JPS62186187A - 自動熱化学処理装置 - Google Patents
自動熱化学処理装置Info
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- JPS62186187A JPS62186187A JP61233143A JP23314386A JPS62186187A JP S62186187 A JPS62186187 A JP S62186187A JP 61233143 A JP61233143 A JP 61233143A JP 23314386 A JP23314386 A JP 23314386A JP S62186187 A JPS62186187 A JP S62186187A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/36—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases using ionised gases, e.g. ionitriding
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は迅速な熱化学処理のための融通性を有する装
２１（設備）に関する。
２１（設備）に関する。
機械産業において部品の硬度およびお疲労強度を増大す
るために、この部品が、選択された化学物質、たとえば
炭素または窒素によりその材料をエンリッチ（強化）さ
れることからなる熱化学処理を受け、それから通常のサ
イクルにしたがって冷却されるようにすることが知られ
ている。
るために、この部品が、選択された化学物質、たとえば
炭素または窒素によりその材料をエンリッチ（強化）さ
れることからなる熱化学処理を受け、それから通常のサ
イクルにしたがって冷却されるようにすることが知られ
ている。
このタイプの処理を実施するために現在用いられている
装置は、総体的に連続ラインまたはバッチ式炉として構
成されている。この装置において、加熱および熱化学処
理は同一室内で行なわれており、焼入れ作業がロック（
１ｏｃｋ）を介して炉に連結された槽内に浸漬されるこ
とにより行なわれている。処理される部品はプレート上
、バスケット内、あるいはベルト上にａ置されると共に
、これらは炉の全装填量の５０％であることが多い。
装置は、総体的に連続ラインまたはバッチ式炉として構
成されている。この装置において、加熱および熱化学処
理は同一室内で行なわれており、焼入れ作業がロック（
１ｏｃｋ）を介して炉に連結された槽内に浸漬されるこ
とにより行なわれている。処理される部品はプレート上
、バスケット内、あるいはベルト上にａ置されると共に
、これらは炉の全装填量の５０％であることが多い。
通常の装置は以下のような要件または欠点を右している
： １、投入物中での活動ガスの温度および分布状ｙＥの均
一性を達成することが困難なことから、処理される部品
の品質が分散している；２、対流−輻射による通常の加
熱手段を用いること、および少ない均一性のための研究
に組合わされた。肉厚の小さいエンリッチメント、に関
するサイクルの長さ； ３、運転に付随する事件が生じた時、場合によって炉の
装填物または内容物全体が廃棄される危険； ４、炉のサイズ、用いられる雰囲気および焼入れ槽に組
合わされた高い爆発の危険： ５、製造コストが一方で、バスケット、プレートまたは
ベルトと、炉の耐火物質とを加熱することにより必要と
なる消費量の増大により、また他方で、高価な合金によ
り形成された前述のコンディショニング材料を周期的に
交換することにより、増大される： ６、装置が融通性に欠けており、すなわち炉は最も重量
および嵩の大きい装填物のために過大サイズに構成され
ており、したがって過剰容量を有すると共に、熱的およ
び気体力学的観点から異なる装填物に適用するには不都
合であるニア、縮小させることが困難であり、連続ライ
ンが包含される場合は、品質が分散し、サイクルが長く
なり、また予備加熱されている部品と、拡散工程にある
部品とが同一包囲体内に存在している。
： １、投入物中での活動ガスの温度および分布状ｙＥの均
一性を達成することが困難なことから、処理される部品
の品質が分散している；２、対流−輻射による通常の加
熱手段を用いること、および少ない均一性のための研究
に組合わされた。肉厚の小さいエンリッチメント、に関
するサイクルの長さ； ３、運転に付随する事件が生じた時、場合によって炉の
装填物または内容物全体が廃棄される危険； ４、炉のサイズ、用いられる雰囲気および焼入れ槽に組
合わされた高い爆発の危険： ５、製造コストが一方で、バスケット、プレートまたは
ベルトと、炉の耐火物質とを加熱することにより必要と
なる消費量の増大により、また他方で、高価な合金によ
り形成された前述のコンディショニング材料を周期的に
交換することにより、増大される： ６、装置が融通性に欠けており、すなわち炉は最も重量
および嵩の大きい装填物のために過大サイズに構成され
ており、したがって過剰容量を有すると共に、熱的およ
び気体力学的観点から異なる装填物に適用するには不都
合であるニア、縮小させることが困難であり、連続ライ
ンが包含される場合は、品質が分散し、サイクルが長く
なり、また予備加熱されている部品と、拡散工程にある
部品とが同一包囲体内に存在している。
これらの要件および欠点、およびこの装置が専門家によ
り管理されなければならないことから、一連の多くの機
械部品を製造するためにこの装置を統合させることは容
易ではない。
り管理されなければならないことから、一連の多くの機
械部品を製造するためにこの装置を統合させることは容
易ではない。
したがって、この発明の装置は前述の通常の装置におけ
る欠点をもたないように設計された装置に関する。
