JPS62112760A - シヤドウマスク - Google Patents
シヤドウマスクInfo
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- JPS62112760A JPS62112760A JP25206285A JP25206285A JPS62112760A JP S62112760 A JPS62112760 A JP S62112760A JP 25206285 A JP25206285 A JP 25206285A JP 25206285 A JP25206285 A JP 25206285A JP S62112760 A JPS62112760 A JP S62112760A
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- less
- shadow mask
- grain size
- thermal expansion
- coefficient
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- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(目 的)
本発明はカラーテレビ用受像管に用いられるシャドウマ
スクに関する。
スクに関する。
(従来技術及び問題点)
一般にカラーテレビ受像管用シャドウマスク材には低炭
素リムド冷延鋼板や低炭素A1キルド冷延鋼板が用いら
れているが、最近これらの材料より低熱膨張特性を有し
ているF e −N i系アンバー合金が提案され、工
業上の使用も試みられている。
素リムド冷延鋼板や低炭素A1キルド冷延鋼板が用いら
れているが、最近これらの材料より低熱膨張特性を有し
ているF e −N i系アンバー合金が提案され、工
業上の使用も試みられている。
カラー受像管を動作させた際、シャドウマスクの開孔を
通過する電子ビームは全体の173以下であり、残りの
電子ビームはシャドウマスクに射突してシャドウマスク
は時として80’Cにも達する程に加熱される。 この
際シャドウマスクの熱膨張によって色純度の低下が生じ
るわけであるが。
通過する電子ビームは全体の173以下であり、残りの
電子ビームはシャドウマスクに射突してシャドウマスク
は時として80’Cにも達する程に加熱される。 この
際シャドウマスクの熱膨張によって色純度の低下が生じ
るわけであるが。
F e −N i系アンバー合金の使用によりこの熱膨
張を軽減しようというものである。
張を軽減しようというものである。
しかし、このF e −N i系アンバー合金はプレス
成型性の悪さ、耐共振性の悪さと耐座屈性の悪さという
欠点を持っでおり、実用化の大きな障害となっている。
成型性の悪さ、耐共振性の悪さと耐座屈性の悪さという
欠点を持っでおり、実用化の大きな障害となっている。
そこで2本発明者らはCrを含有させることによりプレ
ス成型性、耐共振性、耐座屈性を改善したF e −N
i −Cr系アンバー合金を発明した。
ス成型性、耐共振性、耐座屈性を改善したF e −N
i −Cr系アンバー合金を発明した。
ところが、このFe−Ni−Cr系アンバー合金はプレ
ス成型性、耐共振性、耐座屈性の点で著しい改善が見ら
れたが、熱膨張係数は従来のFe−Ni系アンバー合金
に比べて若干劣っていた。
ス成型性、耐共振性、耐座屈性の点で著しい改善が見ら
れたが、熱膨張係数は従来のFe−Ni系アンバー合金
に比べて若干劣っていた。
しかるに、最近のカラー受像管の高精細度化が進められ
ている中ではこのような改良型のFe−Ni−Cr系ア
ンバー合金であっても熱膨張係数の低下の不十分さが指
摘される状況にある。したがって、Fe−Ni系アンバ
ー合金、Fe−Ni−Cr系アンバー合金のどちらの合
金を用いても。
ている中ではこのような改良型のFe−Ni−Cr系ア
ンバー合金であっても熱膨張係数の低下の不十分さが指
摘される状況にある。したがって、Fe−Ni系アンバ
ー合金、Fe−Ni−Cr系アンバー合金のどちらの合
金を用いても。
満足できるカラー受像管の製造が実現できていない状態
である。本発明を提示するに当り、これらのFe−Ni
系アンバー合金及びF e−N i−Cr系アンバー合
金の持つ問題点をさらに具体的に述べる。
である。本発明を提示するに当り、これらのFe−Ni
系アンバー合金及びF e−N i−Cr系アンバー合
金の持つ問題点をさらに具体的に述べる。
まず、Fe−Ni系アンバー合金の問題点であるが、第
1はプレス成型性の悪さである。一般にシャドウマスク
