2009204269A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-10 | Hitachi Appliances Inc | 空気調和機の熱源機 |
WO2011122497A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | リンテック株式会社 | 透明導電性フィルムおよびその製造方法並びに透明導電性フィルムを用いた電子デバイス |
WO2012032907A1 (ja) | 2010-09-07 | 2012-03-15 | リンテック株式会社 | 粘着シート、及び電子デバイス |
WO2013015096A1 (ja) | 2011-07-25 | 2013-01-31 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体及び電子部材 |
WO2013065812A1 (ja) | 2011-11-04 | 2013-05-10 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム及びその製造方法、ガスバリアフィルム積層体、電子デバイス用部材、並びに電子デバイス |
WO2013081003A1 (ja) | 2011-11-30 | 2013-06-06 | リンテック株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法、およびガスバリア性フィルムを備える電子部材又は光学部材 |
EP2626378A1 (en) | 2009-03-17 | 2013-08-14 | LINTEC Corporation | Molded article, process for producing the molded article, member for electronic device, and electronic device |
WO2013133256A1 (ja) | 2012-03-06 | 2013-09-12 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体、粘着フィルム、および電子部材 |
WO2013141318A1 (ja) | 2012-03-22 | 2013-09-26 | リンテック株式会社 | 透明導電性積層体及び電子デバイス又はモジュール |
WO2014157685A1 (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2014157686A1 (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | リンテック株式会社 | 積層体及びその製造方法、電子デバイス用部材、並びに電子デバイス |
US20170107344A1 (en) | 2014-03-31 | 2017-04-20 | Lintec Corporation | Elongated gas barrier laminate and method for producing same |
WO2017170547A1 (ja) | 2016-03-29 | 2017-10-05 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2019078069A1 (ja) | 2017-10-20 | 2019-04-25 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム用基材、ガスバリアフィルム、電子デバイス用部材、及び電子デバイス |
JP2020513435A (ja) * | 2016-11-24 | 2020-05-14 | リッジフィールド・アクウィジション | シロキサザン化合物、およびそれを含む組成物、ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法 |
WO2020138206A1 (ja) | 2018-12-27 | 2020-07-02 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体 |
US10967618B2 (en) | 2016-03-18 | 2021-04-06 | Lintec Corporation | Curable composition for forming primer layer, gas barrier laminated film, and gas barrier laminate |
US11512231B2 (en) | 2017-03-28 | 2022-11-29 | Lintec Corporation | Gas barrier laminate |
WO2023282106A1 (ja) | 2021-07-09 | 2023-01-12 | 株式会社スリーボンド | 硬化性組成物、硬化被膜および物品 |
US11760854B2 (en) | 2014-06-04 | 2023-09-19 | Lintec Corporation | Gas barrier laminated body, method for producing same, member for electronic device, and electronic device |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0618885B2 (ja) * | 1986-02-12 | 1994-03-16 | 東燃株式会社 | ポリシロキサザンおよびその製法 |
US5166104A (en) * | 1986-02-12 | 1992-11-24 | Toa Nenryo Kogyo Kabushiki Kaisha | Polysiloxazanes, silicon oxynitride fibers and processes for producing same |
US5179048A (en) * | 1988-10-24 | 1993-01-12 | Ethyl Corporation | Preceramic compositions and ceramic products |
US4970282A (en) * | 1989-02-06 | 1990-11-13 | Ethyl Corporation | Organoborosiloxazane polymers |
FR2653131A1 (fr) * | 1989-10-17 | 1991-04-19 | Rhone Poulenc Chimie | Procede de preparation de polyorganosilazane de masse moleculaire elevee. |
JPH0718056B2 (ja) * | 1990-04-27 | 1995-03-01 | 株式会社コロイドリサーチ | 酸窒化物セラミックスファイバーの製造方法 |
US5292830A (en) * | 1991-06-20 | 1994-03-08 | Tonen Corporation | Thermosetting copolymers, silicon carbide-based fiber and processes for producing same |
KR100285890B1 (ko) * | 1996-12-27 | 2001-04-16 | 다마호리 다메히코 | 폴리오르가노실록사잔및그제조방법 |
DE19847352C2 (de) * | 1998-10-14 | 2001-02-15 | Univ Bayreuth | Synthese von oligosilazanhaltigen Verbindungen zur Herstellung von keramikartigen Materialien |
