JPS6212656A - 低温焼結性セラミツク材料の製法 - Google Patents

低温焼結性セラミツク材料の製法

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JPS6212656A
JPS6212656A JP60153444A JP15344485A JPS6212656A JP S6212656 A JPS6212656 A JP S6212656A JP 60153444 A JP60153444 A JP 60153444A JP 15344485 A JP15344485 A JP 15344485A JP S6212656 A JPS6212656 A JP S6212656A
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inorganic filler
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村上 忠禧
加藤 和晴
清 高田
岡橋 和郎
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野1 本発明は耐熱性および電気絶縁性に優れた低温焼結性の
セラミック材料の製法に関する。さらに詳しくは耐熱性
あるいは不燃性が必要とされる電気絶縁部品、たとえば
消弧板、ヒータープレート、抵抗器枠などに用いること
ができる低温焼結性のセラミック材料の製法に関する。
[従来の技術1 従来からアルミナセラミックなどは工業材料をはじめ、
基板などの電子材料、骨などの代用として使用しうる生
体材料などに用いられている。
上記のほか、フープイライトセラミック、ノルフンセラ
ミックなど数多゛(のセラミックもその特性を生かした
用途に使用されている。
ところでこれらのセラミック材料の製法は原料粉末にポ
リビニルアルコール、メチルセルロース、グリセリンな
どの有機系バインダーを添加し、プレス成形あるいはシ
ート成形などにより所望の形状の成形体をえたのち、加
熱して有機バインダーを除去し、さらに高温で焼成して
焼結させる方法によりえられるが、焼成は1400〜2
000℃の温度範囲で行なわれている。
[発明が解決しようとする問題点1 本発明は、耐熱性および電気絶縁性に優れ、さらに従来
のセラミック材料の焼成温度よりも低い温度で焼成しう
る低温焼結性のセラミック材料をうるためになされたも
のである。
[問題を解決するための手段1 本発明は、ZnO−5i02−B203系の合成物およ
び無機フィラーからなる混合物に有機バインダーを添加
してなる成形材料を成形することによりえられた成形体
を900〜1100℃で加熱して焼結体をうることを特
徴とする低温焼結性セラミック材料の製法に関する。
[実施例] 本発明に用いる混合物はZnO−3iO□−B20.系
の合成物および無機フィラーからなる。
前記ZnO−3i O□−B20.系の合成物は酸化亜
鉛粉末9.71〜89.67%(重量%、以下同様)、
シリカ粉末0〜40.14%、ホウ酸粉末8.89〜5
0.15%からなる組成のものを均一に混合し、900
〜1100℃で焼成することによりえられる。
酸化亜鉛粉末は低温焼結性、低膨張性を付与するための
成分であるが、平均粒径が0.8μl以下で一般に市販
されているもの、あるいは水酸化亜鉛、炭酸亜鉛などを
加熱することにより酸化亜鉛としたものを用いることが
できる。前記平均粒径は0.8μmをこえると緻密な焼
結体をうろことが困難となるので好ましくない。
シリカ粉末は低温焼結性、低膨張性を付与するための成
分であるが、平均粒径が10μm以下の市販されている
無水ケイ酸を用いることができる。
平均粒径は10μmをこえるとm密な焼結体をうろこと
が困難となるので好ましくない。
ホウ酸粉末は酸化亜鉛粉末およびシリカ粉末と加熱時反
応し、低温焼結性を付与するための成分であるが、平均
粒径が10μl以下の正ホウ酸粉末をはじめ、無水ホウ
酸、メタホウ酸などの加水分解により生成される正ホウ
酸などを用いることができる。
焼結温度は900℃未満のばあい反応が充分に進行した
合成物かえられ難く、また1100°Cをこえると合成
物が一部溶融し、ルツボがら取り出すのが困難となるの
で好ましくない。
また、前記ZnO−S i O□−820,系の合成物
の組成は、ZnOが9.71%未満のばあい、Sin□
およびHz[lO*が多い組成となり、えられる低温焼
結性セラミック材料の強度および耐水性が劣り、また8
9.67%をこえても強度が劣るので好ましくない。
SiO□は、40.14%をこえると焼成温度が110
0℃をこえるので好ましくない。
+1,80.は8.89%重量%未満のばあい、えられ
る低温焼結性セラミック材料の強度が劣り、また50.
