JPS62130236A - タ−ゲツト材の製造方法 - Google Patents

タ−ゲツト材の製造方法

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JPS62130236A
JPS62130236A JP60271145A JP27114585A JPS62130236A JP S62130236 A JPS62130236 A JP S62130236A JP 60271145 A JP60271145 A JP 60271145A JP 27114585 A JP27114585 A JP 27114585A JP S62130236 A JPS62130236 A JP S62130236A
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土方 研一
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一幸 佐藤
Hitoshi Maruyama
仁 丸山
Riyouko Furuhashi
古橋 亮子
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、光磁気記録材料とし【最近注目されている
希土類金属と鉄族金属とからなる薄膜をスパッタリング
によって製造する際に用いられるターゲット材の製造方
法に関するものである。
〔従来の技術〕
希土類金属と鉄族金属とからなる光磁気記録媒体をスパ
ッタリングによって製造する際に用いられるターゲット
材は、従来。
1)希土類金属と鉄族金属とを真空中または不活性ガス
雰囲気中でアーク溶解して製造した合金インゴツト材を
切断、研削等によって所定寸法のターゲットに仕上げる
方法。
2) 鉄族金属板上に希土類金属チップを置くか。
またはその逆に希土類金属板上に鉄族金属チップを置く
ことによって、2種のターゲット材を組み合わせた複合
ターゲット材とする方法、3)前記1)の方法によって
製造した合金インゴットを粉砕して得た合金粉末をホッ
トプレスによって成形する方法(特願昭59−2119
67号)、および 4)  @細に分割した希土類金属と鉄族金属との混合
物に、真空中または不活性ガス雰囲気中において、この
混合物中に存在する金属成分系の共融点未満の温度で熱
間成形を施して、希土類金属と鉄族金属との界面に金属
間化合物を形成させるとともに希土類金属と鉄族金属と
を接合する方法(%願昭59−219227号)、 によって得ている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、前記1)の方法によって製造された合金
ターゲット材は、 1)ターゲットの寸法が、溶解炉の大きさ、形状に依存
するために大径のターゲットが得られず、1i)  ま
た、アーク溶解だけでは所望の寸法、形状を有するター
ゲット、特に薄肉のターゲットを得ることができないた
めに切断、研削等の後加工を必要として、生産性が低下
し、 111)シかもこのターゲット材は脆いために、後加工
を施し難く、かつ歩留りが悪(、 つぎに、前記2)の方法によって構成された複合ターゲ
ット材は、 1)仮とチップとの間で異常放電を起しやすく、li)
希土類金属と鉄族金属が大きな塊つとなって分布し、し
かも単体の希土類金属と鉄族金属とはそのスパッタリン
グ速度が相違しているために、スパッタリングによって
生じた膜の組成が膜全体にわたって均一とならず、 また、前記3)の合金粉末をホットプレスによって成形
する方法では、 1)合金インゴットの粉砕によって不純物が混入してく
るのを避けることができず、 11)合金粉末をホットプレス執しただげなので、。
でき上ったターゲットは機械的に脆く、1ll)希土類
金属自体が元来極めて酸化しやすいために前記粉砕工程
等によってターゲット材の中の希土類金属酸化物の量が
増大し、それに応じて単体の希土類金属の割合が低下す
るので、スパッタリングによって所望の磁気特性を有す
る膜を得ることができないばかりか、甚だしい場合は、
スパッタリングによって生じた膜が、前記酸化物の影響