る欠点をもたないように設計された装置に関する。
この発明の装置は以下の構成からなることを特徴として
おり、すなわち制御された雰囲気状態での部品用移送ロ
ック；複数の部品処理モジュール、たとえば加熱モジュ
ール、熱化学処理モジュール、焼入れモジュールであっ
て、すべて前記移送ロックに連結されているもの：装填
ロック；除荷（取出し）ロック；および種々のモジュー
ルに向けて処理されるべき部品を連続的に移送するため
に前記移送ロックに配置された部品取扱い装置、から構
成されることを特徴としている。
おり、すなわち制御された雰囲気状態での部品用移送ロ
ック；複数の部品処理モジュール、たとえば加熱モジュ
ール、熱化学処理モジュール、焼入れモジュールであっ
て、すべて前記移送ロックに連結されているもの：装填
ロック；除荷（取出し）ロック；および種々のモジュー
ルに向けて処理されるべき部品を連続的に移送するため
に前記移送ロックに配置された部品取扱い装置、から構
成されることを特徴としている。
この発明において、部品の熱化学処理サイクルの各工程
が前記処理モジュールの一つにおいて実施されるように
なっており、その特徴は、以下のようなサイクルにおけ
るその特別の役割の関数として最適化され得るニ ー移送モードに適用する場合の熱移動ニー大量移送また
は焼入れ。
が前記処理モジュールの一つにおいて実施されるように
なっており、その特徴は、以下のようなサイクルにおけ
るその特別の役割の関数として最適化され得るニ ー移送モードに適用する場合の熱移動ニー大量移送また
は焼入れ。
サイクル全体には、包含される動力学（表面における熱
の拡散速度と異なる化学物質の拡散速度）による種々の
持続時間の工程が包含されており、プログラムの最短工
程（基本工程）がモジュールの容量を限定している。こ
の発明において、それぞれの連続処理工程に対して、モ
ジュールの全体としての数は、考えている工程の持続時
間と基本工程の持続時間との関係に比例している。
の拡散速度と異なる化学物質の拡散速度）による種々の
持続時間の工程が包含されており、プログラムの最短工
程（基本工程）がモジュールの容量を限定している。こ
の発明において、それぞれの連続処理工程に対して、モ
ジュールの全体としての数は、考えている工程の持続時
間と基本工程の持続時間との関係に比例している。
この発明の特徴において、製造ラインから連続的に到達
する部品はコラム（柱）体として積重ねられ、そこでは
各部品はスペーサにより分離することができるようにな
っており、それからこれらの部品はロボットを用いて、
除荷ロックの対応ステーションへ配送され、そこではド
ームが前記コラム体の頂部に到達し、それを緊密に包囲
するようになっており、それから部品コラム体は移送ロ
ックおよび部品取扱い装置を介して、第１処理モジュー
ル、たとえば予熱モジュールへ移送される。
する部品はコラム（柱）体として積重ねられ、そこでは
各部品はスペーサにより分離することができるようにな
っており、それからこれらの部品はロボットを用いて、
除荷ロックの対応ステーションへ配送され、そこではド
ームが前記コラム体の頂部に到達し、それを緊密に包囲
するようになっており、それから部品コラム体は移送ロ
ックおよび部品取扱い装置を介して、第１処理モジュー
ル、たとえば予熱モジュールへ移送される。
この発明において、移送ロックは円形断面の室とするこ
とができ、その周縁に種々のモジュールが分配配置され
るか、あるいは四角形断面の室として、それに沿って前
記モジュールを配置することができ、その配置状態はレ
イアウトおよび実施される作業の関数である。この発明
の種々の他の特徴および利点は、限定するものではない
図面を参照する２つの実施態様に関する以下の説明から
明らかになるであろう。第１および２図において、この
発明の装置が実質的に以下の要素を包含することが明ら
かであろうニ ーこの実施態様においては円形断面の包囲体の形状を有
する移送ロックｌＯ； −たとえば予熱モジュール１２，１４．接合／拡散モジ
ュール１６〜２６．および制御された雰囲気状態にある
焼入れモジュール２８を包含すると共に、これらすべて
のモジュールが移送ロックの上面に取付けられ、かつ前
記ロックに連結されている複数の部品処理モジュール； −移送ロックｌＯに設けられると共に、処理される部品
を種々のモジュール間を移送させるように設計されてい
る取扱い装Ｍ３０ニ ーロック３２およびその可動ドーム４２を備える部品の
装填／除荷ステーション３４：および一部品を装置へ供
給する供給ロボット３６゜製造ラインから連続的に到達
する部品はコラム体Ｃに積重ねられ、そこでは部品はス
ペーサにより分離さえ得るようになっている１部品から
なるコラム体Ｃはコンベア３８により装置へ供給され、
そこから供給ロボット３６により取上げられ、このロボ
ット３６は各コラムＣを連続的に装填ステーション３４
へ配送するようになっている。この装填ステーション３
４は実質的にブラケット４０により構成されており、ブ
ラケット４０はロッド４４に沿って垂直に移動できるよ
うになっており、また可動ドーム４２が保持されている
。前記ドーム４２は部品Ｃのコラム体上部に到達して、
それを緊密に包囲するようになっている。それからドー
ムにより画定される包囲体が、移送ロックｌＯ内におけ
るのと同一の雰囲気および圧力状態に設定され、前記包
囲体の減少された体積により迅速な浄化が可能にある。
とができ、その周縁に種々のモジュールが分配配置され
るか、あるいは四角形断面の室として、それに沿って前
記モジュールを配置することができ、その配置状態はレ
イアウトおよび実施される作業の関数である。この発明
の種々の他の特徴および利点は、限定するものではない
図面を参照する２つの実施態様に関する以下の説明から
明らかになるであろう。第１および２図において、この
