JPS6211970Y2 - - Google Patents
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- JPS6211970Y2 JPS6211970Y2 JP1986029266U JP2926686U JPS6211970Y2 JP S6211970 Y2 JPS6211970 Y2 JP S6211970Y2 JP 1986029266 U JP1986029266 U JP 1986029266U JP 2926686 U JP2926686 U JP 2926686U JP S6211970 Y2 JPS6211970 Y2 JP S6211970Y2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/16—Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk
- C25D17/18—Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk having closed containers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/16—Regeneration of process solutions
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はドラムユニツト、陽極及び作業容器か
らなる処理ステーシヨン、貯蔵容器、循環装置、
真空装置、電気付属品並びに循環導管を備える、
金属及び相応して前処理された非金属対象物上に
電気メツキし、付着する表面処理剤を除去して該
対象物を清浄とし、該表面処理剤を回収するため
の装置に関する。
らなる処理ステーシヨン、貯蔵容器、循環装置、
真空装置、電気付属品並びに循環導管を備える、
金属及び相応して前処理された非金属対象物上に
電気メツキし、付着する表面処理剤を除去して該
対象物を清浄とし、該表面処理剤を回収するため
の装置に関する。
対象物上に電気メツキし、これを清浄にし、使
用した処理剤を回収するための装置及び方法はす
でに公知である。
用した処理剤を回収するための装置及び方法はす
でに公知である。
しかし、この公知の装置及び方法はそれぞれこ
れら機能の1つ又は2つのためにのみ使用可能で
ある。密閉システム中でのその利用は全く不可能
であるか、又は不十分な効果でのみ可能である。
れら機能の1つ又は2つのためにのみ使用可能で
ある。密閉システム中でのその利用は全く不可能
であるか、又は不十分な効果でのみ可能である。
本考案の課題は対象物上への電気メツキ、付着
する表面処理剤の除去並びに回収を密閉循環中で
可能とする装置を達成することである。
する表面処理剤の除去並びに回収を密閉循環中で
可能とする装置を達成することである。
この課題は本考案において、溢流装置11を備
える作業容器5中に2個の陽極2がドラムユニツ
ト1の周囲に半円形に配置されており、ここで作
業容器は分別装置10を有する開口部を介して表
面処理剤のための貯蔵容器4と結合しており、こ
の貯蔵容器4は真空装置9により減圧に調節され
ることができ、かつここで貯蔵容器は循環導管に
より作業容器と連結していることを特徴とする前
記種類の装置により解決する。
える作業容器5中に2個の陽極2がドラムユニツ
ト1の周囲に半円形に配置されており、ここで作
業容器は分別装置10を有する開口部を介して表
面処理剤のための貯蔵容器4と結合しており、こ
の貯蔵容器4は真空装置9により減圧に調節され
ることができ、かつここで貯蔵容器は循環導管に
より作業容器と連結していることを特徴とする前
記種類の装置により解決する。
本考案による装置の有利な実施形式は、ドラム
ユニツトがドラム及び陽極間の緊密な連結を形成
する有利にストリツプ状のパツキングを備えてお
り、作業容器は洗浄装置7を備えており、作業容
器は送風装置を備えており、本考案による装置に
は電流調節のための自動制御システム並びに積算
電力計により制御された配量装置が配置されてお
り、かつ運搬装置、浴容器、回収装置、循環導管
及び調節装置を包含する自動装置中に配置されて
いることよりなる。
ユニツトがドラム及び陽極間の緊密な連結を形成
する有利にストリツプ状のパツキングを備えてお
り、作業容器は洗浄装置7を備えており、作業容
器は送風装置を備えており、本考案による装置に
は電流調節のための自動制御システム並びに積算
電力計により制御された配量装置が配置されてお