の製造は、おおよそエツチングによる穿孔する工程とプ
レス成型性を付与する工程と、その他意化処理等の工程
からなるが、Fe−Ni系アンバー合金はA1キルド鋼
やリムド鋼やF e −N i −Cr系アンバー合金
とは焼鈍軟化特性が異なり2通常の焼鈍では十分に耐力
が低下しないという問題が生じる。その結果、スプリン
グバンクが生じ形状に微妙な狂いを生じるうえに。
1はプレス成型性の悪さである。一般にシャドウマスク
の製造は、おおよそエツチングによる穿孔する工程とプ
レス成型性を付与する工程と、その他意化処理等の工程
からなるが、Fe−Ni系アンバー合金はA1キルド鋼
やリムド鋼やF e −N i −Cr系アンバー合金
とは焼鈍軟化特性が異なり2通常の焼鈍では十分に耐力
が低下しないという問題が生じる。その結果、スプリン
グバンクが生じ形状に微妙な狂いを生じるうえに。
局部的な歪みが残留するため球面成型性が劣ってしまう
。Fe−Ni系アンバー合金の場合、1000℃以上の
高温で焼鈍を行っても耐力は24kg/m2位までしか
低下せず、金型等のプレス条件をいろいろ変えてみても
成型性を向上させることが難しい。工業的に安定してプ
レス成型ができ良好なシャドウマスクを得るためには、
プレス成型前の耐力が20kg/mm2以下であること
が必要とされている。
。Fe−Ni系アンバー合金の場合、1000℃以上の
高温で焼鈍を行っても耐力は24kg/m2位までしか
低下せず、金型等のプレス条件をいろいろ変えてみても
成型性を向上させることが難しい。工業的に安定してプ
レス成型ができ良好なシャドウマスクを得るためには、
プレス成型前の耐力が20kg/mm2以下であること
が必要とされている。
第2は、耐共振性の悪さである。共振現象とはシャドウ
マスクをカラー受像管に組立てた際、スピーカーの音等
の外部振動によりシャドウマスク自体が共振してしまう
現象であり、その結果、シャドウマスクの孔と電子ビー
ムの微妙な位置関係がずれ1色純度の低下につながるも
のである。従来からFe−Ni系アンバー合金は、低周
波数で共振し、また振動の減衰も遅いことが問題となっ
ていたが、その原因は次の2点である。1点目は。
マスクをカラー受像管に組立てた際、スピーカーの音等
の外部振動によりシャドウマスク自体が共振してしまう
現象であり、その結果、シャドウマスクの孔と電子ビー
ムの微妙な位置関係がずれ1色純度の低下につながるも
のである。従来からFe−Ni系アンバー合金は、低周
波数で共振し、また振動の減衰も遅いことが問題となっ
ていたが、その原因は次の2点である。1点目は。
Fe−Ni系アンバー合金のヤング率が低いことで、ヤ
ング率が低いことが共振周波数を低下させている。2点
目は、第1の問題点と共通するところもあるが2球面成
型性が悪いことである。すなわち、Fe−Ni系アンバ
ー合金は、プレス成型性が悪く球面成型性が劣るため、
成型後の球面に局部的な歪が残留し、さらには局部的な
へこみやたるみが生じ、これがマスク全体の振動の減衰
を著しく遅らせる原因となっている。なお、最近の本発
明者らの研究によると、耐共振性にはヤング率よりもむ
しろ球面成型性の方が大きく影響を及ぼすことが確認さ
れている。
ング率が低いことが共振周波数を低下させている。2点
目は、第1の問題点と共通するところもあるが2球面成
型性が悪いことである。すなわち、Fe−Ni系アンバ
ー合金は、プレス成型性が悪く球面成型性が劣るため、
成型後の球面に局部的な歪が残留し、さらには局部的な
へこみやたるみが生じ、これがマスク全体の振動の減衰
を著しく遅らせる原因となっている。なお、最近の本発
明者らの研究によると、耐共振性にはヤング率よりもむ
しろ球面成型性の方が大きく影響を及ぼすことが確認さ
れている。
第3は、耐座屈性の悪さである。座屈というのは特にシ
ャドウマスクが大型の場合に問題とされており、成型後
シャドウマスクの特に中央部がカラー受像管組立て時の
わずかな衝撃や応力でヘタリを生じるものであり、ヤン
グ率が低く、結晶粒が大きいほど座屈しやすい。Fe−
Ni系アンバー合金は耐力の低下を狙うため高温での焼
鈍を行わざるを得す、このため結晶粒が粗大化してしま
い、また上記のようにヤング率も低いので座屈が一層お
こりやすくなっている。
ャドウマスクが大型の場合に問題とされており、成型後
シャドウマスクの特に中央部がカラー受像管組立て時の
わずかな衝撃や応力でヘタリを生じるものであり、ヤン
グ率が低く、結晶粒が大きいほど座屈しやすい。Fe−
Ni系アンバー合金は耐力の低下を狙うため高温での焼
鈍を行わざるを得す、このため結晶粒が粗大化してしま
い、また上記のようにヤング率も低いので座屈が一層お