発明の装置が実質的に以下の要素を包含することが明ら
かであろうニ ーこの実施態様においては円形断面の包囲体の形状を有
する移送ロックｌＯ； −たとえば予熱モジュール１２，１４．接合／拡散モジ
ュール１６〜２６．および制御された雰囲気状態にある
焼入れモジュール２８を包含すると共に、これらすべて
のモジュールが移送ロックの上面に取付けられ、かつ前
記ロックに連結されている複数の部品処理モジュール； −移送ロックｌＯに設けられると共に、処理される部品
を種々のモジュール間を移送させるように設計されてい
る取扱い装Ｍ３０ニ ーロック３２およびその可動ドーム４２を備える部品の
装填／除荷ステーション３４：および一部品を装置へ供
給する供給ロボット３６゜製造ラインから連続的に到達
する部品はコラム体Ｃに積重ねられ、そこでは部品はス
ペーサにより分離さえ得るようになっている１部品から
なるコラム体Ｃはコンベア３８により装置へ供給され、
そこから供給ロボット３６により取上げられ、このロボ
ット３６は各コラムＣを連続的に装填ステーション３４
へ配送するようになっている。この装填ステーション３
４は実質的にブラケット４０により構成されており、ブ
ラケット４０はロッド４４に沿って垂直に移動できるよ
うになっており、また可動ドーム４２が保持されている
。前記ドーム４２は部品Ｃのコラム体上部に到達して、
それを緊密に包囲するようになっている。それからドー
ムにより画定される包囲体が、移送ロックｌＯ内におけ
るのと同一の雰囲気および圧力状態に設定され、前記包
囲体の減少された体積により迅速な浄化が可能にある。
それから取扱い装置または取扱いロポッ１−３０がコラ
ム体Ｃを、移送ロック１０を介してＪ！Ｉ続的に異なる
処理モジュールへ移送するようになっている。
ム体Ｃを、移送ロック１０を介してＪ！Ｉ続的に異なる
処理モジュールへ移送するようになっている。
前記移送ロックは包囲体から構成されており。
その内壁は低放射能性を有し、部品コラム体の移送中に
熱の対流による変化が最小になるようになされている。
熱の対流による変化が最小になるようになされている。
これは酸化、爆発の危険を最小にするために中立雰囲気
に、および／または対流による変化を低減するために低
圧状態におかれている。
に、および／または対流による変化を低減するために低
圧状態におかれている。
移送ロック１０に設けられた取扱いロボット３０はアー
ム４６の形状を有しており、このアームは中央コラム４
８の周囲を移動できると共に、それに沿って摺動できる
ようになっている。前記アーム４６はその端部にプレー
ト４９を保持しており、プレート４９上に部品Ｃのコラ
ム体の支持体５０が載置されており、この支持体は各処
理モジュールを移送ロック１０に関して緊密性をもたら
すように設計されている。
ム４６の形状を有しており、このアームは中央コラム４
８の周囲を移動できると共に、それに沿って摺動できる
ようになっている。前記アーム４６はその端部にプレー
ト４９を保持しており、プレート４９上に部品Ｃのコラ
ム体の支持体５０が載置されており、この支持体は各処
理モジュールを移送ロック１０に関して緊密性をもたら
すように設計されている。
部品Ｃのコラム体が予熱モジュール１２へ供給され、こ
のモジュール１２は緊密に閉鎖されていると共に、所望
圧力のガスが充填される。この実施態様において、誘導
装置５２による加熱を利用することができ、その利点は
その急速性である。
のモジュール１２は緊密に閉鎖されていると共に、所望
圧力のガスが充填される。この実施態様において、誘導
装置５２による加熱を利用することができ、その利点は
その急速性である。
しかし、任意の他の予熱または処理装置を利用すること
もできる。処理温度に到達すると、モジュール１２は移
送ロック１０のそれと同一の圧力および雰囲気で浄化さ
れて、コラム体Ｃが次のモジュールへ移送される。
もできる。処理温度に到達すると、モジュール１２は移
送ロック１０のそれと同一の圧力および雰囲気で浄化さ
れて、コラム体Ｃが次のモジュールへ移送される。
この非限定的な実施態様において、２つの予熱モジュー
ル１２．１４が良好な均一性を達成するために設けられ
ており、第１モジュール１２においては、キューリー点
より低温での予熱が行なわれ、また第２モジュール１４
においては、キューリー点より高温での予熱が行なわれ
る。誘導装置５２の供給周波数は、エンリッチされるべ
き表面に対する局部的加熱、あるいはコア部までの加熱
の、必要な加熱モードを達成するように選定される。供
給周波数および２つの段階（したがって２つのモジュー
ルを設けること）に加熱を分割する必要性は、予備テス
トにより決定される。各予熱モジュールにはガス分配装
置が設けられて、予熱サイクル中に１表面酸化物を減少
し、および／または部品の脱脂を行なうようにしている
。
ル１２．１４が良好な均一性を達成するために設けられ
ており、第１モジュール１２においては、キューリー点
より低温での予熱が行なわれ、また第２モジュール１４
においては、キューリー点より高温での予熱が行なわれ
る。誘導装置５２の供給周波数は、エンリッチされるべ
き表面に対する局部的加熱、あるいはコア部までの加熱
の、必要な加熱モードを達成するように選定される。供
給周波数および２つの段階（したがって２つのモジュー
ルを設けること）に加熱を分割する必要性は、予備テス
トにより決定される。各予熱モジュールにはガス分配装
置が設けられて、予熱サイクル中に１表面酸化物を減少
し、および／または部品の脱脂を行なうようにしている
。
１段階または２段階における予熱が完了すると、取扱い
ロボット３０がコラム体Ｃを待機熱化学処理モジュール
１６〜２６へ移送する。前記モジュールは緊密にされる
と共に、選定されたガスに適する圧力状態に設定される
。