り、かつ運搬装置、浴容器、回収装置、循環導管
及び調節装置を包含する自動装置中に配置されて
いることよりなる。
更に、本考案の装置により、常法で前処理した
対象物を半円形に配置した陽極の間に存在するド
ラムユニツト中で、貯蔵容器から浴溶液を満たし
た後、先ず第1に電気メツキし、この際浴溶液を
陽極端部に形成されたスリツトを通して連続的に
作業容器から貯蔵容器中に吸引し、この溶液をメ
ツキ工程が終了するまで、使用浴溶液を補充しつ
つ循環導管を介して作業容器中に戻し、その後、
陽極電流を遮断後浴溶液の流入を中断し、次いで
この溶液を作業容器から、かつ電気メツキした対
象物から吸引し、できるだけ完全に除去する方法
を実施することが可能である。
対象物を半円形に配置した陽極の間に存在するド
ラムユニツト中で、貯蔵容器から浴溶液を満たし
た後、先ず第1に電気メツキし、この際浴溶液を
陽極端部に形成されたスリツトを通して連続的に
作業容器から貯蔵容器中に吸引し、この溶液をメ
ツキ工程が終了するまで、使用浴溶液を補充しつ
つ循環導管を介して作業容器中に戻し、その後、
陽極電流を遮断後浴溶液の流入を中断し、次いで
この溶液を作業容器から、かつ電気メツキした対
象物から吸引し、できるだけ完全に除去する方法
を実施することが可能である。
この方法の有利な実施形式は、貯蔵容器から作
業容器への浴溶液の充填を循環装置を用いて行な
い作業容器の浴溶液による過充填をこの溶液を貯
蔵部に戻す安全溢流部により回避し、電気メツキ
を初期電流約0.1A/dm2で開始し、約8〜10A/
dm2の目標値で電気メツキを行ない、水柱約40〜
4000mmの減圧で吸引工程を行ない、対象物の電気
メツキ及び清浄化の後に洗浄工程を続けて行な
い、この洗浄工程では浴溶液のかわりに純水を、
貯蔵容器中での蒸発工程により生じた水損失を補
う量で、対象物の完全な清浄化のためにドラムユ
ニツトを通して吸引し、かつ処理の完了後対象物
の乾燥を、送風装置を用いて、対象物をその中に
有するドラムユニツトを通して導入されるガス
流、有利に空気により行なうことよりなる。
業容器への浴溶液の充填を循環装置を用いて行な
い作業容器の浴溶液による過充填をこの溶液を貯
蔵部に戻す安全溢流部により回避し、電気メツキ
を初期電流約0.1A/dm2で開始し、約8〜10A/
dm2の目標値で電気メツキを行ない、水柱約40〜
4000mmの減圧で吸引工程を行ない、対象物の電気
メツキ及び清浄化の後に洗浄工程を続けて行な
い、この洗浄工程では浴溶液のかわりに純水を、
貯蔵容器中での蒸発工程により生じた水損失を補
う量で、対象物の完全な清浄化のためにドラムユ
ニツトを通して吸引し、かつ処理の完了後対象物
の乾燥を、送風装置を用いて、対象物をその中に
有するドラムユニツトを通して導入されるガス
流、有利に空気により行なうことよりなる。
本考案による装置及びこれを用いて行なう方法
は、処理の完了後対象物になお付着する水性表面
処理剤の除去及び回収が必要であるか、又は所望
されるすべての電気的表面処理法において使用す
ることができる。
は、処理の完了後対象物になお付着する水性表面
処理剤の除去及び回収が必要であるか、又は所望
されるすべての電気的表面処理法において使用す
ることができる。
従つて、この装置及び方法は特に、経済的な使
用及び環境保護上の必要性により可能な限り定量
的な有価物質の回収を前提とするクロム、ニツケ
ル、コバルト、銅、カドミウム、亜鉛、錫、鉛、
銀、金、ロジウム、パラジウム及びこれらの合金
に好適である。
用及び環境保護上の必要性により可能な限り定量
的な有価物質の回収を前提とするクロム、ニツケ
ル、コバルト、銅、カドミウム、亜鉛、錫、鉛、
銀、金、ロジウム、パラジウム及びこれらの合金
に好適である。
従来、どんな装置によつても、かつどんな公知
の方法によつても達成することのできなかつた目
標が、対象物上への電気メツキ、その清浄化及び
対象物上に、処理後自然に付着している処理剤の
定量的な回収を密閉システム中で可能とする、本
考案による装置及びこれを用いて行なう方法によ
り優れた方法で達成された。
の方法によつても達成することのできなかつた目
標が、対象物上への電気メツキ、その清浄化及び
対象物上に、処理後自然に付着している処理剤の
定量的な回収を密閉システム中で可能とする、本
考案による装置及びこれを用いて行なう方法によ
り優れた方法で達成された。
本考案の装置を用いて行なう方法の特別な利点
は、特に直接の回収及び使用した表面処理剤の即
時の再利用である。更に、非常にわずかな洗浄剤
の需要及び濃縮工程及び排水処理法のほとんど完