こりやすくなっている。
次にFe−Ni−Cr系アンバー合金の問題点であるが
、Fe−Ni−Cr系アンバー合金は適切な焼鈍により
耐力は20kg/nii”以下に低下し。
、Fe−Ni−Cr系アンバー合金は適切な焼鈍により
耐力は20kg/nii”以下に低下し。
また、ヤング率もFe−Ni系アンバー合金より高いた
め、プレス成型性、耐共振性とも問題はない。しかし、
Crを含有するため熱膨張係数α、。
め、プレス成型性、耐共振性とも問題はない。しかし、
Crを含有するため熱膨張係数α、。
−1゜。〜3.0〜6.o X 104/’Cとなり、
Fe−Ni系アンバー合金のα、。1、。。〜1.5X
IO”7℃よりも大きくなってしまう。そのため2色純
度は、従来のAlキルド鋼やリムド鋼に比べれば大幅に
向上しているものの、Fs−Ni系アンバー合金に比べ
るとまだ不十分といわざるを得ない。
Fe−Ni系アンバー合金のα、。1、。。〜1.5X
IO”7℃よりも大きくなってしまう。そのため2色純
度は、従来のAlキルド鋼やリムド鋼に比べれば大幅に
向上しているものの、Fs−Ni系アンバー合金に比べ
るとまだ不十分といわざるを得ない。
前述のように今後、さらに高精細度化が進むことが予想
されるので熱膨張係数はα、。−0゜。が3.0×10
4/℃以下であることが呈まれる。
されるので熱膨張係数はα、。−0゜。が3.0×10
4/℃以下であることが呈まれる。
また、上記諸特性の他にシャドウマスクとしてはエツチ
ング性も重要なポイントである。シャドウマスク材は通
常塩化第2鉄を主成分とするエツチング液によりエツチ
ング穿孔され、多数の開孔が設けられるわけであるが、
最近のシャドウマスクの高精細度化が進む中でエツチン
グ速度だけでなく、高度なエツチング穿孔精度も要求さ
れている。
ング性も重要なポイントである。シャドウマスク材は通
常塩化第2鉄を主成分とするエツチング液によりエツチ
ング穿孔され、多数の開孔が設けられるわけであるが、
最近のシャドウマスクの高精細度化が進む中でエツチン
グ速度だけでなく、高度なエツチング穿孔精度も要求さ
れている。
(構 成)
本発明者らは、かかる点に鑑み種々の研究を行った結果
、特定の組成のFe−Ni Cr−C。
、特定の組成のFe−Ni Cr−C。
系合金の微量成分を適正に制御した材料を用いたシャド
ウマスクでかこれらの要求特性を満足することを見出し
た。 すなわち2重量%でC0010%以下、Si0.
30%以下、Al0.30%以下、Mn0.1〜1.0
%、So、020%以下。
ウマスクでかこれらの要求特性を満足することを見出し
た。 すなわち2重量%でC0010%以下、Si0.
30%以下、Al0.30%以下、Mn0.1〜1.0
%、So、020%以下。
00.0100%以下、No、0050%以下。
N i 30〜34%、Cr1.O〜4.0%、C。
2.0〜5.0%、残部Fe及び不可避的不純物からな
るシャドウマスク及び重量%でC0610%以下、Si
0.30%以下、Al0.30%以下、Mn0.1〜1
.0%、So、020%以下。
るシャドウマスク及び重量%でC0610%以下、Si
0.30%以下、Al0.30%以下、Mn0.1〜1
.0%、So、020%以下。
00.0100%以下、No、0050%以下。
Ni30〜34%、Cr1.O〜4.0%、G。
2.0〜5.0%、残部Fe及び不可避的不純物からな
り、結晶粒度が結晶粒度番号で5.0以上であることを
特徴とするシャドウマスク並びに重量%でCo、10%
以下、Si0.30%以下。
り、結晶粒度が結晶粒度番号で5.0以上であることを
特徴とするシャドウマスク並びに重量%でCo、10%
以下、Si0.30%以下。
Al 0.30%以下、Mn0.1〜1.0%、S0
.020%以下、00.0100%以下、No。
.020%以下、00.0100%以下、No。
ooso%以下、Ni30〜34%、Cr1.’0〜4
.0%、Co2.0〜5.0%及びTi、Zr、Mo、
Nb、B、V、Beのうち1種または2種以上を総計で
0.01〜1.0%、残部F9及び不可避的不純物から
なるシャドウマスク及び重量%でCo、10%以下、S
i 0.30%以下。
.0%、Co2.0〜5.0%及びTi、Zr、Mo、
Nb、B、V、Beのうち1種または2種以上を総計で
0.01〜1.0%、残部F9及び不可避的不純物から
なるシャドウマスク及び重量%でCo、10%以下、S
i 0.30%以下。
Al0.30%以下、Mn0.1〜1.0%、So、0
20%以下、00.0100%以下、No。
20%以下、00.0100%以下、No。
0050%以下、Ni30〜34%、Cr1.0〜4.