ロボット３０がコラム体Ｃを待機熱化学処理モジュール
１６〜２６へ移送する。前記モジュールは緊密にされる
と共に、選定されたガスに適する圧力状態に設定される
。
各熱化学処理モジュール１６〜２６において、部品のエ
ンリッチメントはガスの循環により達成され、その場合
部品は所望温度に維持される。エンリッチメント段階の
終了時、モジュール雰囲気は浄化され、拡散に必要なも
のに交換される。拡散終了時、モジュール雰囲気は浄化
され、移送ロック１０における圧力および組成と同一の
雰囲気に交換され、取扱いロボッ）３０が部品コラム体
を次のモジュールへ移送することができる。
ンリッチメントはガスの循環により達成され、その場合
部品は所望温度に維持される。エンリッチメント段階の
終了時、モジュール雰囲気は浄化され、拡散に必要なも
のに交換される。拡散終了時、モジュール雰囲気は浄化
され、移送ロック１０における圧力および組成と同一の
雰囲気に交換され、取扱いロボッ）３０が部品コラム体
を次のモジュールへ移送することができる。
熱化学処理は任意に、数絶対ミリバールの減少された圧
力値で、ある、いはたとえば数絶対バールの大気圧より
高い圧力で実施することができる。
力値で、ある、いはたとえば数絶対バールの大気圧より
高い圧力で実施することができる。
両場合とも、ガス分布はテストにより、圧力。
処理される部品のタイプおよび部品コラム体の高さの関
数として決定され得る。
数として決定され得る。
付加されるガスの濃度は、室の空気力学、ガス反応動力
学および平衡熱力学パラメータを考慮した熱および質量
交換式に関連するテストにより決定される。
学および平衡熱力学パラメータを考慮した熱および質量
交換式に関連するテストにより決定される。
この部品のエンリッチメントは連続的に実施することが
でき、付加されるガスの割合は前述のように決定された
持続時間の関数である。
でき、付加されるガスの割合は前述のように決定された
持続時間の関数である。
反応性物質の御所を改良するために、モジュ−ルに一陣
の付加ガスを供給することにより行なうことができる。
の付加ガスを供給することにより行なうことができる。
この送風周波数はテストにより決定されると共に、種々
のパラメータ、すなわちガス性質、濃度、体積、温度、
室サイズの関数として関係づけられる。イオン処理する
ことが可能であり、その場合、部品は陰極に連結され、
包囲体は陽極に連結される。
のパラメータ、すなわちガス性質、濃度、体積、温度、
室サイズの関数として関係づけられる。イオン処理する
ことが可能であり、その場合、部品は陰極に連結され、
包囲体は陽極に連結される。
部品内での化学物質の拡散は同一モジュールにおいて、
好ましくは真空中で、あるいは中立雰囲気または調整さ
れた付加ガス雰囲気において実施される。
好ましくは真空中で、あるいは中立雰囲気または調整さ
れた付加ガス雰囲気において実施される。
熱化学処理の終了時、取扱いロポ、 ト３０は部品コラ
ム体を焼入れモジュール２８へ移送する。
ム体を焼入れモジュール２８へ移送する。
部品の焼入れは低温ガス、ミストの対流により。
液体ジェットの衝撃により、あるいはこれら３つの手段
の混成手段により行なわれ、この焼入れ流体はモジュー
ル内を循環される。たとえば以下の交換を調整するパラ
メータは実験的に決定される。
の混成手段により行なわれ、この焼入れ流体はモジュー
ル内を循環される。たとえば以下の交換を調整するパラ
メータは実験的に決定される。
一ガス性質、その温度、そのモジュール内での速度およ
び分布状態ニ ーミストの性質、その通過速度、その小滴のサイズおよ
び割合、 一小滴のサイズ、放出ノズルと部品との間の距離。
び分布状態ニ ーミストの性質、その通過速度、その小滴のサイズおよ
び割合、 一小滴のサイズ、放出ノズルと部品との間の距離。
液体が冷却作業の始めの部分で多少散布される交換の場
合は、モジュールおよびその周縁装置は、冷却される部
品により放出される熱量を用いて乾燥される。
合は、モジュールおよびその周縁装置は、冷却される部
品により放出される熱量を用いて乾燥される。
モジュールは２重壁包囲体を設けることができ、前記包
囲体を冷却液が通過して、それにより前記部品が輻射に
より冷却されることになり、これは部品がコラム体中に
配置されているという事実から可能になる。
囲体を冷却液が通過して、それにより前記部品が輻射に
より冷却されることになり、これは部品がコラム体中に
配置されているという事実から可能になる。
焼入れの終了時、モジュール２８は浄化されて、ロック
１０のそれと同一雰囲気に設定され、コ・ラム体は取扱
いロボット３０により取上げられて、装填／除荷モジュ
ール３２へ移送され、そこから除荷ロボット３６および
排出コンベア３８゜により送出される。
１０のそれと同一雰囲気に設定され、コ・ラム体は取扱
いロボット３０により取上げられて、装填／除荷モジュ
ール３２へ移送され、そこから除荷ロボット３６および
排出コンベア３８゜により送出される。
第５および６図に示される変形例においては。
前述の装置におけるのと同一の構成要素が設けられてい
るが、木質的な相違点は、移送ロック１０゛が四角形断
面の包囲体から構成されていることで、その頂部に種々
のモジュールが配置されている。
るが、木質的な相違点は、移送ロック１０゛が四角形断
面の包囲体から構成されていることで、その頂部に種々
のモジュールが配置されている。
この実施態様において、部品コラム体を種々のモジュー
ル１２〜２８間を、装填モジュールから除荷モジュール
３２°へ移送する取扱いロボット３０′はアーム５４の
形態ケ有しており、これは回転トラック６０ 、６０
’上でロック１０°に沿って横方向に移動する垂直キャ
リア５８により保持されて、垂直コラム５６に沿って摺
動するようになっており、このロボットの他の要素は前