全な廃止により非常に僅かな作業費用しかかから
ない。
は、特に直接の回収及び使用した表面処理剤の即
時の再利用である。更に、非常にわずかな洗浄剤
の需要及び濃縮工程及び排水処理法のほとんど完
全な廃止により非常に僅かな作業費用しかかから
ない。
本考案による装置を次に詳細に説明する。
ドラムユニツト1としては穴のあいた壁を有す
る常用のドラムを使用し、このドラムは完全なド
ラム支持体の構成部であり、二つの支持アームの
間に支承されている。
る常用のドラムを使用し、このドラムは完全なド
ラム支持体の構成部であり、二つの支持アームの
間に支承されている。
このドラムユニツトは有利にパツキングを、特
にストリツプ状で備え、このパツキングはドラム
体とドラム体をそれぞれ半円形に包囲する陽極2
との間の緊密な結合を構成する。ここを通して浴
溶液を吸引する陽極間のスリツトはできるだけ小
さく調節する。この配置のこの方法はわずかな電
圧での作業を可能とし、これによりエネルギーは
節約される。
にストリツプ状で備え、このパツキングはドラム
体とドラム体をそれぞれ半円形に包囲する陽極2
との間の緊密な結合を構成する。ここを通して浴
溶液を吸引する陽極間のスリツトはできるだけ小
さく調節する。この配置のこの方法はわずかな電
圧での作業を可能とし、これによりエネルギーは
節約される。
陽極材料としては使用した電解質に相応する金
属を使用する、すなわち、亜鉛、銅、銀、カドミ
ウム、ニツケル等を基礎とする電解質においては
溶解性の陽極であり、金、クロム等を基礎とする
電解質においては不溶性の陽極である。
属を使用する、すなわち、亜鉛、銅、銀、カドミ
ウム、ニツケル等を基礎とする電解質においては
溶解性の陽極であり、金、クロム等を基礎とする
電解質においては不溶性の陽極である。
ドラムユニツトは作業容器5中に配置されてお
り、これは電気メツキの間ドラムが常におおわれ
ている程度に満たされている。作業容器中わきに
配置された溢流装置11は容器の過充填を阻止す
る。
り、これは電気メツキの間ドラムが常におおわれ
ている程度に満たされている。作業容器中わきに
配置された溢流装置11は容器の過充填を阻止す
る。
更に、作業容器は洗浄装置7を備える。更に、
送風乾燥のための送風装置も取り付けられていて
よい。
送風乾燥のための送風装置も取り付けられていて
よい。
作業容器中への電解質の連続的な導入は循環装
置により貯蔵容器から循環導管を介して行なわれ
る。濾過ユニツトを装入することにより同時に電
解質の強力な濾過が達成される。
置により貯蔵容器から循環導管を介して行なわれ
る。濾過ユニツトを装入することにより同時に電
解質の強力な濾過が達成される。
循環装置は有利に貯蔵容器から空間的に分離し
た、ヒーター及び浴コレクターを備える区分に配
置されており、ここで、両方の容器はもちろん妨
害されない電解質流動を行なうことができるよう
に結合している。
た、ヒーター及び浴コレクターを備える区分に配
置されており、ここで、両方の容器はもちろん妨
害されない電解質流動を行なうことができるよう
に結合している。
電解質のための貯蔵容器4が同時に真空空間と
して構成されており、このことは真空装置、例え
ば一段半径流ベンチレーター、多段送風機又は真
空ポンプとの接続により達せられる。電解質容量
を一定に保持するためにこの真空装置中に有利に
蒸発器8又は液滴分離器を取り付けることができ
る。
して構成されており、このことは真空装置、例え
ば一段半径流ベンチレーター、多段送風機又は真
空ポンプとの接続により達せられる。電解質容量
を一定に保持するためにこの真空装置中に有利に
蒸発器8又は液滴分離器を取り付けることができ
る。
この真空空間は強化した電解質通過を達成す
る。すなわち、ドラム中の、かつこれにより対象
物上の電解質の強力な交換を意味する。
る。すなわち、ドラム中の、かつこれにより対象
物上の電解質の強力な交換を意味する。
公知の装置及び方法を用いて一般に達成可能な
1.0〜2.0A/dm2の電流密度を意外にも20.0A/
dm2まで上昇させることができ、これにより暴露
時間は著しく短縮される。
1.0〜2.0A/dm2の電流密度を意外にも20.0A/
dm2まで上昇させることができ、これにより暴露
時間は著しく短縮される。
すなわち、公知法で約12μmの層厚を可能とす
る同じ時間内に約25〜30μmの層厚を達成するこ
とができる。
る同じ時間内に約25〜30μmの層厚を達成するこ
とができる。
この過大な電流密度にもかかわらず、他の場合
によく起こる製品のいわゆる“焦げ効果