15%をこえても強度ならびに耐水性が劣るので好まし
くない。
前記無機フィラーはジルコン粉末および/またはコーデ
ィライト粉末からなる。ジルコン粉末はそれ自体低膨張
性を有する成分であるが、平均粒10μmをこえると緻
密な焼結体がえられ難い。また、フープイライト粉末も
ジルコン粉末と同様に低膨張性を示す成分であり、平均
粒径は10μl以下のものが好ましい。10μlをこえ
ると緻密な焼結体かえられ難い。
これらノルフン粉末およびコーディライト粉末は各々単
独で用いてもよく、また混合して用いてもよい。また、
これらの無機フィラーのほか、たとえばさらに強度にす
ぐれた焼結体をうるためにアルミナ、窒化ケイ素などの
粉末あるいはウィスカーなどを、また機械加工性を向上
させるためにマイカ粉末あるいタルク粉末などの層状物
質を、さらにはたとえばチタン酸カリウム繊維などの各
種セラミックファイバーを補強効果の向上のために複合
させてもよい。
前記混合物は、その組成が、Zno −S i O□−
820,系の合成物45〜80%、無8!フイラー20
〜55%となるように調合することによりえられる。混
合物中、無機フィラーの占める比率が20%未満(Zn
O−3iO□−R−n−X  j)ノy  #  ah
 at 1lll’14イ j  −4’L  )n)
 1−  k  七− 迩 M  。
ラーを複合した効果が顕著に現れないばかりかえられる
焼結体の強度が劣り、また無機フィラーが55%をこえ
る(ZnO−Si02−ロ203系の合成物が45%未
満)とえられる焼結体は多孔質となりやすく、強度が劣
るので好ましくない。
つぎに本発明の製法をさらに詳細に説明する。
酸化亜鉛粉末、シリカ粉末および正ホウ酸粉末を所望の
組成比率になるように調合した後、ボールミルなどで均
一に混合し、磁性ルツボあるいは白金ルツボに入れる。
つぎに900〜1100℃好ましくは950−1050
℃で3〜15時間加熱しZnO−5iO□−B20゜系
の合成物を作製する。
えられた合成物は5ZnO”2BzOi、β−ZnO・
B20.、Zn2SiO4などの合成物および非晶質成
分から構成されていると推定される。
つぎに合成物を粗粉砕したのち、さらにボールミルなど
で砕いて10μl以下の微粉末を作製する。
つぎに所望の無機フィラーを所定量添加して混合物を作
製する。この混合物にポリビニルアルコール水溶液、メ
チルセルロース水溶液、グリセリンなどの育成系バイン
ダーを添加してなる成形材料を作製する。従来公知の成
形方法としてたとえばプレス成形あるいは真空押出し成
形などにより成形体かえられる。有機バインダーの種類
、添加量は、混合物の種類、粒度ならびに成形方法によ
り異なるため、それら条件に応じて選定する必要がある
。°本発明では混合物100重量部に対して有機バイン
ダーとしてポリビニールアルコール5%水溶液tojT
!を部およびグリセリン3重量部を用い、プレス成形法
で作製した。
えられた成形体を焼成炉に入れて900〜1100℃、
好ましくは950〜1050℃で1〜,5時間加熱しm
密な焼結体をえた。前記加熱温度は900℃未満だと緻
密な焼結体がえられず、強度、電気絶縁性が劣り、また
1100’Cをこえるとえられる焼結体は形状変化をお
こしやすく、所望の形態の焼結体をうろことが困難とな
るので好ましくない。また、加熱時間は1時間未満のば
あい、焼結が不充分となり、また5時間をこえても緻密
度があまり変化せず、また焼結時間が短いほど経費が節
減できるため、前記範囲とするのが好ましい。
つぎに本発明の製法を実施例に基づき、さらに詳細に説
明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるもの
ではない。
実施例1 平均粒径0.8μlの酸化亜鉛粉末(堺化学工IX(株
)!! )SO%、平均粒径10/jzのシリカ粉末(
電気化学工業(株)製)30%、平均粒径10μlの正
ホウ酸粉末(石津製薬(株)製)20%からなる原料を
1000℃で3時間加熱焼成して、平均粒径8μ屑に粉
砕した合成物120I?と無機フィラーとして平均粒径
10μlのジルコン粉末(全土興業(株)!I!り80
fIをボールミルで3時間混合して混合物を作製した。
えられた混合物Zoo、に有機バインダーとしてポリビ
ニルアルコール5%水溶液20.とグリセリン6gを添
加し、摺潰機で30分間混合し、成形材料をえた。
えられた成形材料を高さ501N、幅125i+t%長
さ125i+zの金型に充填したのち、加圧力300&
g/cm2でCl−1−fljlノ?−MIK4町;*
h++、*w/nT4kTf3.イkAニドず1一つぎ
にこの成形体を70〜100℃の温度で3〜5時間乾燥
したのち、電気炉に入れ、昇温速度250℃/11で常