で、光磁気記録に必要な垂直磁化膜にならないことも多
く。
さらに、微細に分割した希土類金属と鉄族金属とを混ぜ
合わせた混合物に熱間成形を施す前記4)の方法によっ
て製造されたターゲット材では、1)希土類金属は元来
鉄族金属よりもスパッタリング速度が高いために、ター
ゲット材中に単体の形で存在する希土類金属が、同じく
単体で存在する鉄族金属や金属間化合物を構成する各金
属成分よりも優先的にスパッタされ、それによって、ス
パッタリング中に生成しつつある膜の組成が時間の経過
とともに変化して、膜の組成が安定しな(S。
という問題があった。
〔研究に基づく知見事項〕
そこで1本発明者等は、このような問題を解決するため
に洩々研究を重ねた結果、 (1)微細に分割された状態のGd、 Tb、 Dy、
 Ho。
TmおよびEr並びにそれらの合金のうちのいずれか1
穐以上からなる希土類金属と、同様な状態のFe。
coおよびNi並びにこれらの合金からなる鉄族金属と
を混合して形成させた、前記希土類金属:30〜50重
量%と、a記鉄族金属:残り、からなる組成を有する混
合物に、その混合物に存在する金属成分系の液相発現温
度未満の温度において熱間成形を施すことによって得ら
れた緻密な成形体に。
その成形体を金属容器で真空パックした状態で、前記底
形体中に存在する金属成分系の液相発現温度未満の温度
において長時間の熱処理を施すと、−前記希土類金属と
鉄族金属とが拡散し合ってその金属間化合物生成灰石か
著しく進行して、前記成形体中に存在している希土類金
属はすべて金属間化合物に変化すること、 (2)  このようにすべての希土類金属が金属間化金
物に変化することによってもはや単体の希土類金属を含
んでいないターゲット材では、希土類金属と鉄族金属と
のスパッタリング速度の差が殆ど無くなる結果、スパッ
タリング中に膜の組成が変化していくという現象を回避
できること、(3)  このようなターゲット材では金
属間化合物の含有量が著しく増大するので、その強度が
低下するものと予想されるにも拘らず、このターゲット
材の組織中に混在している単体の鉄族金属によって、タ
ーゲット材の強度は意外に低下しないで、その十分な加
工性が保証されるとともに、熱収縮に基づく割れの発生
も回避できること。
を見出した。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明は、上記知見に基づいて発明されたもので1元
磁気記鯨媒体として利用される希土類金属と鉄族金属と
からなる膜をスパッタリングによって製造スる場合、そ
のスパッタリング中に膜の組成変化を起さないターゲッ
ト材の製造方法を提供することを目的とし、 a)微細に分割されたGd、 Tb、 Dy、 Ho、
 TmおよびEr並びにこれらの合金からなる群より選
ばれた希土類金属IMまたは2種以上と、微細に分割さ
れたFe、 CoおよびNi並びにこれらの合金からな
る群より選ばれた鉄族金属1Mまたは2種以上とを混合
して、前記希土類金属:30〜50重量%と、前記鉄族
金属:残り、からなる組成を宵する混合物を形成させ、 b)ついで、この混合物に、真空中または不活性ガス雰
囲気中で、前記混合物中に存在する金属成分系の液相発
現温度未満の温度において熱間成形を施して%#記希土
類金属と前記鉄族金属からなる緻密な成形体を形成させ
、 C)その後、前記成形体を金属容器で真空パックした状
態で、この成形体に、その成形体中に存在する金属成分
系の液相発現温度未満の温度において長時間加熱する熱
逃坤を施すことによって、前記希土類金属と鉄族金属と
の金属間化合物と、鉄族金属単体との混合組織を有する
ターゲット材を製造する方法、 に係るものである。
〔発明の詳細な説明〕
以下、この発明の構成について具体的に説明する。
1、 原料 ターゲット材の原料となる” e ’rb I D’!
 g Ho 、 Tm。
およびEr並びにこれらの合金から選ばれた希土類金属
は、微細に分割された状態であれば、一般にその形状に
ついて制限を受けないが、この希土類金属は通常粉末ま
たは小粒であるのが望ましく、その平均粒径が10μm
未満の場合は、得られたターゲット材の酸素濃度が0.