(anbrenneffekt)”は生じず、むしろ高品質の被
膜が生じる。
によく起こる製品のいわゆる“焦げ効果
(anbrenneffekt)”は生じず、むしろ高品質の被
膜が生じる。
作業容器中に設置した洗浄装置は電解質の吸引
の完了後対象物の問題のない後洗浄を可能とし、
これにより最適な清浄化を可能とする。所望であ
れば、空気吸引又は吹付け装置を用いて空気を吹
付けることにより対象物を乾燥させることができ
る。
の完了後対象物の問題のない後洗浄を可能とし、
これにより最適な清浄化を可能とする。所望であ
れば、空気吸引又は吹付け装置を用いて空気を吹
付けることにより対象物を乾燥させることができ
る。
貯蔵容器の上部に設置した分別装置10は一方
では作業容器を密閉するために、例えば電解質で
この容器を先ず満たす際に働らき、他方では多く
の処理工程を行なう際に異なる表面処理剤を分別
するためにも使用する。
では作業容器を密閉するために、例えば電解質で
この容器を先ず満たす際に働らき、他方では多く
の処理工程を行なう際に異なる表面処理剤を分別
するためにも使用する。
本考案による装置のための材料としては、材料
が吸引すべき表面処理剤に対し安定であり、かつ
仕上げ加工工程を妨げないかぎり、常用の材料を
使用することができる。一般にプラスチツク又は
プラスチツク被覆金属を使用する。
が吸引すべき表面処理剤に対し安定であり、かつ
仕上げ加工工程を妨げないかぎり、常用の材料を
使用することができる。一般にプラスチツク又は
プラスチツク被覆金属を使用する。
装置の調節は電気システムで行なう。この装置
自体は運搬装置、浴容器、回収装置、循環導管及
び調節システムを包含する自動装置の構成部であ
つてよい。
自体は運搬装置、浴容器、回収装置、循環導管及
び調節システムを包含する自動装置の構成部であ
つてよい。
本考案による装置を用いて行なう方法の実施は
技術的に問題がない。
技術的に問題がない。
処理剤の吸引は減圧により行なわれる。吸引力
は有利に40〜4000mm水柱であり、制御装置、例え
ば減圧発生器の絞り、通風フラツプ調節又は回転
速度変換により、そのつどの必要に適合させるこ
とができる。
は有利に40〜4000mm水柱であり、制御装置、例え
ば減圧発生器の絞り、通風フラツプ調節又は回転
速度変換により、そのつどの必要に適合させるこ
とができる。
約1200mm水柱までの減圧を起こさせるには一段
半径流ベンチレーターを用いて実施するのが有利
である。水柱3500mmまでの範囲では多段送風器を
使用する。これ以上の能力範囲は有利に真空ポン
プを使用するのが有利である。
半径流ベンチレーターを用いて実施するのが有利
である。水柱3500mmまでの範囲では多段送風器を
使用する。これ以上の能力範囲は有利に真空ポン
プを使用するのが有利である。
本考案による装置及びこれを使用して行なう方
法は密閉したシステム中で連続的な作業法におい
て優れた電気メツキを短かい処理時間で可能と
し、更に対象物に付着する処理剤の定量的な回収
及び後処理なしに対象物をすぐに使用することが
できる程度にこの対象物の清浄化を可能とする。
法は密閉したシステム中で連続的な作業法におい
て優れた電気メツキを短かい処理時間で可能と
し、更に対象物に付着する処理剤の定量的な回収
及び後処理なしに対象物をすぐに使用することが
できる程度にこの対象物の清浄化を可能とする。
本考案をいくつかの実施例につき詳細に説明す
る。第1図は本考案による装置を示し、ここでは 1ドラムユニツト、2陽極、4電解質及び真空
空間3を備える貯蔵容器、7洗浄装置及び/又は
送風装置、8蒸発器、9真空装置接続部、10分
別装置、11溢流装置、 を表わす。
る。第1図は本考案による装置を示し、ここでは 1ドラムユニツト、2陽極、4電解質及び真空
空間3を備える貯蔵容器、7洗浄装置及び/又は
送風装置、8蒸発器、9真空装置接続部、10分
別装置、11溢流装置、 を表わす。
第2図は本考案による装置の側面図を示し、こ
こで 1ドラムユニツト、6循環装置、12循環導管 次に実施例につき本考案の装置を用いて行なう
方法を詳細に説明する。
こで 1ドラムユニツト、6循環装置、12循環導管 次に実施例につき本考案の装置を用いて行なう
方法を詳細に説明する。
ドラムユニツトにバラ積荷(小片)を半分まで
充填し、常法で前処理する、すなわち熱時脱脂
し、酸洗いし、脱脂し、酸洗いし、かつ引き続き
自動的に調節される運搬装置を用いて、作業容器
中に装入する。
充填し、常法で前処理する、すなわち熱時脱脂
し、酸洗いし、脱脂し、酸洗いし、かつ引き続き
自動的に調節される運搬装置を用いて、作業容器