US6534184B2 (en) * | 2001-02-26 | 2003-03-18 | Kion Corporation | Polysilazane/polysiloxane block copolymers |
JP3479648B2 (ja) * | 2001-12-27 | 2003-12-15 | クラリアント インターナショナル リミテッド | ポリシラザン処理溶剤およびこの溶剤を用いるポリシラザンの処理方法 |
DE10232993A1 (de) * | 2002-07-19 | 2004-02-05 | Wacker Polymer Systems Gmbh & Co. Kg | Silicon-haltige Polymerisate von ehtylenisch ungesättigten Monomeren |
US20090305063A1 (en) * | 2006-09-08 | 2009-12-10 | Masanobu Hayashi | Composition for forming siliceous film and process for producing siliceous film from the same |
TWI452419B (zh) | 2008-01-28 | 2014-09-11 | Az Electronic Mat Ip Japan Kk | 細微圖案光罩及其製造方法、及使用其之細微圖案形成方法 |
US8084186B2 (en) * | 2009-02-10 | 2011-12-27 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Hardmask process for forming a reverse tone image using polysilazane |
US9082612B2 (en) | 2010-12-22 | 2015-07-14 | Cheil Industries, Inc. | Composition for forming a silica layer, method of manufacturing the composition, silica layer prepared using the composition, and method of manufacturing the silica layer |
KR101443758B1 (ko) | 2010-12-22 | 2014-09-26 | 제일모직주식회사 | 실리카층 형성용 조성물, 그 제조방법, 이를 이용한 실리카층 및 실리카층 제조방법 |
KR101489959B1 (ko) * | 2012-05-21 | 2015-02-04 | 제일모직주식회사 | 가스 배리어 필름, 그 제조방법 및 이를 포함하는 디스플레이 부재 |
WO2014104510A1 (ko) | 2012-12-31 | 2014-07-03 | 제일모직 주식회사 | 개질 수소화 폴리실록사잔, 이를 포함하는 실리카계 절연층 형성용 조성물, 실리카계 절연층 형성용 조성물의 제조방법, 실리카계 절연층 및 실리카계 절연층의 제조방법 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3239550A (en) * | 1962-05-21 | 1966-03-08 | Gen Electric | Cyclic polysiloxazanes |
US3208972A (en) * | 1962-09-20 | 1965-09-28 | Dow Corning | Method of making finely divided monomethylsiloxane |
US3412128A (en) * | 1964-05-13 | 1968-11-19 | Gen Electric | Method for hydrolyzing halosilanes |
US3435001A (en) * | 1964-10-01 | 1969-03-25 | Gen Electric | Method for hydrolyzing organochlorosilanes |
FR1541085A (fr) * | 1967-08-22 | 1968-10-04 | Rhone Poulenc Sa | Procédé de préparation d'élastomères organosiliciques |
US3702317A (en) * | 1970-11-18 | 1972-11-07 | Us Air Force | Method of making arylene modified siloxazanes incorporating cyclodisilazane structures |
FR2193864B1 (ja) * | 1972-07-31 | 1974-12-27 | Rhone Poulenc Sa | |
JPS5029498A (ja) * | 1973-07-17 | 1975-03-25 | ||
JPS51129898A (en) * | 1975-05-06 | 1976-11-11 | Agency Of Ind Science & Technol | The synthesis of silicon oxyntride whiskers |
US4612383A (en) * | 1985-04-26 | 1986-09-16 | S R I International | Method of producing polysilazanes |
US4788309A (en) * | 1985-04-26 | 1988-11-29 | Sri International | Method of forming compounds having Si-N groups and resulting products |
US4404153A (en) * | 1981-01-15 | 1983-09-13 | Dow Corning Corporation | Process for the preparation of poly(disilyl)silazane polymers and the polymers therefrom |
US4395460A (en) * | 1981-09-21 | 1983-07-26 | Dow Corning Corporation | Preparation of polysilazane polymers and the polymers therefrom |
US4678688A (en) * | 1983-12-28 | 1987-07-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for forming a surface film of cured organosilicon polymer on a substrate surface |
JPS60145903A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-08-01 | Toa Nenryo Kogyo Kk | 無機ポリシラザン及びその合成方法 |
US4482669A (en) * | 1984-01-19 | 1984-11-13 | Massachusetts Institute Of Technology | Preceramic organosilazane polymers |
JPS60257824A (ja) * | 1984-06-05 | 1985-12-19 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | コ−クス炉排ガスの脱硝方法 |