述の取扱いロボット３０と同一である。
ル１２〜２８間を、装填モジュールから除荷モジュール
３２°へ移送する取扱いロボット３０′はアーム５４の
形態ケ有しており、これは回転トラック６０ 、６０
’上でロック１０°に沿って横方向に移動する垂直キャ
リア５８により保持されて、垂直コラム５６に沿って摺
動するようになっており、このロボットの他の要素は前
述の取扱いロボット３０と同一である。
この発明の装置においては、各モジュールまたは一連の
モジュールはサイズおよび幾何形状において、処理され
る部品のタイプ、部品タイプの変更、外部許容範囲に適
合することができ、簡単なモジュールの変更が必要にな
るだけであることが明らかであろう、こうして以下の利
点が特にもたらされるニ ー製造に関する融通性ニ ーモジュールを部品に適合させることにより。
モジュールはサイズおよび幾何形状において、処理され
る部品のタイプ、部品タイプの変更、外部許容範囲に適
合することができ、簡単なモジュールの変更が必要にな
るだけであることが明らかであろう、こうして以下の利
点が特にもたらされるニ ー製造に関する融通性ニ ーモジュールを部品に適合させることにより。
温度の良好な均一性により品質が改良されるニーガスの
良好な分布ニ ー標準炉においては不可能な、加熱手段として誘導装置
を用いることを可能にするコラム体のバッチ式処理； 一事故の発生時、一部の製造品のみが悪影響を受け、装
置の全体的な装填物には影響しないニー標準装置に比較
して以下の理由により１３の広舊が抑制される： ・装填物−モジュール組立体の気体力学により、ガスお
よび／またはミスト焼入れの効果的な利用が可ス克にな
り、したがって油中での焼入れの必要性が少ない； ・他方、装填物の分別により爆発性ガスの体積が減少し
、この体積は熱化学処理モジュールに自由に残っている
空間、すなわち部品と壁部との間の容積に限定される。
良好な分布ニ ー標準炉においては不可能な、加熱手段として誘導装置
を用いることを可能にするコラム体のバッチ式処理； 一事故の発生時、一部の製造品のみが悪影響を受け、装
置の全体的な装填物には影響しないニー標準装置に比較
して以下の理由により１３の広舊が抑制される： ・装填物−モジュール組立体の気体力学により、ガスお
よび／またはミスト焼入れの効果的な利用が可ス克にな
り、したがって油中での焼入れの必要性が少ない； ・他方、装填物の分別により爆発性ガスの体積が減少し
、この体積は熱化学処理モジュールに自由に残っている
空間、すなわち部品と壁部との間の容積に限定される。
・バラ子犬の分別によりいわゆる低圧技術を利用するこ
とができ、さらに爆発の危険が減少される。
とができ、さらに爆発の危険が減少される。
一室のサイズを減少させることにより回旋になってＨｅ
またはＨ２の利用による冷却速度の改善−一コラム体の
支持体が、標準装置のプレートまたはバスケットに比較
して非常に小さい重量を有することから、製造コストが
標準装置に比較して低減される； 一前記コストは、耐火物質を有する大きなサイズを室を
加熱する必要がないことにより低減されるニ ー前記コストは、装置の幾何形状が可能な限り部品の幾
何形状に適合されて、前記装置の過剰容量が避けられる
ことから低減されるニ ー同一包囲体内で処理されるすべての部品は同一処理を
受けることにより、したがって雰囲気制御の問題は避け
られる。
またはＨ２の利用による冷却速度の改善−一コラム体の
支持体が、標準装置のプレートまたはバスケットに比較
して非常に小さい重量を有することから、製造コストが
標準装置に比較して低減される； 一前記コストは、耐火物質を有する大きなサイズを室を
加熱する必要がないことにより低減されるニ ー前記コストは、装置の幾何形状が可能な限り部品の幾
何形状に適合されて、前記装置の過剰容量が避けられる
ことから低減されるニ ー同一包囲体内で処理されるすべての部品は同一処理を
受けることにより、したがって雰囲気制御の問題は避け
られる。
もちろん、この発明は図示および／または説明された実
施態様に限定されるものではなく、そのあらゆる変形例
を包含するものである。特に、この発明の目的の自動装
置に関して、他の幾何形状および配置状態をとることが
でき、たとえば部品の処理モジュールが回転木馬型に可
動で、供給装置を固定状態にすることができる。
施態様に限定されるものではなく、そのあらゆる変形例
を包含するものである。特に、この発明の目的の自動装
置に関して、他の幾何形状および配置状態をとることが
でき、たとえば部品の処理モジュールが回転木馬型に可
動で、供給装置を固定状態にすることができる。
第１図は円形断面の移送ロックを包含するこの発明の装
置の第１実施態様の垂直立断面図、第２図は第１図の平
面図、第３図は第１および２図の装置の装填／除荷ステ
ーションを示す部分図、第４図はこの装置の予熱モジュ
ールの垂直断面詳細図、第５図は四角形断面の移送ロッ
クを備えるこの発明の装置の第２実施態様の一部破断側
立面図、第６図は第５図の垂直平面における断面図であ
る。 １０．１０’・Φ・移送ロック １２〜２６・・・処理モジュール ３２・・・装填口７り ３２′・・・除荷ロック
置の第１実施態様の垂直立断面図、第２図は第１図の平
面図、第３図は第１および２図の装置の装填／除荷ステ
ーションを示す部分図、第４図はこの装置の予熱モジュ
ールの垂直断面詳細図、第５図は四角形断面の移送ロッ
クを備えるこの発明の装置の第２実施態様の一部破断側
立面図、第６図は第５図の垂直平面における断面図であ
る。 １０．１０’・Φ・移送ロック １２〜２６・・・処理モジュール ３２・・・装填口７り ３２′・・・除荷ロック
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、制御された雰囲気状態にある部品移送ロック（１０