中に装入する。
循環装置は貯蔵容器から、例えばニツケル浴を
基礎とする電解質を作業容器中にドラム体が完全
に電解液でおおわれるまで供給する。
基礎とする電解質を作業容器中にドラム体が完全
に電解液でおおわれるまで供給する。
最高の浴液面が達成される際、分別装置は開
き、これにより電解質の循環は始まる。作業容器
の過充填は溢流装置により回避される。先ず、自
動的に制御された電流段階選択により初期電流を
約0.1A/dm2に調節する。最大電解質交換が達成
されると同時に、電流の強さを段々に約3分かけ
て約8A/dm2〜10A/dm2の目標値にする。
き、これにより電解質の循環は始まる。作業容器
の過充填は溢流装置により回避される。先ず、自
動的に制御された電流段階選択により初期電流を
約0.1A/dm2に調節する。最大電解質交換が達成
されると同時に、電流の強さを段々に約3分かけ
て約8A/dm2〜10A/dm2の目標値にする。
作業容器が完全に充填されたら、真空装置を作
動させる。分別装置の解放後、電解質は真空空間
を通つて貯蔵容器中に戻り、循環導管を通つてこ
こから新たに作業容器中に流入する。生じた水素
はここで連続的に吸引され、これにより部材のい
わゆる“焦げ”が回避される。
動させる。分別装置の解放後、電解質は真空空間
を通つて貯蔵容器中に戻り、循環導管を通つてこ
こから新たに作業容器中に流入する。生じた水素
はここで連続的に吸引され、これにより部材のい
わゆる“焦げ”が回避される。
約15分間の暴露時間の後、平均して12μmの層
厚が生じ、金属被覆の工程を終了させ、循環ポン
プを制御システムにより遮断する。電解質は作業
空間から貯蔵容器中に流れて戻る。対象物上に付
着する処理剤をできるだけ完全に吸引し、同様に
貯蔵容器中に戻す。
厚が生じ、金属被覆の工程を終了させ、循環ポン
プを制御システムにより遮断する。電解質は作業
空間から貯蔵容器中に流れて戻る。対象物上に付
着する処理剤をできるだけ完全に吸引し、同様に
貯蔵容器中に戻す。
その後、洗浄装置を用いて、純水を作業空間中
に入れ、ドラムユニツトを通して吸引する。これ
により小さな部品の完全な清浄化が行なわれる。
この水の導入は有利にある範囲で行なわれる、す
なわち蒸発により生じた損失により補なわれる量
で行なわれる。
に入れ、ドラムユニツトを通して吸引する。これ
により小さな部品の完全な清浄化が行なわれる。
この水の導入は有利にある範囲で行なわれる、す
なわち蒸発により生じた損失により補なわれる量
で行なわれる。
引き続き、ガス、有利に空気を送風装置を用い
て吹き付けることにより対象の完全な乾燥を続け
て行なう。
て吹き付けることにより対象の完全な乾燥を続け
て行なう。
表面処理剤を除去し清浄にした対象物を、作業
空間からドラムユニツトを引き上げた後その使用
に供給する。
空間からドラムユニツトを引き上げた後その使用
に供給する。
添付図面は本考案による装置の1実施例を示す
略図であり、第1図は装置の縦断面図であり、第
2図は部分断面図を有する側面図である。 1……ドラムユニツト、2……陽極、3……真
空空間、4……貯蔵容器、5……作業容器、6…
…循環装置、7……洗浄装置及び/又は送風装
置、8……蒸発器、9……真空装置接続部、10
……分別装置、11……溢流装置、12……循環
導管。
略図であり、第1図は装置の縦断面図であり、第
2図は部分断面図を有する側面図である。 1……ドラムユニツト、2……陽極、3……真
空空間、4……貯蔵容器、5……作業容器、6…
…循環装置、7……洗浄装置及び/又は送風装
置、8……蒸発器、9……真空装置接続部、10
……分別装置、11……溢流装置、12……循環
導管。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 ドラムユニツト1、陽極2及び作業容器5か
らなる処理ステーシヨン、貯蔵容器4、循環装
置6、電気付属品並びに循環導管12を備え
る、金属及び相対して前処理された非金属対象
物上に電気メツキし、付着する表面処理剤を除
去して対象物を清浄化し、並びに該表面処理剤
を回収するための装置において、溢流装置11
を備える作業容器5中に2個の陽極2がドラム
ユニツト1の周囲に半円形に配置されており、
ここで作業容器は分別装置10を備える開口部
を介して表面処理剤用貯蔵容器4と結合してお
り、この貯蔵容器は真空装置9により、減圧に
調節されることができ、かつここで貯蔵容器は
循環導管12により作業容器に連結しているこ
とを特徴とする対象物上に電気メツキし、付着
する表面処理剤を除去し、かつ該表面処理剤を