JPS62125015A (ja) * | 1985-11-19 | 1987-06-06 | Toa Nenryo Kogyo Kk | 高純度窒化珪素繊維およびその製法 |
JPS62156135A (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-11 | Toa Nenryo Kogyo Kk | ポリオルガノ(ヒドロ)シラザン |
JPH0618885B2 (ja) * | 1986-02-12 | 1994-03-16 | 東燃株式会社 | ポリシロキサザンおよびその製法 |
US4675424A (en) * | 1986-03-19 | 1987-06-23 | Union Carbide Corporation | Method for making polysilazanes |
JPH0764642B2 (ja) * | 1986-06-13 | 1995-07-12 | 東燃株式会社 | 窒化物系セラミツクスの製法 |
JPH0529498A (ja) * | 1991-07-22 | 1993-02-05 | Toshiba Corp | 冷却装置 |
-
1986
- 1986-02-12 JP JP61026881A patent/JPH0618885B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-02-12 EP EP87301232A patent/EP0237199B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-02-12 US US07/013,680 patent/US4869858A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-02-12 DE DE87301232T patent/DE3786097T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-07-19 US US07/382,713 patent/US4965058A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-07-18 US US07/555,067 patent/US5079323A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5151390A (en) * | 1986-06-13 | 1992-09-29 | Toa Nenryo Kogyo Kabushiki Kaisha | Silicon nitride-based fibers and composite material reinforced with fibers |
JPH01213339A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-08-28 | Soc Atochem | ポリシロキサザンの製造方法 |
JPH01229817A (ja) * | 1988-03-05 | 1989-09-13 | Toa Nenryo Kogyo Kk | 窒化珪素質無機繊維 |
JPH01317177A (ja) * | 1988-03-05 | 1989-12-21 | Tonen Corp | 無機繊維強化セラミックス複合材料 |
US5459114A (en) * | 1992-11-26 | 1995-10-17 | Tonen Corporation | Method for producing ceramic products |
US6902875B2 (en) | 2000-08-31 | 2005-06-07 | Clariant Finance (Bvi) Limited | Photosensitive polysilazane composition, method of forming pattern therefrom, and method of burning coating film thereof |
JP2009204269A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-10 | Hitachi Appliances Inc | 空気調和機の熱源機 |
EP2626378A1 (en) | 2009-03-17 | 2013-08-14 | LINTEC Corporation | Molded article, process for producing the molded article, member for electronic device, and electronic device |
WO2011122497A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | リンテック株式会社 | 透明導電性フィルムおよびその製造方法並びに透明導電性フィルムを用いた電子デバイス |
WO2012032907A1 (ja) | 2010-09-07 | 2012-03-15 | リンテック株式会社 | 粘着シート、及び電子デバイス |
WO2013015096A1 (ja) | 2011-07-25 | 2013-01-31 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体及び電子部材 |
EP3636432A1 (en) | 2011-11-04 | 2020-04-15 | LINTEC Corporation | Gas barrier film, method for producing same, gas barrier film laminate, member for electronic devices, and electronic device |
WO2013065812A1 (ja) | 2011-11-04 | 2013-05-10 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム及びその製造方法、ガスバリアフィルム積層体、電子デバイス用部材、並びに電子デバイス |
WO2013081003A1 (ja) | 2011-11-30 | 2013-06-06 | リンテック株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法、およびガスバリア性フィルムを備える電子部材又は光学部材 |
WO2013133256A1 (ja) | 2012-03-06 | 2013-09-12 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体、粘着フィルム、および電子部材 |
WO2013141318A1 (ja) | 2012-03-22 | 2013-09-26 | リンテック株式会社 | 透明導電性積層体及び電子デバイス又はモジュール |
WO2014157685A1 (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2014157686A1 (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | リンテック株式会社 | 積層体及びその製造方法、電子デバイス用部材、並びに電子デバイス |
US10377870B2 (en) | 2014-03-31 | 2019-08-13 | Lintec Corporation | Elongated gas barrier laminate and method for producing same |