0%、Co2.0〜5.0%及びTi。
0%、Co2.0〜5.0%及びTi。
Zr、Mo、Nb、B、V、Beのうち1種または2種
以上を総計で0.01〜1.0%、残部Fe及び不可避
的不純物からなり、結晶粒度が結晶粒度番号で5.0以
上であることを特徴とするシャドウマスクに関する。
以上を総計で0.01〜1.0%、残部Fe及び不可避
的不純物からなり、結晶粒度が結晶粒度番号で5.0以
上であることを特徴とするシャドウマスクに関する。
(発明の詳細な説明)
次に本発明における成分の限定理由を述べる。
C;Cが0.10%を超えると熱膨張係数が高くなる。
また、鉄炭化物の生成のためエツチング性が阻害されシ
ャドウマスクに適さない。よってCは0.10%以下と
する。
ャドウマスクに適さない。よってCは0.10%以下と
する。
Si;Siは脱酸目的に添加するものであるが。
0.30%を超えて含有すると合金の硬さを増し。
焼鈍後の耐力の低下が十分でない。よってSiは0.3
0%以下とする。
0%以下とする。
At ;AlもSiと同様に脱酸目的であり。
0.30%を超えて含有すると焼鈍後に十分に低い耐力
が得られない。よってAlは0.30%以下とする。
が得られない。よってAlは0.30%以下とする。
M n ; M nは脱酸目的と熱間加工性を付与する
目的とで添加するが、0.1%より少ないと効果がなく
、1.0%を超えて含有すると熱膨張係数が上昇し、焼
鈍後の耐力の低下も十分でない。よって、その成分範囲
を0.1〜1.0%とする。
目的とで添加するが、0.1%より少ないと効果がなく
、1.0%を超えて含有すると熱膨張係数が上昇し、焼
鈍後の耐力の低下も十分でない。よって、その成分範囲
を0.1〜1.0%とする。
S;Sが高いと硫化物系の介在物を形成し、エツチング
穿孔性を害す。またブラウン管に組み込んだ際、電子線
の照射によりSが飛び出す恐れも生じる。この限界が本
発明合金中では0.020%である。よってその成分範
囲を0.020%以下とする。
穿孔性を害す。またブラウン管に組み込んだ際、電子線
の照射によりSが飛び出す恐れも生じる。この限界が本
発明合金中では0.020%である。よってその成分範
囲を0.020%以下とする。
O;0は本発明合金中においてその多くは非金属介在物
等の酸化物として存在する。0含有量が0.0100%
を超えると内部に非金属介在物が多く存在し、これがエ
ツチング穿孔に際して残存したり、塊状で欠落したりす
るため、孔づまりや孔形状不良を生じるため、エツチン
グ穿孔精度が悪くなる。よってその成分範囲を0.01
00%以下とする。
等の酸化物として存在する。0含有量が0.0100%
を超えると内部に非金属介在物が多く存在し、これがエ
ツチング穿孔に際して残存したり、塊状で欠落したりす
るため、孔づまりや孔形状不良を生じるため、エツチン
グ穿孔精度が悪くなる。よってその成分範囲を0.01
00%以下とする。
NUNが多いと、Crの窒化物が多く形成される。この
Crの窒化が多く存在すると硬さを増し。
Crの窒化が多く存在すると硬さを増し。
同一の焼鈍を施してもシャドウマスクとして適正な特性
まで軟化しない、又、Crの窒化物によりエツチング穿
孔精度が悪くなる。その限界が0゜0050%である。
まで軟化しない、又、Crの窒化物によりエツチング穿
孔精度が悪くなる。その限界が0゜0050%である。
よってその成分範囲をo、0050%以下とする。
Ni;Niが30%より少ないと熱膨張係数が極めて高
くなり、カラーブラウン管の色純度の低下につながる。
くなり、カラーブラウン管の色純度の低下につながる。
Niを34%を超えて含有すると後述するCoの効果が