回収する装置。 2 ドラムユニツトがドラム及び陽極間の緊密な
結合を形成する、有利にストリツプ状のパツキ
ングを備える実用新案登録請求の範囲第1項記
載の装置。 3 作業容器が洗浄装置7を備える実用新案登録
請求の範囲第1項記載の装置。 4 作業容器が送風装置を備える実用新案登録請
求の範囲第1項記載の装置。 5 電流調節のための自動制御システム並びに積
算電力計により制御される配量装置が配置され
ている実用新案登録請求の範囲第1項記載の装
置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19813107101 DE3107101A1 (de) | 1981-02-20 | 1981-02-20 | Vorrichtung und verfahren zur galvanischen metallabscheidung auf gegenstaenden, deren reinigung von anhaftenden oberflaechenbehandlungsmitteln sowie deren rueckgewinnung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61198276U JPS61198276U (ja) | 1986-12-11 |
JPS6211970Y2 true JPS6211970Y2 (ja) | 1987-03-24 |
Family
ID=6125739
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57024641A Pending JPS57210998A (en) | 1981-02-20 | 1982-02-19 | Method and apparatus for plating object, removing and recovering surface treating agent adhered thereto |
JP1986029266U Expired JPS6211970Y2 (ja) | 1981-02-20 | 1986-03-03 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57024641A Pending JPS57210998A (en) | 1981-02-20 | 1982-02-19 | Method and apparatus for plating object, removing and recovering surface treating agent adhered thereto |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4409082A (ja) |
JP (2) | JPS57210998A (ja) |
AT (1) | AT376463B (ja) |
CA (1) | CA1189819A (ja) |
DE (1) | DE3107101A1 (ja) |
FR (1) | FR2500491B1 (ja) |
GB (1) | GB2097427B (ja) |
IE (1) | IE53252B1 (ja) |
IT (1) | IT1149728B (ja) |
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---|---|---|---|---|
JPH01100300A (ja) * | 1987-10-12 | 1989-04-18 | Shinko Electric Ind Co Ltd | バレルめっき装置用めっき処理液洗浄装置 |
JP2698871B2 (ja) * | 1987-11-25 | 1998-01-19 | 有限会社カネヒロ・メタライジング | バレルメッキ装置 |
DE4117760C1 (en) * | 1991-05-31 | 1992-12-10 | Metallglanz Gmbh | Electrolytically surface treating tube in treatment tank - using covered tanks connected by flexible pipes, with air exhausted through pipes preventing uncontrolled escape of vapour |
