JPS6197467A - 添加物の移行防止効果にすぐれた繊維構造物及びその製造方法 - Google Patents

添加物の移行防止効果にすぐれた繊維構造物及びその製造方法

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JPS6197467A
JPS6197467A JP21234784A JP21234784A JPS6197467A JP S6197467 A JPS6197467 A JP S6197467A JP 21234784 A JP21234784 A JP 21234784A JP 21234784 A JP21234784 A JP 21234784A JP S6197467 A JPS6197467 A JP S6197467A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は摩擦堅牢度、昇華堅牢度、耐光堅牢度、洗濯堅
牢度、染料移行昇華防止効果、添加物のブリードアウト
防止効果等がすぐれた繊維構造物及びその製造方法に関
するものである。
〈従来の技術〉 従来から繊維の改質又は染色の目的で繊維中に添加物を
入れることはυろく行なわれているが、その際に用いる
添加物が繊維と相溶性が悪ければ悪いほど、繊維表面齋
ζブリードアウトしてきて製品の消背性能を低下させる
という問題点があった。
例えばポリエステルの分散染料による染色物は濃色6ζ
なればなる(Jど、また染料の分子量が小さければ小さ
いほど染料が繊維表面に移行しやすく、乾燥時あるいは
湿潤時の摩擦堅牢度、昇華堅牢度が低下し、汚染、変退
色が問題となっている。
また染色物にウレタン、シリコン等のコーティングを(
Jとこした製品の場合、染料はコーティング樹脂と相溶
性が大きいため、時間が経つ1ζつれて樹脂中に溶は出
して春色しtコ状態となり、コーテイング物に色移りし
たり、汚染したりするという問題を生じさせる。
Jた制電性等をイ」与させるtこめにポリエステル中に
ポリエチレングリコール等を練込み制電性糸を製造する
技術があるが、ポリエチレングリコールとポリエステル
は比較的相溶性が悪く繊維表面にブリードし、製品の耐
光堅牢度等を低下させる。
ブリードを防止するtこめに芯部に制電性ポリマー鞘部
番とレギュラーポリマーを配した芯鞘複合糸にしても鞘
部へのブリードは生じ問題の解決には今−歩至っていな
い。
まtこセルロース系繊維、Tことえば直接染料により染
色されたレーヨンは湿潤時の摩擦堅牢度が悪く、木綿は
洗濯による色落ちが大きい。これらの現象はいずれも、
繊維中に添加された物質が繊維基質ポリマーと反応する
ことはなく繊維との相溶性の悪いtこめに、繊維表面に
ブリードアウトするものである。
コーテイング物の移行汚染を防止する方法として、例え
ば特開昭59−82469があるが、この方法は染色物
にメラミン系の樹脂により架橋膜を形成するもので、樹
脂塗布−乾燥一熱キュアと工程が複雑でしかも製品の風
合を変化させる。
また特開昭59−106588には染色物を仕上加工剤
処理後に低温プラズマ処理し摩擦堅牢度及び加工剤の洗
濯耐久性を上げることが述べられているが、この方法に
よる改善効果は才ことに少なく、しかも工程が複雑であ
る。この技術は繊維基質を架橋させることなく、仕上加
工剤を架橋させるのが目的であり、例えば加工剤中に架
橋剤等が含まれていればプラズマによる架橋効果は少な
く、ある場合にはプラズマにより架橋構造をこわす場合
もある。このような点でこの技術は本発明と区別される
また低温プラズマ処理にJり塩ビ表面を架橋させ可塑剤
のブリードアウトを防止する技術は従来公知であるが、
ポリエステルやセルロース系繊維を低温プラズマにより
架橋させた例はなく、架橋するということ自体知られて
いなかった。さらにこれらの架橋膜が繊維内添加物の移
行防止に有効であることもまったく想像さへできなかっ
た。
〈発明が解決しようとする問題点〉 本発明者等はポリエステル及びセルロース等の低温プラ
ズマによる架橋を長年にわたり研究した結果、繊維基質
自体で架橋が、ある限られた低温プラズマの条件でのみ
おこり、さらに架橋物の中でも添加物の移行防止効果に
有効なのはその中の特定の範囲の架橋構造のみであるこ
とを発見した。
即ち、本発明は添加物のブリードアウト防止を、工程が
簡単で製品の風合等の変化なく、かつ充分耐久効果があ
るように得んとするもので、繊維基質の架橋により上記
目的を達せんとするものである。
く問題点を解決するための手段〉 即ち本発明は、 「l 繊維構造物の少なくとも片面に位置する該構造物
最表面の繊維の1部以上が低温プラズマ処理により、薄
膜状の架橋構造を有していることを特徴とする添加物の
移行防止効果にすぐれた繊維構造物。
2 架橋構造の重量比率が繊維構造の重量に対して0.
