JPS62134604A - カラ−フイルタ膜の形成方法 - Google Patents

カラ−フイルタ膜の形成方法

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JPS62134604A
JPS62134604A JP60276520A JP27652085A JPS62134604A JP S62134604 A JPS62134604 A JP S62134604A JP 60276520 A JP60276520 A JP 60276520A JP 27652085 A JP27652085 A JP 27652085A JP S62134604 A JPS62134604 A JP S62134604A
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color filter
filter film
color
photomask
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Toshihiro Aoki
青木　俊浩
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Casio Computer Co Ltd
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    • H01L31/0216—Coatings
    • H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/02162—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
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    • G—PHYSICS
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、カラー液晶表示素子等におけるカラーフィル
タ膜の形成方法に関するものである。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
フォトファブリケーションを用いてカラーフィルタ膜を
形成する方法として、従来は第６図（ａ）及び（ｂ）に
示すように、ガラス基板１上の電極２を覆う感光性膜体
３の上方にフォトマスク４を配置し。
該フォトマスク４を通じて唯１回だけ紫外線を該感光性
膜体３に照射し、光反応させた後に現像工程を経て光反
応した部分の感光性膜体３のみを電極２上に残し、これ
をカラーフィルタ膜の基質６とするものであった。この
従来の方法の場合、フォトマスク４の透光部５に塵埃７
等が付着していると、該塵埃７等によって紫外線が遮断
された部分の感光性膜体３は光反応せず、現像工程を経
たときにその部分のカラーフィルタ膜の基質６が欠落し
てピンホール８となりカラーフィルタ膜の不良が多発す
るという欠点があった。
〔発明の目的〕
本発明は上記従来の欠点に鑑みてなされたものであって
、その目的とするところは、フォトマスクの透光部に塵
埃等が付着していても、カラーフィルタ膜の基質にピン
ホールが発生ずるのを防止し得る。欠点のないカラーフ
ィルタ膜の形成方法を提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明は、感光性膜体に対してフォトマスクを移動させ
て、フィルタ膜形成部への紫外線照射の操作を少なくと
も２回行い、該感光性膜体のフィルタ膜形成部は全て必
ず１回は紫外線照射を受け。
カラーフィルタ膜の基質にピンホールが発生することが
ないように構成したものである。
〔発明の実施例〕
本発明の実施例を図面に即して説明する。
第３図はカラーテレビジョンなどに通した本発明に係る
カラー液晶表示素子の一例を示す縦断面図、第４図はカ
ラーフィルタ膜の形成パターンを示す図である。
カラー液晶表示素子１１は下部の透明ガラス基１反１２
と、該ガラス基板１２上にストライブ状に形成した複数
の透明な信号電極１３と、該信号電極１３上に形成した
カラーフィルタ膜１４と、該カラ−フィルタ膜１４全体
を覆う配向膜１５と。
前記下部のガラス基板１２に平行に配置された上部の透
明なガラス基板１６と、該ガラス基板１６の下面に前記
信号電極１３と直交する方向に沿って形成された複数の
透明な走査電極１７と、該走査電極１７を層う配向膜１
８と、上下の配向膜１５．１８間に封入された旋光剤添
加のネマティック液晶１９と、上下のガラス基板１２．
１６の周辺をシールするエポキシ樹脂等のシール剤２０
によって構成されている。ストライプ状に形成されたカ
ラーフィルタ膜１４は、ストライプ別に色彩が定められ
ており端から赤（Ｒ）１４□、緑（Ｇ）１４ｃ、、青（
Ｂ）１４．の３色が順次一定ピツチＰで繰り返す状態で
並んでいる。
第１図及び第２図は上記構成のカラー液晶表示素子１１
のフィルタ膜形成方法の一例を説明するための縦断面図
及び平面図である。
カラーフィルタ膜の形成は、先ずストライブ状の信号電
極１３が形成された下部のガラス基板工２上に、感光剤
が添加されている動物性蛋白質例えばゼラチンあるいは
カゼイン等の感光性膜体２１を塗布した後、その上方に
フォトマスク２２を配置し、該フォトマスク２２を通じ
て紫外線を感光性膜体２１に照射する。フォトマスク２
２はガラス板２３の表面の紫外線を透過すべき透光部２
３ａ以外の部分にクロムメッキ２４が施こしてあり、こ
の部分では紫外線は透過しない。
フォトマスク２２の透光部２３ａは同一色で形成すべき