ほとんどなく、熱膨張係数が小さくならないためその成
分範囲を30〜34%とする。
ほとんどなく、熱膨張係数が小さくならないためその成
分範囲を30〜34%とする。
Cr;Crは焼鈍後の耐力を低下させ、またヤング率を
上昇させる。Crの含有量が1.0%より少ないと耐力
の低下が十分でなく、ヤング率もほとんど上昇しない。
上昇させる。Crの含有量が1.0%より少ないと耐力
の低下が十分でなく、ヤング率もほとんど上昇しない。
Crを4.0%を超えて含有すると熱膨張係数が大きく
なりすぎる。よって。
なりすぎる。よって。
その成分範囲を1.0〜4.0%とする。
Co;Coは熱膨張係数を小さくシ、耐力を上昇させ、
ヤング率を低下させる。Co含有量が2.0%より少な
いと熱膨張係数が大きすぎ。
ヤング率を低下させる。Co含有量が2.0%より少な
いと熱膨張係数が大きすぎ。
5.0%を超えると耐力が高くなりすぎ、ヤング率が低
くなりすぎる。よって、その成分範囲を2.0〜5.0
%とする。
くなりすぎる。よって、その成分範囲を2.0〜5.0
%とする。
Ti、Zr、Mo、Nb、B、V、Be ;これらの元
素はヤング率の上昇及び結晶粒の微細化を目的とし、耐
共振性、耐座屈性を向上せしめる。
素はヤング率の上昇及び結晶粒の微細化を目的とし、耐
共振性、耐座屈性を向上せしめる。
その効果が0.01%以上で現れる。また2合計で1.
0%を超えて含有すると合金が硬度を増し。
0%を超えて含有すると合金が硬度を増し。
その結果焼鈍後の耐力の低下が十分でなく、熱膨張係数
も上昇する。また、エツチング穿孔性も悪くなる。よっ
て、その成分範囲を0.01〜1゜0%とする。
も上昇する。また、エツチング穿孔性も悪くなる。よっ
て、その成分範囲を0.01〜1゜0%とする。
上記のような成分からなるシャドウマスクをエツチング
穿孔によりフラン1〜マスクに加工、プレス成型前に施
す焼鈍において、結晶粒度が結晶粒度番号で5.0より
小さい、つまり粗大粒の場合。
穿孔によりフラン1〜マスクに加工、プレス成型前に施
す焼鈍において、結晶粒度が結晶粒度番号で5.0より
小さい、つまり粗大粒の場合。
成型されたマスクは座屈が生じやすくなる。従って、結
晶粒度を結晶粒度番号で5.0以上とすることにより、
より優れたシャドウマスクが得られる。
晶粒度を結晶粒度番号で5.0以上とすることにより、
より優れたシャドウマスクが得られる。
また、シャドウマスクの製造工程としては、プレアニー
ル法と言われている。焼鈍−エッチング穿孔−プレス成
型なる工程もあるが、このプレアニール法による工程に
おいてでも、結晶粒度が結晶粒度番号で5.0以上にす
ることで耐共振性。
ル法と言われている。焼鈍−エッチング穿孔−プレス成
型なる工程もあるが、このプレアニール法による工程に
おいてでも、結晶粒度が結晶粒度番号で5.0以上にす
ることで耐共振性。
耐座屈性に対して同様に良好な効果を得ることができる
。
。
製造工程として一般法、プレアニール法のどちらを用い
るにしても焼鈍条件は望まれる焼鈍後の耐力と結晶粒度
から決定されるものであるが。
るにしても焼鈍条件は望まれる焼鈍後の耐力と結晶粒度
から決定されるものであるが。
800℃以上の高温で5分以上の焼鈍時間が必要であり
、雰囲気は純水素をはじめとする還元性雰囲気又は真空
雰囲気で酸化を防ぐべく十分に速い冷却速度が必要であ
る。
、雰囲気は純水素をはじめとする還元性雰囲気又は真空
雰囲気で酸化を防ぐべく十分に速い冷却速度が必要であ
る。
次に実施例を示し本発明を説明する。
(実施例)
供試材は真空溶解、鋳造後熱間圧延、酸洗、冷間圧延、
