JPS62191874A - ホログラム形成シ−トの製造方法 - Google Patents

ホログラム形成シ−トの製造方法

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JPS62191874A
JPS62191874A JP3363786A JP3363786A JPS62191874A JP S62191874 A JPS62191874 A JP S62191874A JP 3363786 A JP3363786 A JP 3363786A JP 3363786 A JP3363786 A JP 3363786A JP S62191874 A JPS62191874 A JP S62191874A
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JP
Japan
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hologram
resin
sheet
electron beam
curing
Prior art date
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Pending
Application number
JP3363786A
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English (en)
Inventor
Takahiro Fujio
藤生 隆弘
Kazuhisa Hoshino
星野 和久
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 出版・印刷業においては、書籍、雑誌の表紙、挿し絵と
して、あるいはギフト、ノベルティとして、また、ディ
スプレイ関連や広告等の分野では、アイキャッチャ的効
果、立体感による意外性の効果をねらって、ホログラム
形成シートが利用されている。
本発明は該ホログラム形成の製造方法に関し、更に詳細
には表面レリーフ型ホログラムをエンボス成形技術によ
って得られるホログラム形成シートの製造方法に関する
ものである。
〈従来の技術〉 従来ホログラムを複製する方法としては大別して2つの
方法が知られている。、第1の方法は密着露光法及び干
渉法である。これらの方法はいずれも感光材料を用いて
新たにホログラムを作る方法である。即ち必ず高価な感
光材料が必要であり、そのコストはホログラムの価格に
占める割合が大きいので複製されたホログラムは高価と
ならざるを得す、また製造に要する時間も感材の処理時
間が比較的長いため長くなり生産性が悪い。
第2の方法は、平滑なプラスチック材料にエンボス加工
して表面レリーフ型のホログラムラff[する方法で、
これは@械的なプレス方法によってホログラムを作る方
法であるためコスト的にみて安くで芦、また天道生産に
適している。
前記第2の方法に使用される材料のプラスチックシート
は、従来、硬質ポリ塩化ビニールシートのような熱可塑
性プラスチックシートが用いられているうしかし、市販
されている硬質ポリ塩化ビニールシートは、カレンダー
法、押し出し法で作製されているが、いずれも、本発明
の目的とするホログラム形成シートの基材としては、平
滑性、均−性等の点で満足出来るものではなかった。
すなわち、基材表面の平滑性が悪い場合、ホログラムの
700〜1500本/1程度の微細な凹凸パターンを再
現性良く均一にエンボス加工の出来ない問題、また、硬
質ポリ塩化ビニールシートにしばしば発生するフィッシ
ュアイと呼ばれるブップツや、樹11旨の流れ模様(ウ
ッドマーク)はその部分をエンボス成形すると、スタン
パに傷を付けたり、ムラなどの不良原因となっていた。
更に、硬質ポリ塩化ビニールシートをエンボス加工する
際に、熱分解され発生する塩素系ガスで、金属製スタン
パが腐食されるなどの間頂点も有していた。
また、エンボス成形は加熱・冷却というサイクルを経て
、ホログラムの成形が終了するが、次工程での金属蒸着
工程での加熱も含め、シート表裏の熱バランスにより成
形品に歪み、反りなどの間咀があった。
く問題を解決するための手段〉 本発明は以上の事情に鑑み検討の結果得られたものであ
る。
すなわち本発明は基材シートの片面に電子線硬化型m@
を塗布した後、該塗布面にレリーフホログラム型のスタ
ンパを密着させ樹脂面にホログラムを形成させ、引き続
きかかるホログラム形成面に電子線を照射し電子線硬化
型樹脂を硬化させ、さらに該ホログラム形成面に金属反
射層を設けろことにより、従来では得られない高品質な