EP0694090B1 (de) * | 1994-02-15 | 1997-04-23 | Ecograph Ag | Verfahren und vorrichtung zur elektrolytischen oberflächenbeschichtung von werkstücken |
GB2324805A (en) * | 1997-04-30 | 1998-11-04 | Platt Electromeck Limited | Electroplating |
DE19932524C1 (de) * | 1999-07-12 | 2001-03-29 | Wmv App Bau Gmbh & Co Kg | Verfahren und Vorrichtung zur elektrochemischen Behandlung |
CH694619A5 (de) | 1999-07-12 | 2005-04-29 | Wmv Appbau Gmbh & Co Kg | Verfahren und Vorrichtung zur elektrochemischen Behandlung. |
DE10049113C2 (de) * | 2000-10-04 | 2003-01-02 | Kaspar Walter Gmbh & Co Kg | Badvorrichtung für Tiefdruckzylinder |
AT412973B (de) * | 2003-07-25 | 2005-09-26 | Andritz Ag Maschf | Verfahren zum elektrolytischen beschichten eines metallischen gegenstandes mit zinn oder einer zinnlegierung |
AT413037B (de) * | 2003-07-25 | 2005-10-15 | Andritz Ag Maschf | Vorrichtung zum elektrolytischen beschichten eines metallischen gegenstandes mit zinn oder einer zinnlegierung |
KR101140770B1 (ko) | 2004-04-28 | 2012-05-03 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 기판처리유닛 및 기판처리장치와 기판 유지장치 및 기판 유지방법 |
US20080098577A1 (en) * | 2006-10-26 | 2008-05-01 | Sossy Baghdoian | Flexible zipper |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1429170A (en) * | 1921-06-30 | 1922-09-12 | Edward A Severance | Electroplating barrel and catcher |
US1618199A (en) * | 1926-05-15 | 1927-02-22 | Hulmer Joseph | Electrolytic plating machine |
US2498128A (en) * | 1946-04-13 | 1950-02-21 | Frederic B Stevens Inc | Apparatus for electroplating workpieces |
DE1546157C3 (de) * | 1965-11-03 | 1974-08-22 | Langbein-Pfanhauser Werke Ag, 4040 Neuss | Trommel zur Aufnahme eines Füllgutes |
US3607712A (en) * | 1969-01-21 | 1971-09-21 | Ionic International Inc | Barrel-type processing apparatus |
DE2407208A1 (de) * | 1974-02-15 | 1975-09-04 | Linnhoff Ohg Wilhelm | Einrichtung zur chemischen und/oder elektrochemischen badbehandlung |
US4153531A (en) * | 1976-08-21 | 1979-05-08 | Kernforschungsanlage Julich Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Apparatus for electrochemically processing metallic surfaces |