温から1000℃まで昇温し、1時間保持し、焼結体を
えすこ。つぎtこえられた焼結体を徐冷したのち、電気
炉から取り出した。えられた焼結体を原厚さで幅1oj
y、長さ100Iの寸法にダイヤモンドカッターで切断
し、支点間隔70zwで常態の曲げ強さを測定した。
また同様にして作製した焼結体から原厚さで幅100z
N、長さ100zの寸法にダイヤモンドカッターで切断
し、体積抵抗率の測定試料とした。体積抵抗率はJIS
 K 6911の5613項に準じて、常!!!(室温
25°C)のものおよび相対湿度90%、温度25℃の
雰囲気中に100時間放置したものについて測定した。
つぎに上記えられた焼結体を原厚さ511.長さ50+
uy幅51!肩の寸法に上記と同様にして切り出し、2
5〜500°Cまでの平均熱膨張率を測定した。その結
果を第1表に示す。
実施例2 無機フィラーとして平均粒径10μlのノルフン粉末(
金主興業(株)V! )40yおよび実施例1と同じ組
成の平均粒径8μ層の合成物160gを調合し、ボール
ミルで3時間部合して、混合物を作製したほかは実施例
1と同様にして焼結体を作製した。つぎにえられた焼結
体の曲げ強さ、体積抵抗率および平均熱膨張率を実施例
1と同様にして測定した。
その結果を第1表に示す。
実施例3 無8!フイラーとして平均粒径10μlのジルコン粉末
(金製興業(株)gINlogお上り実施例1と同じ組
成の平均粒径8μlの合成物90gを調合し、ボールミ
ルで3時間部合して混合物を作製したほかは、実施例1
と同様にして焼結体を作製した。
つぎにえられた焼結体の曲げ強さ、体積抵抗率および平
均熱膨張率を実施例1と同様にして測定した。その結果
を第1表に示す。
実施例4 平均粒径0,8μ肩の酸化亜鉛粉末(堺化学工業(株)
gJl)9.71%、平均粒径10μlのシリカ粉末(
電気化学工業(株)製)40.14%、平均粒径10μ
lの正本つ酸粉末(石fit製薬(株)製)50.15
%からなる原料を900°Cで5時間加熱焼成したのち
平均粒径8μ贋に粉砕した合成物120gと無機フィラ
ーとして平均粒径10μ屑のジルコン粉末(金主興業(
株)製)80gを調合し、ボールミルで3時間部合して
混合粉末を作製した。
えられた混合物200.に有機パイングーとしてポリビ
ニルアルコール5%水溶fi 20gとグリセリン6g
を添加し、捕潰機で30分間混合し成形材料をえた。
えられた成形材料を実施例1と同様の成形方法で成形体
を作製し、つぎに70〜100℃の温度で3〜5時間乾
燥したのち、電気炉に入れ、昇温速度250℃/11で
常温から900℃まで昇温し、3時間保持し、焼結体を
えた。
つぎにえられた焼結体を徐冷したのち、電気炉から取り
出した。えられた焼結体の山げ強さ、体積抵抗率、平均
熱膨張率を実施例1と同様にして測定した。その結果を
tjS1表に示す。
実施例5 平均粒径0,8μlの酸化亜鉛粉末(堺化学工業(株)
!! )80%、平均粒径10μmの正ホウ酸粉末20
%からなる原料を1ooo℃で5時間加熱焼成したのち
、平均粒径8μ置に粉砕した合成物120gと無機フィ
ラーとして平均粒径10μlのジルコン粉末(金主興業
(株)製)80gを調合し、ボールミルで3時間部合し
て混合粉末を作製した。
以下実施例1と同様にして焼結体を作製した。
この焼結体の曲げ強さ、体積抵抗率、平均熱膨張率を実
施例1と同様にして測定した。その結果を第1表に示す
実施例6 平均粒径0,8μ屑の酸化亜鉛粉末(堺化学工業(株)
製)89.67%、平均粒径10μ肩のシリカ粉末(電
気化学工業(株)製)1.44%、平均粒径10μ肩の
正ホウ酸粉末8.89%からなる原料を1100℃で5
時間加熱焼成したのち、平均粒径8μ鱈こ粉砕した合成
物120gと無8!フイラーとして平均粒径10μlの
ジルコン粉末(金主興業(株)製)80gを調合し、ボ
ールミルで3時間部合して混合粉末を作製した。
えられた混合物200.、に有機バインダーとしてポリ
ビニルアルコール5%水溶@20.とグリセリン6gを
添加し、4$ 29 Rt’ 30分間混合し、成形材
料をえた。
えちれた成形材料を実施例1と同様の成形方法で成形体
を作製し、つぎに70〜100℃の温度で3〜5時間乾
燥したのち、電気炉に入れ、昇温速度250℃/)+で
常温から1100℃まで昇温し、3時間保持し、焼結体
をえた。えられた焼結体の曲げ強さ、体積抵抗率、平均
熱膨張率を実施例1と同様にして測定した。その結果を
第1表に示す。
実施例7 無8!フイラーとして平均粒径15μ夏のコーディライ
ト粉末(瀬戸窯業原料(株)製)80gと実施例1と同
じ組成の平均粒径が8μ瀧の合成物1202を調合し、
ボールミルで3時間部合して混合物を作製したほかは実
施例1と同様にして焼結体を作製した。 この焼結体の