ホログラム形成シートが得られ、高速でかつ再現性も良
好で経済的なホログラム形成シートの製造方法を提供す
るものである。
以下本発明の詳細な説明する。
周知のように放射線硬化用m指のベースレジンはオリゴ
マー又はプレポリマー状の高分子であり、作業性を改善
するために希釈剤として反応性モノ?−’vtu用する
。モノマーはベースレジンの希釈剤として低粘度化する
一方、架橋剤として[111の一部となるほか、基材と
の密着性を改良したりすることなどの役目をしている。
また電子線硬化型樹脂の特長として、イニシエータ−(
重合開始剤)を必要とせず、電子線照射時のみ重合又は
架橋硬化反応が促進され、未照射時に硬化は殆ど進行し
ない。従ってベースレジン及び希釈剤としてのモノマー
さらには安定剤などを併用することにより硬化前のm脂
の粘度、塑性を自由にコントロールすることカーできる
。また電子線照射によりかかる電子線硬化型樹脂は瞬時
に硬化し、強固な硬さを有する表面物性を得ることがで
芦る。この様な電子線硬化型樹脂の特性を鑑みて、発明
者等は本発明を完成した。
第1図から第3図は、本発明をわかり易く説明するため
の説明図である。すなわち第1図に於て、(1)は基材
シートを示し、(2)は基材シートの片面に塗布された
未硬化状態の電子線硬化型樹脂層7示し、13)は金属
製のレリーフホログラム型のスタンパを示し、(4)は
加圧プレス盤の上部板、(5)は加圧プレス盤の下受板
を示す。
すなわち、基材シー) 111に塗布された電子線硬化
型樹脂層(2)は適度な粘性及び塑性を有する。従っテ
金属性のレリーフホログラム型のスタンパ13)により
極く軽い圧力にてプレスすることにより、第2図に示す
様に電子、線硬化型樹脂層(2)表面にホログラムが形
成され重子線硬化型ml脂層+2Yが得られる。引き続
き可及的すみやかに、かかる樹脂層f2Y表面に樹脂の
硬化に心安な″電子線を照射することにより樹脂層+2
Yは極めて短時間に強固に硬化する。ここで特筆すべき
ことは、電子線照射に伴う発熱は極めて少ないため、従
来の熱去による100℃以上の温度条件で硬化させろ場
合と比較し、基材の変形もなく、硬化のtm&に於ける
体積変化も極めて小さいために、硬化後も極めて良好な
ホログラムが維持形成され、かつ表面の塗膜性能も三次
元網目構造となるため、表面強度に優れ、耐候性、耐薬
品性なども優れたものを得ることができる。第3図はさ
らにこうして得られたホログラム形成面に金属反射層・
6)を設け、本発明に述べるホログラム形成シートを得
ることができる。
以上の様に本発明は電子線硬化am指特有の性質を利用
し、極めて短時間に、再現性も良好で、安価にかつ表面
物性の優れたホログラム形成シート及びその製造方法を
提供するものであり、極めて実用性の高いものである。
本発明に述べろ電子線硬化型樹脂とは具体的に述べると
、ベースレジンとして、アクリル基(CH2=CHCO
O1又はメタクリル基[:CH2=C(CH,)COO
−1を含んだアクリル変性樹脂が適当であり、これらの
Ift脂は成子1誠に対する反応速度が高く、所要線量
も少なくてすみ、ポリエステルアクリレート、エポキシ
アクリレート、ポリウレタンアクリレートなどが具体的
に挙げられる。またこれらペースレジンの希釈剤用のモ
ノマーとしては、アクリル酸、アクリル酸エチル、アク
リル酸ブチル、2−エチルへギシルアクリレート、N−
ビニルピロリドン、2.6−へキサジオールジアクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレートなどが適当である。
本発明に述べる電子浦硬化型1酎指を塗工する方法とし
ては、通常良く知られているグラビアコーティング法、
ロールコート法、エアーナイフコート法、コンマコート
方法などの方法でおこなえば良く、塗工膜の厚さは、通
常0.5〜.5μm程度が良好である。
本発明に述べるレリーフホログラム型のスタンパ13)
を塗工面に密着させる方法としては、第1図に示す様な
平圧プレス方式や、スタンパを金属性ロールなどに巻き
付けて用いる円圧プレス方式などいずれの方法も可能で
あるが、牛歩性を加味すると円圧プレス方式の方が望ま
しい。
本発明に述べる電子線硬化型樹脂を硬化させるための電
子線々量として、その適性線量は樹脂によっても異るが
、通常1〜10Mradの範囲が適当であり、中でも3
Mrad程度の線量条件に適する樹1旨が比較的多く開
発されている。
本発明に述べる金属反射層(6)を設ける方法としては
、表面の反射率が高い金属、例えばアルミニウム、金、