001〜5.0%であることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の繊維構造物。
31繊維構造物を構成する繊維がポリエステルである特
許請求の範囲第1項及び第2項記載の繊維構造物。
4 繊維構造物を構成する繊維が天然セルロース又ハ再
生セルロースである特許請求の範囲第1項及び第2項記
載の繊維構造物。
5 添加物が分散染料あるいは直接染料である特許請求
の範囲第1項及び第2項記載の繊維構造物。
6 添加物が−((CH2)、n−□九の構造を分子中
に含有する特許請求の範囲第1項及び第2項記載の繊維
構造物。
7 架橋膜を有する繊維構造物が樹脂を有する特許請求
の範囲第1項及び第2項記載の繊維構造物。
8 繊維構造物の少なくとも片面を低温プラズマ処理し
、繊維構造物最表面の繊維の1部以上番ζN膜状の架橋
構造を形成させるに際し、重合性を有しない無機ガスに
より真空度Pを0.01≦P≦5.0 Torr、電極
間距離dを1≦d≦10Cm。
両番の槓R(Iを0.05 <P・d < 5 (’I
’orr X cm)、 プラズマ出力を0.1〜5ワ
ット/cm2、処理時間を5〜300秒にて、内部電極
方式の処理機により処理することを特徴とする添加物の
移行防止効果にすぐれたmN構造物の製造方法。
91繊維構造物の染色後に低温プラズマ処理を行なう特
許請求の範囲第8項記載の繊維構造物の製造方法。
10  繊維構造物の一部が分散染料で染色されたポリ
エステル又はIM接染料で染色された天然セルロースあ
るいは合成セルロースより構成された特許請求の範囲第
8項記載の繊維構造物の製造方法。
11  低温プラズマ処理後に樹脂加工を行なう特許請
求の範囲第8項記載の繊維構造物の製造方法。
12  低温プラズマ処理を缶体に対して絶縁された非
接地式電極にて行なうことを特徴とする特許請求の範囲
第8項記載の繊維構造物の製造方法。」に関するもので
ある。
本発明の繊維構造物とは、天然繊維、再生mHk、合成
繊維、半合成繊維、あるいはこれらの組合さったものか
らなり、ステープJペフィラメント等を問わず、繊維よ
り構成された織・編物、不織布、シート状等の構造物を
言う。
プラズマ処理は必要に応じて構造物の片面のみ、あるい
は両面、あるいは部分的に行なうことができる。
繊維構造物の内部の繊維表向は、通常、プラズマによる
処理はされにくく、構造物の最表面に位置する繊維のさ
らに最表面の1部以上が処理されれば本発明の目的は十
分に達せられるもので、従って本願で、構造物最表面の
繊維の1部以上とは、上記のことを指すものである。
低温プラズマ処理は繊維構造物の染色前あるいは染色後
のいずれでもよいが、染色時の均染性から宮うと染色後
の方が望ましい。
次に本発明の低温プラズマについて述べる。
プラズマは高温プラズマと低温プラズマの2つに分類さ
れるが、本発明で言うプラズマは低温プラズマをさす。
低温プラズマは放電中で生成されるプラズマが平均電子
エネルギー]0eV(10〜105K )、電子密度1
0″〜1012cm−3で特徴づけられると同時に、電
子温度とガス温度との間に平衡が成立しない出に、非平
衡プラズマとも言われる。
放電では生成されるプラズマ中には電子、イオン、原子
、分子等が混在している。
低温プラズマは、真空度0.001〜50 Torr 
 の系の中にガスとしてアルゴン、チッ素、水素、酸素