焼鈍、冷間圧延の工程で製造し、板厚0.15rnの冷
延板としたものである。この供試材の成分を第1表に示
す。この冷延板に塩化第2鉄を主成分とするエツチング
液により多数の開孔を設け、この際のエツチング穿孔性
を調査した。
焼鈍、冷間圧延の工程で製造し、板厚0.15rnの冷
延板としたものである。この供試材の成分を第1表に示
す。この冷延板に塩化第2鉄を主成分とするエツチング
液により多数の開孔を設け、この際のエツチング穿孔性
を調査した。
また、エツチング穿孔後のフラットマスクに800〜1
100℃XIO分の焼鈍を行いプレス成型した。焼鈍後
、プレス成型前のフラットマスクの熱膨張係数、結晶粒
度、0.2%耐力、ヤング率を第1表に併記した。さら
に、プレス成型した際の球面成型性及び成型したマスク
の耐共振性、耐座屈性、カラー受像管に組み立てた際の
色むらの発生の有無も第1表に併記した。
100℃XIO分の焼鈍を行いプレス成型した。焼鈍後
、プレス成型前のフラットマスクの熱膨張係数、結晶粒
度、0.2%耐力、ヤング率を第1表に併記した。さら
に、プレス成型した際の球面成型性及び成型したマスク
の耐共振性、耐座屈性、カラー受像管に組み立てた際の
色むらの発生の有無も第1表に併記した。
第1表より明らかな様に本発明例1〜17は全て熱膨張
係数α、。−1゜。が3.0X10”/’C以下であり
、耐力が20kg/mm”以下であり、ヤング率も従来
のF e −N i系アンバー合金に比べ高いため。
係数α、。−1゜。が3.0X10”/’C以下であり
、耐力が20kg/mm”以下であり、ヤング率も従来
のF e −N i系アンバー合金に比べ高いため。
シャドウマスクとしてプレス成型性に優れ、耐共振性、
耐座屈性に問題がなく1色むらが発生せず。
耐座屈性に問題がなく1色むらが発生せず。
また、微量成分を適切にコントロールしているためエツ
チング穿孔性が良好である。
チング穿孔性が良好である。
またt本発明例15〜17については本発明例1〜14
に比べ焼鈍後の結晶粒度が大きいため、シャドウマスク
とした際に耐座屈性がやや劣る。この差は大きくないの
で実用上問題はないが、好ましくは結晶粒度を粒度番号
で5.0以上とするのが望まれる。
に比べ焼鈍後の結晶粒度が大きいため、シャドウマスク
とした際に耐座屈性がやや劣る。この差は大きくないの
で実用上問題はないが、好ましくは結晶粒度を粒度番号
で5.0以上とするのが望まれる。
比較例18はNiが少ないため熱膨張係数が大きく色む
らが発生する。比較例19はNiが34%を超えるため
COの効果がほとんど見られず熱膨張係数が大きく色む
らが発生する。比較例20はCrが少ないため耐力が低
下せずプレス成型性が悪い。比較例21はCrが多いた
め熱膨張係数が大きく色むらが発生する。比較例22は
COが少ないため熱膨張係数が大きく色むらが発生する
。
らが発生する。比較例19はNiが34%を超えるため
COの効果がほとんど見られず熱膨張係数が大きく色む
らが発生する。比較例20はCrが少ないため耐力が低
下せずプレス成型性が悪い。比較例21はCrが多いた
め熱膨張係数が大きく色むらが発生する。比較例22は
COが少ないため熱膨張係数が大きく色むらが発生する
。
比較例23はCOが多いため耐力が高くプレス成型性が
悪い。比較例24はCが高いため熱膨張係数が大きく色
むらの発生があり、また、耐力が高くプレス成型性が悪
く、またエツチング穿孔性が悪い。比較例25,26.
27はそれぞれSi。
悪い。比較例24はCが高いため熱膨張係数が大きく色
むらの発生があり、また、耐力が高くプレス成型性が悪
く、またエツチング穿孔性が悪い。比較例25,26.