曲げ強さ、体積抵抗率および平均熱膨張率を実施例1と
同様°にして測定した。
その結果を第1表に示す。
実施例8 無機フィラーとして平均粒径15μ屑のフープイライト
粉末(瀬戸窯業原料(株)製40.と平均粒径10μl
のジルコン粉末(今生興業(株)製)40.を用いて実
施例1と同じIL或の平均粒径8μlの合成物120g
を調合し、ボールミルで3時間部合して混合物を作製し
たほかは実施例1と同様にして焼結体を作製した。
この焼結体の曲げ強さ、体積抵抗率および平均熱膨張率
を実施例1と同様にして測定した。その結果を第1表に
示す。
比較例1 無機フィラーは使用せずに合成物として実施例1と同じ
ものを200g用いたほかは実施例1と同様にして焼結
体を作製した。この焼結体の曲げ強さ、体積抵抗率、平
均熱膨張率を実施例1と同様にして測定した。その結果
を第1表に示す。
比較例2 無機フィラーとして平均粒径10μlのノルフン粉末(
今生興業(株)!!! )120gおよび実施例1と同
じ組成の平均粒径8μ肩の合成物80gを調合し、ボー
ルミルで3時間部合して混合物を作製したほかは、実施
例1と同様にして焼結体を作製した。
この焼結体の曲げ強さ、体積抵抗率、平均熱膨張率を実
施例1と同様にして測定した。その結果を第1表に示す
[以下余白1 第1表から無機フィラーおよびZnp−5in2−82
0*系の合成物からなる本発明のセラミック材料は90
0〜1100°Cの焼成温度で焼結でき、従来のセラミ
ック材料の焼成温度よりも低温で焼成することができる
ことがわかる。また、実施例1〜8に示したように曲げ
強さは1000Ay/cz2以上であり、また体積抵抗
率も常態で1013Ω/cm以上であり、曲げ強さおよ
び電気絶縁性に優れrこ低温焼結性のセラミツ゛り材料
である。
また、本発明に用いた無機フィラーはジルコン粉末およ
びコーディライト粉末とも低膨張性を有−f ルL ノ
テI Q、ZnO−5iQ2−B20=系の合成物の低
膨張性も相まって本発明のセラミック材料は25〜50
0℃の平均熱膨張率が1.85〜3.98X 10−’
/’Cと低膨張であるため耐熱衝撃性に優れている。し
たがって耐熱衝撃性が必要とされる消弧板、ヒータープ
レートあるいは抵抗器枠などの用途に好適に用いること
ができる。
また比較例1は無機フィラーを用いない例であるが、と
くに+1111デ強さは、実施例1〜8と比べて劣って
いる。
比較例2は無機フィラーの含有率が特許請求の範囲から
離脱して大きいばあいの例であるが、曲げ強さ、体積抵
抗率とともに実施例1〜8に比べて劣っている。
[発明の効果1 本発明の方法によれば安価な原料を用い、従来よりも低
い焼成温度でしかも従来の成形プロセスを用いて緻密な
焼結体を作製でき、えられた焼結体は耐熱性、強度、電
気絶縁性にすぐれ、低膨張性であるため消弧板、ヒータ
ープレート、抵抗器枠などに好適に用いることができる
という効果を奏す。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ZnO−SiO_2−B_2O_3系の合成物お
    よび無機フィラーからなる混合物に有機バインダーを添
    加してなる成形材料を成形することによりえられた成形
    体を900〜1100℃で加熱して焼結体をうることを
    特徴とする低温焼結性セラミック材料の製法。
  2. (2)混合物の組成がZnO−SiO_2−B_2O_
    3系の合成物45〜80重量%および無機フィラー20
    〜55重量%である特許請求の範囲第(1)項記載の低
    温焼結性セラミック材料の製法。
  3. (3)無機フィラーがジルコン粉末および/またはコー
    ディライト粉末である特許請求の範囲第(1)項記載の
    製法。
  4. (4)ZnO−SiO_2−B_2O_3系の合成物が
    酸化亜鉛粉末9.71〜89.67重量%、シリカ粉末
    0〜40.14重量%、ホウ酸粉末8.89〜50.1
    5重量%を900〜1100℃で加熱してなる特許請求
    の範囲第(1)項記載の製法。
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59232964A (ja) * 1983-06-13 1984-12-27 三菱電機株式会社 マイカ複合セラミツクスの製造法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59232964A (ja) * 1983-06-13 1984-12-27 三菱電機株式会社 マイカ複合セラミツクスの製造法

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