フィルタ膜１４の形状に合わせて、ストライプ状の信号
電極１３のピッチＰ（第４図参照）の３倍のピッチにて
配設されており、フィルタ膜１４はＲ，Ｇ、Ｂの各色彩
別に順次形成される。
このとき例えば色彩別にＲ，Ｇ、Ｂの順でＲのカラーフ
ィルタ膜１４ｆＬを最初に形成するとすると、まず１回
口に第１図ｆａ）及び第２図の実線で示す位置にフィル
タマスク２２の透光部２３ａをＲに対応する信号電極１
３に合わせて配置して紫外線を照射し感光性膜体２１の
露光を行う。その後第１図（ｂ）及び第２図の２点鎖線
で示す位置に信号電極１３のス１−ライフ゛にン合って
フォトマスク２２を移動して２回口の紫外線照射により
感光性膜体２１の露光を行う。透光部２３ａに塵埃２５
等が付着し、１回口の紫外線照射の操作で未露光部とな
った部分は１２回口の紫外線照射の操作によって露光さ
れる。完全を期するため３回口の紫外線照射を行うとき
は、上記と同様にさらにフォトマスク２２を信号電極１
３のストライプに沿って移動する。
露光工程が終わると現像工程へ進み、感光性膜体２１の
未露光部を除去して、信号電極１３上のフィルタ形成部
にのみピンホールのない無色のフィルタ膜基質１４ａを
形成する。その後、Ｒの染色液中に浸漬する染色工程、
洗浄及びＲ以外の他の色の工程中において侵されるのを
防止するために防染処理を行ってＲの部分のカラーフィ
ルタ膜１４、の形成は終了する。
Ｇ及びＢのカラーフィルタ膜１４ｅ、１４ｏの形成も上
記Ｒの場合に対して色彩が異なるのみで。
フォトマスク２２の位置はＲの位置からＧの場合は信号
電極１３のストライブの１ピッチ分Ｐ、　　Ｂの場合は
さらに１ピッチ分Ｐの移動をして、上記と同様にコーテ
ィング工程を通した後、露光工程。
現像工程、染色工程及び防染処理工程（後に他の色の染
色工程がないときは不要）を経てピンホールのないＧ及
びＢのカラーフィルタ膜１４Ｇ。
１４ｇが形成される。カラーフィルタ膜形成部は各スＩ
−ライブともに両端に１回のみの紫外線照射の操作を受
けた部分とこれらの部分に挾まれた中央にある紫外線照
射の操作を２回受けた部分により構成され、前記１回の
みの部分は見切り枠から外して表示領域外へ出して使用
するのが望ましい。
フォト−マスク２２は２回目の紫外線照射に際して信号
電極１３のストライブに沿って移動させるのに代えて、
第５図の２点鎖線に示すように、信号電極のストライブ
と直交する方向に沿って該ストライブの３ピッチ分移動
させて感光性膜体２１を露光させてもよい。勿論、これ
らの方法はストライブ状フィルタ膜のみならずモザイク
型フィルタ膜を形成するのにも有効である。
本発明の上記実施例によれば、フォトマスク２２は信号
電極１３の延びる方向に沿ってまたはそれと直角な方向
に沿って移動して感光性膜体２１に紫外線照射の操作を
２回行えばよいので。
フィルタ膜基質１４ａの形成が容易であり、しかもカラ
ーフィルタ膜１４のピンホールの発生を大幅に減少させ
ることができる。特に紫外線照射の操作を１回のみ受け
ているフィルタ膜形成部の部分を見切り枠から外して表
示領域外に出して構成することより、ピンホールの全く
ないカラーフィルタ膜１４を備えたカラー液晶表示素子
を製造して使用することができる。
なお、上記実施例はカラー液晶表示素子におけるカラー
フィルタ膜の形成についてのものであるが１本発明はカ
ラーイメージセンサ等地の素子におけるカラーフィルタ
膜の形成にも適用できるものである。
〔発明の効果〕
本発明によれば、基板上に感光性膜体を塗布形成し、フ
ォトマスクを移動して、感光性膜体への紫外線照射の操
作を複数回行うので、フォトマスク透光部に付着してい
る塵埃等のために１回の紫外線照射の操作のみでは感光
性膜体の未露光部があっても２回目以降の紫外線照射の
操作によって咳未露光部は露光され、ピンホールのない
フィルタ膜が形成でき、従来に比較して感光性膜体の紫
外線照射回数が増加すのみなので工程が簡単でコストア
ップもないカラーフィルタ膜の形成方法を提供し得るも
のである。
【図面の簡単な説明】
第１図は６本発明の詳細な説明するための縦断面図。 第２図は同上平面図。 第３図は本発明の実施例に係るカラー液晶表示素子の概
略構成を示す縦断面図。 第４図はカラーフィルタ膜の形成パターンを示す図。 第５図はフォトマスクの移動方向についての別の実施例
を示す平面図。 第６図は従来例を示す縦断面図である。 １１・・・カラー液晶表示素子。 ■２・・・ガラス基板。 １３・・・信号電極。 １４・・・カラーフィルタ膜。 １５・・・配向膜。 １６・・・ガラス基４及。 １７・・・走査電極。 １８・・・配向膜。 １９・・・ネマティンク液晶。 ２０・・・シール剤。 ２１・・・感光性膜体。 ２２・・・フォトマスク。 ２３・・・ガラス板。 ２４・・・クロムメッキ。 ２５・・・塵埃。 特許　出願人　　カシオ計算機株式会社２２７オトマス
ク （ｂ） （Ｃ） 第１図 （ＭＬＩ！ｒｒ面図） 第２図 （平面図） 第５図 （ｂ） 第６図 （４）１　　木　イタ゛Ｉ］）

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 基板上の所定位置にフォトマスクを用いてカラーフィル
    タ膜を形成する方法において、前記基板上に塗布した感
    光性膜体に対して前記フォトマスクを移動させて、感光
    性膜体のフィルタ膜形成部への紫外線照射の操作を複数
    回行った後、現像及び染色を行うことを特徴とするカラ
    ーフィルタ膜の形成方法。
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