5%以上に増加して、これのスパッタリングによって生
成した膜は光磁気記録に必要な磁気特性を備えな(なり
、一方それが300μmを越えると、希土類金属が完全
に鉄族金属と反応しないで、単体の希土類金属がターゲ
ット材の組織中に残存するようになるので、この平均粒
径は一般に10〜300μmでなげればならず、好まし
くは10〜100μmである。
希土類金属の純度は高純度(純度:99重量%以上)で
あること、特に、低酸素濃度(酸素濃度二0.4重量%
以下)であることが望ましい。
これらの合金とは、Gd、 ’rb、 Dy+ Hot
 TmおよびErのうちの2樵以上からなる合金を意味
し1例えばTb5oGd5o、Tb75Dy25.Gd
、oHoloのような合金を意味する。
ターゲット材のもう一つの原料となるFe、Coおよび
Ni並びにこれらの合金から選ばれた鉄族金属も微細に
分割された状態であれば、その形状は一般にどのような
ものであっても差支えないが、この鉄族金属も通常粉末
または小粒であるのが望ましく、その平均粒径が1μm
未満では粒子が細か過ぎるため、熱処理を施した後に残
留する鉄族金属単体粒子の寸法が小さくなり過ぎて、タ
ーゲット材の強度が著しく低下するようになり、一方そ
れが300μmを越えると、製造されたターゲット材中
の個々の鉄族金属単体の粒子の寸法が大きくなり過ぎて
、膜の組成が安定したスパッタリングを遂行できなくな
るので、この平均粒径は一般に1〜300μmでなけれ
ばならず、好ましくは50〜300μmである。
鉄族金属の純度も高純度(純度:99.99重0%以上
)であること、特に、低酸素濃度(酸素d度:0.01
ii%以下)であることが望ましい。
これらの合金とは11 Fe、 CoおよびNiのうち
の2種以上からなる合金を意味し1例えばFe75CO
z5+F esoCOso v F e75 CO20
N I 5 s Cog□ N I soのような合金
を意味する。
また、この発明においては、希土類金属と鉄族金属との
混合物中に配合された希土類金属の割合が30重量%未
満になっても、また50重量%を越えても、それによっ
て得られたターゲット材は、光磁気記録媒体として利用
するのに適した磁気特性を備えた膜を生成しなくなると
ころから、前記混合物における希土類金属の配合割合を
30〜50重量%と定めた。
2、熱間成形 この発明では、前記混合物を緻密な成形体にするために
、その混合物にホットプレス、熱間バック圧延、熱間静
水圧プレス(HIP)、熱間鍛造等による熱間成形が施
されるが、薄板状のターゲット材を製造するには、特に
ホットプレスと熱間パック圧延が適しており、この熱開
成形中に酸素が成形体に混入してくるのを防ぐために、
熱間成形を真空または不活性ガス雰囲気の下で遂行する
必要があり、それには一般に圧カニ0.01〜1O−6
Torrの真空または例えば、露点が一60℃以下のア
ルゴンガスが使用される。
熱開成形において前記混合物に適用される温度は、その
混合物中に存在する金属成分系の液相発現温度未満の温
度であることが必要であるが、これは、そうでないと、
熱間成形中に生じた液相によって金属が酸化されやすく
なる結果、ターゲット材の酸素濃度が0.5重量%以上
に上昇する上に。
液相だけが流動するというトラブルの発生を招くことに
基づいており、この熱間成形において適用する温度は成
形方法によって異なるが、例えば熱間圧延では一般にi
iI記液相発現温度よりも20〜250℃低く保持され
る。前記全屈成分系の液相発現温度は、例えば、その糸
がFe−Tbの場合は840℃、Fe −Co −Tb
の場合は695℃、Fe −Tb−Gdの場合は830
℃、そしてCo−aaの場合は630℃である。
熱間成形により、混合物中の各金属粒子の塑性変形、希