US20170107344A1 (en) | 2014-03-31 | 2017-04-20 | Lintec Corporation | Elongated gas barrier laminate and method for producing same |
US11760854B2 (en) | 2014-06-04 | 2023-09-19 | Lintec Corporation | Gas barrier laminated body, method for producing same, member for electronic device, and electronic device |
US10967618B2 (en) | 2016-03-18 | 2021-04-06 | Lintec Corporation | Curable composition for forming primer layer, gas barrier laminated film, and gas barrier laminate |
WO2017170547A1 (ja) | 2016-03-29 | 2017-10-05 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
JP2020513435A (ja) * | 2016-11-24 | 2020-05-14 | リッジフィールド・アクウィジション | シロキサザン化合物、およびそれを含む組成物、ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法 |
US11512231B2 (en) | 2017-03-28 | 2022-11-29 | Lintec Corporation | Gas barrier laminate |
WO2019078069A1 (ja) | 2017-10-20 | 2019-04-25 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム用基材、ガスバリアフィルム、電子デバイス用部材、及び電子デバイス |
WO2020138206A1 (ja) | 2018-12-27 | 2020-07-02 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体 |
WO2023282106A1 (ja) | 2021-07-09 | 2023-01-12 | 株式会社スリーボンド | 硬化性組成物、硬化被膜および物品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0237199A3 (en) | 1989-06-21 |
DE3786097D1 (de) | 1993-07-15 |
EP0237199B1 (en) | 1993-06-09 |
US4965058A (en) | 1990-10-23 |
JPH0618885B2 (ja) | 1994-03-16 |
EP0237199A2 (en) | 1987-09-16 |
DE3786097T2 (de) | 1993-10-14 |
US4869858A (en) | 1989-09-26 |
US5079323A (en) | 1992-01-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS62195024A (ja) | ポリシロキサザンおよびその製法 | |
US4840778A (en) | Inorganic polysilazane and method of producing the same | |
US4818611A (en) | High-purity silicon nitride fibers | |
JPS62290730A (ja) | 有機シラザン重合体の製造方法 | |
JPS60139820A (ja) | けい素、炭素、ほう素および窒素含有無機繊維の製造方法 | |
US4847345A (en) | Process for manufacturing organic silazane polymers and ceramics therefrom | |
JPH01188531A (ja) | ポリシラザン、それらの製造方法、それから製造されうる窒化ケイ素含有セラミック材料ならびにそれらの製造方法 | |
KR100684648B1 (ko) | 폴리카보실란으로부터 반결정형 실리콘 카바이드 섬유를제조하는 방법 | |
US4948763A (en) | Preparation of hollow ceramic fibers | |
JP2511074B2 (ja) | プリセラミツク重合体、セラミック材料及びそれらの製造方法 | |
US4935481A (en) | Polysilazanes, process for the preparation thereof, silicon nitride-containing ceramic materials which can be prepared therefrom, and the prepaation thereof | |
CA1287432C (en) | Preceramic polymers derived from cyclic silazanes and halogenated disilanes and a method for their preparation | |
US4954461A (en) | High purity and high strength inorganic silicon nitride continuous fiber | |
US5559062A (en) | Method of manufacturing a composite sintered body | |
US4873039A (en) | Method for producing shaped articles of ceramics | |
EP0303498B1 (en) | Reformed, inorganic polysilazane and method of producing same | |
JPH0662776B2 (ja) | ポリチタノカルボシラザン重合体及び該重合体を用いたセラミックスの製造方法 | |
US5166104A (en) | Polysiloxazanes, silicon oxynitride fibers and processes for producing same | |
JP2575280B2 (ja) | 酸窒化珪素繊維の製法 | |
EP0361181B1 (en) | Infusibilization of organic silazane polymers and preparation of hollow ceramic fibers | |
JPH06279587A (ja) | 窒化ケイ素−アルミニウムセラミツクおよび先駆体化合物類、それらの製造およびそれらの使用 | |
JP2749883B2 (ja) | ヒドリドクロロシラザンポリマーからの窒化ケイ素を含むセラミック材料の製造方法 | |
US5084423A (en) | Polysilazanes, process for the preparation thereof, silicon, nitride-containing ceramic materials which can be prepared therefrom, and the preparation thereof | |
JPH0586509A (ja) | 炭化珪素質繊維及びその製法 | |
EP0225412B1 (en) | Production of silicon imides and of silicon nitride thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |