DE236639T1 - Automatische flexible vorrichtung fuer die durchfuehrung schneller thermochemischer behandlungen. - Google Patents

Automatische flexible vorrichtung fuer die durchfuehrung schneller thermochemischer behandlungen.

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DE236639T1 DE198686402329T DE86402329T DE236639T1 DE 236639 T1 DE236639 T1 DE 236639T1 DE 198686402329 T DE198686402329 T DE 198686402329T DE 86402329 T DE86402329 T DE 86402329T DE 236639 T1 DE236639 T1 DE 236639T1
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Denis F-94220 Charenton Lebeaupin
Olivier F-91000 Courcouronnes Schweibel
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    • C21D1/00General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
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    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54Apparatus specially adapted for continuous coating
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  1. JAEGER, STEFFENS 5c RÖSTER &iacgr;
    7. Dezember 1987
    STEIN HEURTEY STH-8
    Z.A.I, du Bois de l'Epine vH/zi
    F-91130 Ris Orangis
    Automatische flexible Vorrichtung für die Durchführung schneller thermochemischer Behandlungen
    Patentansprüche
    . Automatische Anlage zur schnellen thermochemischen Behandlung von Teilen, insbesondere für d
    gekennzeichnet durch
    lung von Teilen, insbesondere für die Mechanik-Industrie,
    - eine Durchlaßschleuse (10-101) für die Teile mit kontrollierter Atmosphäre,
    - eine Vielzahl von Behandlungsmodulen (12-26), insbesondere solche zum Vorheizen, zur thermischen Behandlung, zum Abschreckhärten, wobei alle diese Module mit der besagten Durchlaßschleuse verbunden sind;
    - eine Ladeschleuse (32);
    - eine Entladungsschleuse (321); und
    - einen Steurroboter (30-301) für die Teile, der in besagter Durchlaßschleuse zur Sicherstellung des erfolgreichen Trans-
    PIPPINPLATZ 4a · D-8035 MÜNCHEN-GAUTING · EUROPEAN PATENT ATTORNEYS TELEPHON: (089) 8 50 60 91 · TELEX: 5 21777 jskd · TELEFAX: (089) 8 50 36 33
    ports der zu behandelnden Teile zu den verschiedenen Modulen angeordnet ist.
    2. Anlage nach Anspruch 1,
    dadurch gekennze ichnet, daß die Durchlaßschleuse (10) aus einem umschlossenen Raum mit kreisförmigem Querschnitt besteht, auf dessen äußerem Umfang die verschiedenen Module verteilt sind.
    3. Anlage nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, daß die Durchlaßschleuse aus einem umschlossenen Raum mit rechteckigem Querschnitt besteht, entlang dem die verschiedenen Module verteilt sind.
    4. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Dimensionen und Geometrien der verschiedenen Module an die Art der zu bearbeitenden Teile angepaßt sind.
    5. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß während des Betriebs ankommende Teile zu Säulen (C) gestapelt sind, wobei sie durch Zwischenlagen getrennt sein können und mit Hilfe eines Roboters (36) zur entsprechenden Stelle der Ladeschleuse (32) förderbar sind, oder daß eine Haube (42) die Säule, diese festhaltend, überdeckt, wodurch sie mit Hilfe des Bedienungsroboters (30) durch die Durchlaßschleuse (10) zum ersten Bearbeitungsmodul transportierbar ist.
    6. Anlage nach einem der Ansprüche 1,2,4 und 5, dadurch gekennzeichnet,
    daß der in der Durchlaßschleuse (10) angeordnete Bedienungsroboter (30) einen Arm (46) besitzt, der um einen zentralen Ständer (48) drehbar und außerdem vertikal verschiebbar ist, sowie eine Plattform (49) dreht, auf der die Stütze (50) der Teilesäule (C) lagert, wobei diese Stütze die Abdichtung jedes Moduls gegenüber der Durchlaßschleuse (10) sicherstellt.
    7. Anlage nach einem der Ansprüche 1, 3 und 5, dadurch gekennze ichnet, daß der Manipulationsroboter (301) mit einem Arm (54) ausgestattet ist, der sich entlang des vertikalen Ständers (56) bewegt und von einem vertikalen Schlitten (58) getragen wird, welcher entlang den Laufbahnen (60, 60') quer zur Durchlaßschleuse bewegbar ist, daß der Arm eine Plattform (49) trägt, auf der die Stütze (50) der Teilesäule (C) lagert, y wobei diese Stütze die Abdichtung jedes Moduls gegenüber j der Schleuse (10') sicherstellt. "
    8. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Vorheizen in einem Zug durchführbar ist.
    9. Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Vorheizen in zwei Phasen durchführbar ist, wobei die erste Phase Temperaturen unterhalb des Curie-Punktes und die zweite Phase Temperaturen oberhalb des Curie-Punktes entspricht.
    10. Anlage nach Anspruch 9,
    dadurch gekennzeichnet, daß die Zahl der Module für jede Phase in Bezug auf den Basismodul und die Produktion festgelegt ist.
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4872834A (en) * 1988-11-09 1989-10-10 Williams Jr John W Recovery boiler port cleaner
FR2640999A1 (de) * 1988-12-27 1990-06-29 Stein Heurtey
FR2644567A1 (fr) * 1989-03-17 1990-09-21 Etudes Const Mecaniques Dispositif pour l'execution de traitements thermiques enchaines en continu sous vide
US5110248A (en) * 1989-07-17 1992-05-05 Tokyo Electron Sagami Limited Vertical heat-treatment apparatus having a wafer transfer mechanism
US5000682A (en) * 1990-01-22 1991-03-19 Semitherm Vertical thermal processor for semiconductor wafers
KR0161417B1 (ko) * 1995-07-11 1999-02-01 김광호 가스흐름이 개선된 종형확산로
JP3895000B2 (ja) * 1996-06-06 2007-03-22 Dowaホールディングス株式会社 浸炭焼入焼戻方法及び装置
DE19829825C2 (de) * 1997-07-07 2002-10-10 Ntn Toyo Bearing Co Ltd Karburierungs- und Abschreckungsvorrichtung und Verfahren zum Abschrecken dünner Plattenteile
FR2771754B1 (fr) * 1997-12-02 2000-02-11 Etudes Const Mecaniques Installation de traitement thermique sous vide modulaire
US6786935B1 (en) 2000-03-10 2004-09-07 Applied Materials, Inc. Vacuum processing system for producing components
JP4619116B2 (ja) * 2002-06-21 2011-01-26 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 真空処理システムのための搬送チャンバ
JP4516304B2 (ja) * 2003-11-20 2010-08-04 株式会社アルバック 巻取式真空蒸着方法及び巻取式真空蒸着装置
FR2863629B1 (fr) * 2003-12-12 2006-12-08 Etudes Const Mecaniques Procede et dispositif de traitement physicochimique a chaud de pieces mecaniques
US20060201074A1 (en) * 2004-06-02 2006-09-14 Shinichi Kurita Electronic device manufacturing chamber and methods of forming the same
US7784164B2 (en) * 2004-06-02 2010-08-31 Applied Materials, Inc. Electronic device manufacturing chamber method
KR100826269B1 (ko) * 2006-06-13 2008-04-29 삼성전기주식회사 복합 소성로 및 이에 채용되는 승하강 장치
PT2297375E (pt) * 2008-06-11 2015-06-29 Oerlikon Surface Solutions Ag Trubbach Suporte para peças de obra
JP6493339B2 (ja) * 2016-08-26 2019-04-03 村田機械株式会社 搬送容器、及び収容物の移載方法
CN115354280B (zh) * 2022-09-19 2023-05-09 陕西理工大学 一种半导体芯片的镀膜治具

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1838015A (en) * 1925-12-01 1931-12-22 Bbc Brown Boveri & Cie Annealing apparatus
US3856654A (en) * 1971-08-26 1974-12-24 Western Electric Co Apparatus for feeding and coating masses of workpieces in a controlled atmosphere
FR2183557A1 (en) * 1972-05-10 1973-12-21 Cit Alcatel Cathodic sputtering appts - with number of chambers for simultaneous treatment of several substrates
DE2249194C3 (de) * 1972-10-05 1975-07-24 Jurid Werke Gmbh, 2056 Glinde Vorrichtung zum Drucksintern plattenförmiger Teile
US3836325A (en) * 1973-12-11 1974-09-17 Nippon Steel Corp Apparatus for charging materials into vertical heating furnace
US4033715A (en) * 1976-01-12 1977-07-05 Btu Engineering Corporation Heat processing system
US4210097A (en) * 1977-02-14 1980-07-01 Armco Inc. Means for maintaining a non-oxidizing atmosphere at positive pressure within the metallic strip preparation furnace of a metallic coating line during line stops
FR2403645A2 (fr) * 1977-09-14 1979-04-13 Vide & Traitement Sa Four pour le traitement thermochimique, en continu, de pieces metalliques, par bombardement ionique
US4170815A (en) * 1977-05-23 1979-10-16 Chugairo Kogyo Kaisha Ltd. Method of operating a reheating furnace in hot rolling line
JPS56274A (en) * 1979-06-18 1981-01-06 Hitachi Ltd Continuous vacuum deposition apparatus
US4405435A (en) * 1980-08-27 1983-09-20 Hitachi, Ltd. Apparatus for performing continuous treatment in vacuum
JPS58101478A (ja) * 1981-12-12 1983-06-16 Toshiba Corp 多結晶シリコン太陽電池の製造方法
US4412812A (en) * 1981-12-28 1983-11-01 Mostek Corporation Vertical semiconductor furnace
JPS58180227A (ja) * 1982-04-17 1983-10-21 Samuko Internatl Kenkyusho:Kk 複数の反応室を備えた能率的プラズマ処理装置
JPS58197262A (ja) * 1982-05-13 1983-11-16 Canon Inc 量産型真空成膜装置及び真空成膜法
JPS5941470A (ja) * 1982-08-31 1984-03-07 Shimadzu Corp 多室形薄膜作成装置
JPS59157281A (ja) * 1983-02-24 1984-09-06 Tokuda Seisakusho Ltd スパツタリング装置
GB8332394D0 (en) * 1983-12-05 1984-01-11 Pilkington Brothers Plc Coating apparatus
US4610628A (en) * 1983-12-28 1986-09-09 Denkoh Co., Ltd. Vertical furnace for heat-treating semiconductor
JPS60240121A (ja) * 1984-05-15 1985-11-29 Fujitsu Ltd 横型炉

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Publication number Publication date
FR2594102B1 (fr) 1991-04-19
US4790750A (en) 1988-12-13
CN1010418B (zh) 1990-11-14
EP0236639B1 (de) 1990-03-14
EP0236639A1 (de) 1987-09-16
ATE51038T1 (de) 1990-03-15
CN87100626A (zh) 1987-08-26
FR2594102A1 (fr) 1987-08-14
SU1500151A3 (ru) 1989-08-07
DE3669542D1 (de) 1990-04-19
KR870008037A (ko) 1987-09-23
JPS62186187A (ja) 1987-08-14
ES2001286A6 (es) 1988-05-01
CA1289357C (fr) 1991-09-24

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