土類金属と鉄族金属との間の部分的な固相拡散、および
その結果としての界面における金属間化合物の形底と接
合が起るので、成形体の高密度化と、その中の各粒子間
の接合が達成されて、一般に95〜100%の相対密度
を有する緻密で高強度の成形体が得られる。
ホットプレスにおいては通常100〜200kl?/d
の圧力か適用され、そのホットプレスを施す時間は、前
記の作用を起すのに十分な時間であればよく、その温度
や圧力によっても異なるが、一般に2時間以上である。
熱間パック圧延においては、希土類金属と鉄族金属との
混合粉末を鉄合金製容器に入れてから、その中の圧力か
10  Torr以下になるまで、容器内のガスを真空
排気することによって、前記混合物を鉄合金製容器内に
真空バックした後、これを混合物中に存在する金属成分
系の液相発現未満の温度において、熱間圧延する。
カ会番寿圧延によって形成された成形体は、その周囲の
缶を旋盤またはシェーパで取り除くことによって、缶の
中から取り出される1、 3、熱処理 前記熱間成形によって製造された成形体には希土類金属
がまだ単体の状態で残っているので、これをすべて金属
間化合物に転化すると同時に、希土類金属と鉄族金属と
を互に拡散させてそれらの金属間化合物と鉄族金属単体
との均一な混合組織を形成させるために熱処理が施され
るが、そのためには、この熱処理において成形体を、そ
の中に存在する金属成分系の液相発現未満の温度に長時
間加熱して拡散を起す必要があり、この温度は一般に前
記液相発現温度よりも20〜100℃低い温度が適して
おり、その温度に嬉゛す時間は通常1〜17時間である
この熱処理では加熱温度が前記液相発現温度よりも低い
ために長時間加熱しなければならないことから、ターゲ
ット材の酸素量を増加させない配慮が必要であり、その
ためには、前記成形体を金属容器内にI X 10  
Torr以上の真空度に真空パックした状態として、こ
れを熱処理炉中、F!A1えば800℃/hrの昇温速
度で前記液相発現温度未満の処理温度まで昇温し、この
温度に通常1〜17時間保持して拡散を起させ、その後
車@まで冷却した後、前記金属容器を旋盤またはシェー
バで取り除くことによって熱処理が遂行される、この場
合、炉内を真仝または不活性ガスの雰囲気とすれば、パ
ック容器に漏れが生じても、成形体を酸素との接触から
保護することができる。前記金属容器の材料としては、
熱処理温度において成形体との間で拡散反りを起しにく
い金属、例えばステンレス鋼等の鉄合金が利用される。
希土類金属と鉄族金属との混合物を金属容器で真空パッ
クして、この混合物に熱間パック圧延を施すことによっ
て前記熱間成形を遂行した場合には、成形後にその金属
容器を除去することなく。
前記成形体に上記のような熱処理を施すのが好都合であ
る。
4、 ターゲット材の組成および組織 以上のような工程を経て裏遺されたターゲット材は、原
料となった希土類金属や鉄族金属に不可避的に含まれて
いた不純物、列えば周期律表の第1a族元素、Si、 
Ca、 AI、 C,I’、 S、 Ta、 MntO
等を微量含むことは避けられないけれども、実質的に希
土類金属と鉄族金属との金属間化合物と、単体の鉄族金
属との均一な混合組織からなり、その組織中で金属間化
合物の形に変化した希土類金属はそのスパッタリング速
度が鉄族金属のそれと同程度に調整されるとともに、鉄
族金属単体は、ia記1で述べた原料の平均粒径や形状
により、一般に1〜300μmの寸法を有する球状また
は片状の粒子となって、ターゲット材に必要な強度を与
える。
〔実施例および実施ダ1に基づく効果〕ついで、この発
明を実施列により比較例と対比しながら説明する。
実施fI+ 1 a)いずれも平均粒径: 100μmを有する#JI!