27はそれぞれSi。
Al、Mnが高いため、熱膨張係数が大きく色むらの発
生があり、また、耐力が高くプレス成型性が悪い。 比
較例28,29.30はそれぞれS。
生があり、また、耐力が高くプレス成型性が悪い。 比
較例28,29.30はそれぞれS。
0、Nが高いためエツチング穿孔性が悪い。比較例31
.32はそれぞれ添加元素Ti及びM o 。
.32はそれぞれ添加元素Ti及びM o 。
Nbを合計で1.0%を超えて含んでいるため。
熱膨張係数が大きく色むらが発生し、耐力が高くプレス
成型性が悪く、また、エツチング穿孔性が悪い。
成型性が悪く、また、エツチング穿孔性が悪い。
比較例33はF e−N i−Cr系アンバー合金の例
であるが、Coを含まないため熱膨張係数α、。−1゜
。が3.OX 10”/℃を超えており色むらが発生す
る。 比較例34はF e −N i系アンバー合金の
例であるが、かなりの高温の焼鈍を施しても耐力が低下
せず、また、ヤング率も低いためプレス成型性、耐共振
性、耐座屈性に劣っている。
であるが、Coを含まないため熱膨張係数α、。−1゜
。が3.OX 10”/℃を超えており色むらが発生す
る。 比較例34はF e −N i系アンバー合金の
例であるが、かなりの高温の焼鈍を施しても耐力が低下
せず、また、ヤング率も低いためプレス成型性、耐共振
性、耐座屈性に劣っている。
(効 果)
本発明にJ、(づくシャドウマスクから製造したカラー
受像管においては製造性が良好で、エツチング性に優れ
、しかも色純度の低下のない良好なものが得られ、今日
の高精細度化が進む中でシャドウマスク材として著しく
優れたものである。
受像管においては製造性が良好で、エツチング性に優れ
、しかも色純度の低下のない良好なものが得られ、今日
の高精細度化が進む中でシャドウマスク材として著しく
優れたものである。
以下余白
Claims (4)
- (1)重量%でC0.10%以下、Si0.30%以下
、Al0.30%以下、Mn0.1〜1.0%、S0.
020%以下、O0.0100%以下、N0.0050
%以下、Ni30〜34%、Cr1.0〜4.0%、C
o2.0〜5.0%、残部Fe及び不可避的不純物から
なるシャドウマスク。 - (2)重量%でC0.10%以下、Si0.30%以下
、Al0.30%以下、Mn0.1〜1.0%、S0.
020%以下、O0.0100%以下、N0.0050
%以下、Ni30〜34%、Cr1.0〜4.0%、C
o2.0〜5.0%、残部Fe及び不可避的不純物から
なり、結晶粒度が結晶粒度番号で5.0以上であること
を特徴とするシャドウマスク。 - (3)重量%でC0.10%以下、Si0.30%以下
、Al0.30%以下、Mn0.1〜1.0%、S0.
020%以下、O0.0100%以下、N0.0050
%以下、Ni30〜34%、Cr1.0〜4.0%、C
o2.0〜5.0%及びTi、Zr、Mo、Nb、B、
V、Beのうち1種または2種以上を総計で0.01〜
1.0%、残部Fe及び不可避的不純物からなるシャド
ウマスク。 - (4)重量%でC0.10%以下、Si0.30%以下
、Al0.30%以下、Mn0.1〜1.0%、S0.
020%以下、O0.0100%以下、N0.0050
%以下、Ni30〜34%、Cr1.0〜4.0%、C
o2.0〜5.0%及びTi、Zr、Mo、Nb、B、
V、Beのうち1種または2種以上を総計で0.01〜
1.0%、残部Fe及び不可避的不純物からなり、結晶
粒度が結晶粒度番号で5.0以上であることを特徴とす
るシャドウマスク。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25206285A JPS62112760A (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 | シヤドウマスク |
DE19863636815 DE3636815A1 (de) | 1985-11-12 | 1986-10-29 | Schattenmaske und verfahren zur herstellung von schattenmasken |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25206285A JPS62112760A (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 | シヤドウマスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62112760A true JPS62112760A (ja) | 1987-05-23 |
Family
ID=17232024
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25206285A Pending JPS62112760A (ja) | 1985-11-12 | 1985-11-12 | シヤドウマスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62112760A (ja) |
-
1985
- 1985-11-12 JP JP25206285A patent/JPS62112760A/ja active Pending
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