−１０’）；複数の部品処理モジュールであって、たと
えば、前記移送ロックに連結される予熱モジュール、熱
化学処理モジュール、焼入れモジュールからなる部品処
理モジュール（１２〜２６）；装填モジュール（３２）
；除荷モジュール（３２’）；および前記移送ロックに
配置されて、前記部品を種々のモジュール間を連続移送
させる部品取扱いロボット（３０−３０’）、を包含す
ることを特徴とする自動迅速部品熱化学処理装置。 ２、前記移送ロック（１０）が円形断面を有する包囲体
から形成されていると共に、その周縁に前記種々のモジ
ュールが分配配置されている、特許請求の範囲第１項に
記載の装置。 ３、前記移送ロック（１０）が四角形断面を有すする包
囲体から形成されていると共に、それに沿って前記種々
のモジュールが配置されている、特許請求の範囲第１項
に記載の装置。 ４、前記種々のモジュールのサイズおよび幾何形状が、
処理される部品のタイプに適合されるようになっている
、特許請求の範囲第１項〜３項のいずれか一項に記載の
装置。 ５、連続して到達する部品がコラム体（Ｃ）として積重
ねられ、そこではスペーサにより分離されており、次い
でロボット（３６）により装填ロック（３２）に対応す
るステーションへ配送され、そこでドーム（４２）が前
記コラム体の頂部に到達して緊密に包囲し、次いで前記
部品コラム体が前記移送ロック（１０）および取扱いロ
ボット（３０）を介して、第１処理モジュールへ移送さ
れるようになっている、特許請求の範囲第１項〜４項の
いずれか一項に記載の装置。 ６、前記移送ロック（１０）に設けられた取扱いロボッ
ト（３０）がアーム（４６）を包含しており、このアー
ム（４６）が中央コラム（４８）の回りを回転可能であ
ると共に、それに沿って垂直に摺動可能になっており、
かつプレート（４９）を備え、その上に前記部品コラム
体（Ｃ）の支持体（５０）が配置されており、前記支持
体が各モジュールを前記移送ロック（１０）に緊密配置
させるようになっている、特許請求の範囲第１、２、４
または５項に記載の装置。 ７、前記取扱いロボット（３０’）がアーム（５４）の
形状を有すると共に、垂直キャリア（５８）に保持され
た垂直コラム（５６）に沿って摺動するようになってお
り、前記キャリア（５８）は回転トラック（６０、６０
’）上を移送ロック（１０’）に沿って横方向に移動す
るようになっており、前記アームが保持するプレート（
４９）上に前記部品コラム体（Ｃ）の支持体が載置され
ており、前記支持体が各モジュールを前記ロック（１０
’）に対して緊密配置させるようになっている、特許請
求の範囲第１、３〜５項のいずれか一項に記載の装置。 ８、予熱処理が単一工程により実施されるようにした、
特許請求の範囲第１〜７項のいずれか一項に記載の装置
。 ９、予熱処理が２段工程で実施され、キューリー点より
低温に対応する第１工程と、キューリー点より高温に対
応する第２工程とからなるようにした特許請求の範囲第
１〜７項のいずれか一項に記載の装置。 １０、各工程に対するモジュール数が基本モジュールと
製品に関連して限定されるようにした、特許請求の範囲
第９項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8601913 | 1986-02-12 | ||
| FR8601913A FR2594102B1 (fr) | 1986-02-12 | 1986-02-12 | Installation flexible automatisee de traitement thermochimique rapide |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62186187A true JPS62186187A (ja) | 1987-08-14 |
Family
ID=9332061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61233143A Pending JPS62186187A (ja) | 1986-02-12 | 1986-09-30 | 自動熱化学処理装置 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4790750A (ja) |
| EP (1) | EP0236639B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62186187A (ja) |
| KR (1) | KR870008037A (ja) |
| CN (1) | CN1010418B (ja) |
| AT (1) | ATE51038T1 (ja) |
| CA (1) | CA1289357C (ja) |
| DE (2) | DE236639T1 (ja) |
| ES (1) | ES2001286A6 (ja) |
| FR (1) | FR2594102B1 (ja) |
| SU (1) | SU1500151A3 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4872834A (en) * | 1988-11-09 | 1989-10-10 | Williams Jr John W | Recovery boiler port cleaner |
| FR2640999A1 (ja) * | 1988-12-27 | 1990-06-29 | Stein Heurtey | |
| FR2644567A1 (fr) * | 1989-03-17 | 1990-09-21 | Etudes Const Mecaniques | Dispositif pour l'execution de traitements thermiques enchaines en continu sous vide |