度99.9%のTb粉末、純度99.99重0%のFe
粉末および純度99.99重0%のFe−Co合金(F
e : C。
=75:25at0%)粉末を、Tb:Fe:Coの配
合割合が48.5 : 44.3 : 7.19 (1
徴%)となるように所定量秤量したものをボールミルを
用いて30分間トルエン中で混合し、乾燥して総重槍2
501の混合粉末を調製した。
b)ついで、肉厚:1.2朋を仔し、かつ内部に直径:
120+iX厚さく高さ):4.0+xの円板状の空間
を有するステンレス缶に内径:12.7mmX長さ:5
00ylzx厚さ: 2. Ommのステンレス管を垂
直に取り付けて、前記円板状の空間内に前記混合粉末を
充填してから、前記ステンレス缶の内部を排気してX空
腹:lX10  Torrまで真生引きした後、加熱圧
着して前記混合粉末を前記ステンレス缶内に密封した。
このようにステンレス缶内に真空バックされた混合粉末
に、@度:500℃において、缶全体の厚み(高さ)が
4,2關になるまで熱間パック圧延を施した。
C)その後このように形成された成形体を、前記ステン
レス缶にバックしたまま熱処理炉中に装入して炉内雰囲
気をI X 10  Tartの真空にした後、800
℃/hrの昇温速度で660℃まで昇温させ、この温度
に15時間保持してから室温まで冷却した。
このようにして得られたT I)25 F e 65 
CO1o の組成を有するターゲット材を顕微鏡によっ
て組織観察したところ、TbはすべてFeおよびFe−
Coとの間で金属間化合物を生成するとともに、その化
合物の一部は共晶を形成し、このターゲット材では、第
5図のaおよびbに示したような、これらの金属間化合
物とその共晶の間にFe単体が均一に分布した混合組織
が形成され、このFe単体粒子の寸法は15〜80μm
であり、またこのターゲット材の相対密度は100%で
抗折力は9−5 kC9/ m”であった。
つぎに、このターゲット材の性能を評価するために、こ
れを直径:127amX厚さ=2朋の円板に加工して得
たターゲットを基にして、アルゴン分圧:5X10  
Torrでグリスバッタを30〜60秒間施した後、バ
イアス電圧:Ov、スパッタ電カニ75Wと一定に保ち
、前記ターゲットを2〜5rpmの速さで回転させなか
らマグネトロンスパッタリングを施して光磁気記録用の
膜を製造した。
このときに得られた膜の酸素含有量は平均1.0at、
%で、スパッタリング時間の経過に対してその膜の中の
Tb量が変化していく状態を第1図に示した。
第1図から、スパッタリング時間が長時間にわたっても
、膜組底の変化が±0.18at、%と極めて小さいこ
とがわかる。
実施例2 a) いずれも平均粒径:100μmを有する純度99
.9%のTb粉末と純度99.99%のFe扮粉末を、
Tb : Feの配合割合が48.68:51.32(
重量%)となるように所定量秤量したものをボールミル
を用いて30分間トルエン中で混合し、乾燥してm金粉
末を製造した。
b)ついで、内径:127mのホットプレスモールド内
に前記混合粉末200IIを充填してからlXl0  
Torr以上の真空度に脱気し、昇温速度=800℃/
hrで昇温し、800℃に達した時点で前記混合粉末に
、真空度:1xlOTart以上、圧カニ 200kl
i/dtおよび保持時間:1時間の条件でホットプレス
を施し、加熱終了後炉冷して円板状の緻密な成形体を敗
り出した。
C)その後、このように形成された成形体を、実施例1
のb)において使用したステンレス缶内に同様に真空バ
ックした後、これを熱処理炉中に装入して炉内雰囲気を
lXloTorr以上の真空度に保ちながら800℃/
hrの昇は速度で830℃まで昇温させ、この温度に1
0時間保持してから室温まで冷却した。
このようにして得られた’rb25Fe75の組成を有
するターゲット材を顕微鏡によって組織観察したところ
、TbはすべてFeとの間で金属間化合物を生成すると
ともに、その一部は共晶を形成し、このターゲット材で
は、この金属間化合物とその共晶の間に30〜80Am
の大きさのFe単体粒子が均一に分布した混合組織が形
成され、またこのターゲット材の相対密度は97%で抗
折力は8.9 #1my&であった。′ つぎに、前記ターゲット材の性能を評価するために、こ
のターゲット材から得たターゲットを使用して、スライ
ドガラスをターゲットから70順離し、ターゲット直上
中心、その中心から37In、同6cIILと位置を換
えてスパッタしたことを除き、天施例1と同じマグネト
ロンスパッタリングラ施して光磁気記録用の膜を製造し
た。
このときに得られた膜の酸素含有量は1.5〜2.1a
1−%で、その膜のTb量のスパッタリング時間の経過
に対する変化を第2図に示した。
第2図から、長時間のスパッタリング時間にわたって膜
の組M、変化が±0.21at、%と極めて小さいこと
がわかる。
比叔例1 実施fI12のb)に示したホットプレスによって得ら
れた成形体をステンレス缶内にバックしないで、そのま
まこれに実施例2と全く同じ熱処理を施して比較ターゲ
ット材1を製造した。
この比較ターゲット材1の性能を評価するために、これ