銀、錫等の金属を真空蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティング等の方法にて100Nから1o、oooi
程度の薄膜を設けることにより得られる。
本発明に述べろ基材シート!1+は取扱いも容易で比較
的安価なポリエステル樹1旨、ポリカーボネート樹1旨
、セロファン等のP/BII旨からなるシートが使用で
きるが、表面子滑性、透明性、表面耐性、汎用性の点で
厚さ10μmから200μmのポリエステル樹脂が最も
適当である。
〈実施例〉 (N 以下に示す処方から成る電子線硬化型樹脂液を作
視し、厚み100μのポリエステルフィルム上にロール
リバースコート法にて3μmの厚みに均一にコートした
エポキシアクリレート系オリゴマー        6
0部(大阪有機化学社#) トリメチロールプロパントリアクリレートモノマー 4
0部計           100部 113)次に厚み100μmのニッケル製のレリーフホ
ログラム型のスタンパを直径15cIrLの金属ロール
面に巻き付は固定し、スタンパ面を(1)で得られた塗
工面に均一に押してあて、未硬化のホログラムを形成さ
せた。
(0引き続き連続的に((2)で得られたホログラム形
成塗工面の表面より電子線を3Mrad照射し、塗工I
ttll旨を硬化させた。
IDI  次に(0で得られた電子、−硬化型樹脂から
なるホログラム上にアルミニウム蒸着層を500人の厚
みで設け、金属反射層を得、第3図に述べるホログラム
形成シートを得た。
く利用方法〉 次に本発明で得られたホログラム形成シートの利用方法
について述べる。
第4図はポリエステル基材は)側に感圧接着剤層(7)
を設け、ステッカ−として利用する場合を示し、第5図
はアルミニウム蒸着層(6)側に感圧接着剤層(8)を
設はポリエステル基材fi+側からホログラムをみるス
テンカーの例を示したものである。
〈発明の効果〉 本発明に述べろホログラム形成シートは、電子゛線硬化
型樹脂を使用しているため、極めて高速度で生産できる
ことに加えて、通常の加熱硬化型樹脂により得られるも
のより表面強度も強く、各種ステッカ−として巾広く利
用することができる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の一実施例を示すもので、第1図〜第3図
は本発明の製造工程を示す断面で表わした説明図であり
、 第4図、第5図は本発明で得られたホログラム形成シー
トの利用方法を示す断面で表わした説明図である。 (1)・・・基材シート (2)・・・電子線硬化型樹脂層 13)・・・レリーフホログラム型スタンパ(4)・・
・加圧プレス盤の上部板 (5)・・・      の下受板 (6)・・・金属反射層 (7)・・・感圧接着剤層 (8)・・・感圧接着剤層

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)基材シートの片面に電子線硬化型樹脂を塗布した後
    、該塗布面にレリーフホログラム型のスタンパを密着さ
    せ樹脂面にホログラムを形成させ、引き続きかかるホロ
    グラム形成面に電子線を照射し電子線硬化型樹脂を硬化
    させ、さらに該ホログラム形成面に金属反射層を設けて
    成ることを特徴とするホログラム形成シートの製造方法
    。 2)基材シートが10μmから200μmの厚さのポリ
    エステルフィルムであることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項に記載のホログラム形成シートの製造方法。
JP3363786A 1986-02-18 1986-02-18 ホログラム形成シ−トの製造方法 Pending JPS62191874A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01283582A (ja) * 1988-05-10 1989-11-15 Toppan Printing Co Ltd ホログラム形成紙の製造方法
JPH05323856A (ja) * 1992-05-20 1993-12-07 Tootsuya:Kk 透明ホログラムディスプレー及びディスプレー装置

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01283582A (ja) * 1988-05-10 1989-11-15 Toppan Printing Co Ltd ホログラム形成紙の製造方法
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