| US5110248A (en) * | 1989-07-17 | 1992-05-05 | Tokyo Electron Sagami Limited | Vertical heat-treatment apparatus having a wafer transfer mechanism |
| US5000682A (en) * | 1990-01-22 | 1991-03-19 | Semitherm | Vertical thermal processor for semiconductor wafers |
| KR0161417B1 (ko) * | 1995-07-11 | 1999-02-01 | 김광호 | 가스흐름이 개선된 종형확산로 |
| JP3895000B2 (ja) * | 1996-06-06 | 2007-03-22 | Ｄｏｗａホールディングス株式会社 | 浸炭焼入焼戻方法及び装置 |
| DE19829825C2 (de) * | 1997-07-07 | 2002-10-10 | Ntn Toyo Bearing Co Ltd | Karburierungs- und Abschreckungsvorrichtung und Verfahren zum Abschrecken dünner Plattenteile |
| FR2771754B1 (fr) * | 1997-12-02 | 2000-02-11 | Etudes Const Mecaniques | Installation de traitement thermique sous vide modulaire |
| US6786935B1 (en) * | 2000-03-10 | 2004-09-07 | Applied Materials, Inc. | Vacuum processing system for producing components |
| EP1523761A1 (en) * | 2002-06-21 | 2005-04-20 | Applied Materials, Inc. | Transfer chamber for vacuum processing system |
| JP4516304B2 (ja) * | 2003-11-20 | 2010-08-04 | 株式会社アルバック | 巻取式真空蒸着方法及び巻取式真空蒸着装置 |
| FR2863629B1 (fr) * | 2003-12-12 | 2006-12-08 | Etudes Const Mecaniques | Procede et dispositif de traitement physicochimique a chaud de pieces mecaniques |
| US20060201074A1 (en) * | 2004-06-02 | 2006-09-14 | Shinichi Kurita | Electronic device manufacturing chamber and methods of forming the same |
| US7784164B2 (en) * | 2004-06-02 | 2010-08-31 | Applied Materials, Inc. | Electronic device manufacturing chamber method |
| KR100826269B1 (ko) * | 2006-06-13 | 2008-04-29 | 삼성전기주식회사 | 복합 소성로 및 이에 채용되는 승하강 장치 |
| US20110083604A1 (en) * | 2008-06-11 | 2011-04-14 | Stefan Esser | Workpiece carrier |
| JP6493339B2 (ja) * | 2016-08-26 | 2019-04-03 | 村田機械株式会社 | 搬送容器、及び収容物の移載方法 |
| CN115354280B (zh) * | 2022-09-19 | 2023-05-09 | 陕西理工大学 | 一种半导体芯片的镀膜治具 |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1838015A (en) * | 1925-12-01 | 1931-12-22 | Bbc Brown Boveri & Cie | Annealing apparatus |
| US3856654A (en) * | 1971-08-26 | 1974-12-24 | Western Electric Co | Apparatus for feeding and coating masses of workpieces in a controlled atmosphere |
| FR2183557A1 (en) * | 1972-05-10 | 1973-12-21 | Cit Alcatel | Cathodic sputtering appts - with number of chambers for simultaneous treatment of several substrates |
| DE2249194C3 (de) * | 1972-10-05 | 1975-07-24 | Jurid Werke Gmbh, 2056 Glinde | Vorrichtung zum Drucksintern plattenförmiger Teile |
| US3836325A (en) * | 1973-12-11 | 1974-09-17 | Nippon Steel Corp | Apparatus for charging materials into vertical heating furnace |