を直径:12711x厚さ: 2. OIIEの円板に
加工して得たターゲットを基にして、実施例1ト全<同
様にマグネトロンスパッタリングを実施してスライドガ
ラス上に光磁気記録用の膜を付着させた。
このときに得られた膜の酸素tは8.0〜14.0at
、%と多く、この膜は垂直磁化膜とはならず、面内磁化
の特性を示していた。
膜の保磁力から実効Tb1kを外挿してTb量を求め、
このTbiとスパッタリング時間との関係を第3図に示
した。
第3図から、この膜の組成がスパッタリング時間の経過
に対して極めて不安定であることがわかる。
比較例2 実/i!]EM+2のb)において得られたTb −F
e成形体を仕上加工することによって製造した比較ター
ゲット2を使用して、笑捲例1と全く同じ条件でスパッ
タリングを実施した。
このときに得られた膜の酸素含atは平均1.2at、
%で、その欣のTbiのスパッタリング時間の経過に対
する変化を第4図に示した。
第4図から、この比較ターゲット2によって得られた膜
の組成はスパッタリング時間の経過に従って著しく変化
することがわかる、。
〔発明の総合的効果〕
以上の説明から明らかなように、この発明によると、組
成が安定し、かつ酸素濃度の低い元磁気記8媒体を生成
する、高強度のスパッタ13ング用ターゲット材を提供
することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は、この発明によって夷遺されたタ
ーゲット材を使用して薄膜を生成させた場合、スパッタ
リング中にその薄膜で起る組成変化を示すグラフ、第3
図および第4図は、比較方法によって製造したターゲッ
ト材な使用した場合に同様な薄膜の組成変化を示すグラ
フ、第5図のaはこの発明によって製造されたターゲッ
ト材の金属組織な示す顕微鏡写真、そして第5図のbは
この顕微鏡写真によって示された金属組織をわかりやす
くするための模式的な説明図である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)a)微細に分割されたGd、Tb、Dy、Ho、
    TmおよびEr並びにこれらの合金からなる群より選ば
    れた希土類金属1種または2種以上と、微細に分割され
    たFe、CoおよびNi並びにこれらの合金からなる群
    より選ばれた鉄族金属1種または2種以上とを混合して
    、前記希土類金属:30〜50重量%と、前記鉄族金属
    :残り、からなる組成を有する混合物を形成させ、 b)ついで、この混合物に、真空中または不活性ガス雰
    囲気中で、前記混合物中に存在する金属成分系の液相発
    現温度未満の温度において熱間成形を施して、前記希土
    類金属と前記鉄族金属からなる緻密な成形体を形成させ
    、 c)その後、前記成形体を金属容器で真空パックした状
    態で、この成形体に、その成形体中に存在する金属成分
    系の液相発現温度未満の温度において前記成形体を長時
    間加熱すろ熱処理を施すことによつて、前記希土類金属
    と鉄族金属との金属間化合物と、鉄族金属単体との混合
    組織を有するターゲット材を製造する方法。
  2. (2)前記希土類金属と鉄族金属との混合物を金属容器
    で真空パックした後、この混合物に熱間パック圧延を施
    すことによつて前記熱間成形を遂行することを特徴とす
    る、特許請求の範囲第(1)項記載の製造方法。
  3. (3)前記希土類金属と鉄族金属との混合物にホットプ
    レスを施すことによつて前記熱間成形を遂行することを
    特徴とする、特許請求の範囲第(1)項記載の製造方法
  4. (4)前記希土類金属と鉄族金属との混合物に、金属容
    器を使用する熱間パック圧延を施した後、前記金属容器
    を除去することなく、前記成形体に、その成形体中に存
    在する金属成分系の液相発現温度未満の温度において前
    記成形体を長時間加熱する拡散処理を施すことを特徴と
    する、特許請求の範囲第(2)項記載の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6431966A (en) * 1987-07-25 1989-02-02 Tokin Corp Alloy target material and its production
JPS6465202A (en) * 1987-08-03 1989-03-10 Gen Motors Corp Lubrication in hot processing of rare earth metal-transition metal alloy
EP0308201A1 (en) * 1987-09-17 1989-03-22 Seiko Epson Corporation Method of forming a sputtering target for use in producing a magneto-optic recording medium

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