US4129494A (en) * | 1977-05-04 | 1978-12-12 | Norman Telfer E | Electrolytic cell for electrowinning of metals |
US4151062A (en) * | 1978-01-04 | 1979-04-24 | Norris Richard J | Metals recovery apparatus |
US4337135A (en) * | 1978-10-06 | 1982-06-29 | Bunker Ramo Corporation | Barrel plating apparatus |
DE2947810B1 (de) * | 1979-11-28 | 1981-07-16 | Friedr. Blasberg GmbH und Co KG, 5650 Solingen | Spuelvorrichtung fuer galvanisch oder chemisch behandelte Gegenstaende |
DE3023129C2 (de) * | 1980-06-20 | 1982-04-15 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Vorrichtung zum galvanischen Abscheiden von Aluminium |
-
1981
- 1981-02-20 DE DE19813107101 patent/DE3107101A1/de active Granted
-
1982
- 1982-02-03 IT IT19427/82A patent/IT1149728B/it active
- 1982-02-12 GB GB8204232A patent/GB2097427B/en not_active Expired
- 1982-02-16 AT AT0059382A patent/AT376463B/de not_active IP Right Cessation
- 1982-02-18 FR FR828202693A patent/FR2500491B1/fr not_active Expired
- 1982-02-19 IE IE347/82A patent/IE53252B1/en not_active IP Right Cessation
- 1982-02-19 CA CA000396665A patent/CA1189819A/en not_active Expired
- 1982-02-19 JP JP57024641A patent/JPS57210998A/ja active Pending
- 1982-03-12 US US06/357,551 patent/US4409082A/en not_active Expired - Fee Related
-
1986
- 1986-03-03 JP JP1986029266U patent/JPS6211970Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATA59382A (de) | 1984-04-15 |
GB2097427A (en) | 1982-11-03 |
DE3107101C2 (ja) | 1989-11-02 |
FR2500491A1 (fr) | 1982-08-27 |
CA1189819A (en) | 1985-07-02 |
IT8219427A0 (it) | 1982-02-03 |
US4409082A (en) | 1983-10-11 |
JPS57210998A (en) | 1982-12-24 |
DE3107101A1 (de) | 1982-09-09 |
IE53252B1 (en) | 1988-09-28 |
JPS61198276U (ja) | 1986-12-11 |
AT376463B (de) | 1984-11-26 |
FR2500491B1 (fr) | 1985-07-26 |
IT1149728B (it) | 1986-12-10 |
GB2097427B (en) | 1984-04-18 |
IE820347L (en) | 1982-08-20 |
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