| US4033715A (en) * | 1976-01-12 | 1977-07-05 | Btu Engineering Corporation | Heat processing system |
| US4210097A (en) * | 1977-02-14 | 1980-07-01 | Armco Inc. | Means for maintaining a non-oxidizing atmosphere at positive pressure within the metallic strip preparation furnace of a metallic coating line during line stops |
| FR2403645A2 (fr) * | 1977-09-14 | 1979-04-13 | Vide & Traitement Sa | Four pour le traitement thermochimique, en continu, de pieces metalliques, par bombardement ionique |
| US4170815A (en) * | 1977-05-23 | 1979-10-16 | Chugairo Kogyo Kaisha Ltd. | Method of operating a reheating furnace in hot rolling line |
| JPS56274A (en) * | 1979-06-18 | 1981-01-06 | Hitachi Ltd | Continuous vacuum deposition apparatus |
| US4405435A (en) * | 1980-08-27 | 1983-09-20 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for performing continuous treatment in vacuum |
| JPS58101478A (ja) * | 1981-12-12 | 1983-06-16 | Toshiba Corp | 多結晶シリコン太陽電池の製造方法 |
| US4412812A (en) * | 1981-12-28 | 1983-11-01 | Mostek Corporation | Vertical semiconductor furnace |
| JPS58180227A (ja) * | 1982-04-17 | 1983-10-21 | Samuko Internatl Kenkyusho:Kk | 複数の反応室を備えた能率的プラズマ処理装置 |
| JPS58197262A (ja) * | 1982-05-13 | 1983-11-16 | Canon Inc | 量産型真空成膜装置及び真空成膜法 |
| JPS5941470A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-07 | Shimadzu Corp | 多室形薄膜作成装置 |
| JPS59157281A (ja) * | 1983-02-24 | 1984-09-06 | Tokuda Seisakusho Ltd | スパツタリング装置 |
| GB8332394D0 (en) * | 1983-12-05 | 1984-01-11 | Pilkington Brothers Plc | Coating apparatus |
| US4610628A (en) * | 1983-12-28 | 1986-09-09 | Denkoh Co., Ltd. | Vertical furnace for heat-treating semiconductor |
| JPS60240121A (ja) * | 1984-05-15 | 1985-11-29 | Fujitsu Ltd | 横型炉 |
-
1986
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- 1986-09-01 ES ES8601539A patent/ES2001286A6/es not_active Expired
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- 1986-10-16 EP EP86402329A patent/EP0236639B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-16 DE DE8686402329T patent/DE3669542D1/de not_active Expired - Lifetime
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-
1987
- 1987-01-22 KR KR870000491A patent/KR870008037A/ko not_active Application Discontinuation
- 1987-02-04 CA CA000529017A patent/CA1289357C/fr not_active Expired - Lifetime
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- 1987-02-11 CN CN87100626A patent/CN1010418B/zh not_active Expired
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