、空気、−酸化炭素、二酸化炭素等を連続的に系内に導
入し、電極間に電圧をかけることにまり生ずる。ガス種
類は処理目的1こより選択される。
電圧をかける電源としては任意の周波数のものが使用で
きる。放電の持続性及び均一性から言うと1 jGlz
 〜10 GHzが望才しい。また電極の巾方向のプラ
ズマ均一性から言うとI KHz〜I MHzが好菫し
く、I MJlz以上6どなると電極の長さが1mをこ
えると長さ方向に処理斑が生じやすい。また100H7
以下は!極のエッチ効果が生じやすく、エッチ部分でア
ーク放電が生じやすい。また電流としては交流、直流、
バイアスをかけた交流、パルス波等が使用できる。電極
は真空系内に配置された内部電極方式と真空系外に配置
された外部電極方式とにわかれるが、外部電極方式は装
置が大型化すると、特に被処理物表面にプラズマが移動
している間に活性を失なったり、プラズマが散乱しプラ
ズマ濃度が希釈されるため処理効果が少ない。一方円部
電極方式は被処理物の近くに放電電離を設置させること
が可能なため、外部電極方式に比較すると処理効果は大
きい。
vlL極形状は対称と非対称にわけられる。被処理物の
処理中が大きく、従って大きな電極が必要となる大型の
プラズマ処理装置の場合は対称電極の方がデメリットが
多い。例えば、大きな電極間にガスを均一に流すことは
IJとんど不可能に近く、さらに大きな電極の端部が電
界が乱れたりして、処理斑が生じやすい。そのため大型
のプラズマ処理装置の場合は、非対称電極が好Jしいこ
とがわかった。被処理物は前記電極間の任慈の位置にセ
ットし移動させることができるが、−万の電極に接した
方かしわ発生が少なく処理効果が大きい場合がある。
被処理物が接触しない側の電極の形状としては円柱状の
もの、あるいは鋭角な断面を有する断面多角形の棒状の
もの等を1本以上任意に選定できるが、電極本数によっ
ても処理効果は異なり、少なすぎると処理効果は小さく
なる。形状は円柱状のものが好ましい。また被処理物が
接触する可能性のある側の電極の形状としては、ドラム
状のもの、あるいは板状のもの、あるいはそれら変形形
状のもの等を用いることができるが、その形状もその組
合せもこれらに限定されるものではない。
また電極の材質はステンレス、銅、鉄、アルミニウム等
の金属が使用でき、必要に応じてガラス、セラミックス
等でコーティングしてもよい。当然必要に応じてこれら
のft極は水冷されてもよく、冷却温度は被処理物によ
って適宜選ばれる。冷却水は、できる限り不純物の少な
い水が望ましいが、これら不純物による電気漏洩がさほ
ど開鎖にならない場合には特にこの限りではない。
次に真空系に導入するガスは、真空ポンプ6ζよる排気
口より、なるべく遠くに供給口をつけて必要に応じて分
配しながら導入すべきである。これは真空系内でのガス
のショートパスをさける意味で重要であると同時に、被
処理物の処理斑を生じさせないためにも重要である。
低温プラズマを生じさせる真空度としては、通常0.0
01〜50 ’I”orrが用いられるが、本発明者等
の検討結果によると0.01〜5.0Torrが望才し
い。
真空度が0.011!orr以下ζどなるとイオン、電
子の平均自由工程は大きくなり加速粒子のエネルギーは
増大するが、被処理物へ到達する加速粒子個数の総数が
少なく、処理効率はやや低くなる。しかも大型の処理室
をガスを導入しながら0.01 Torr以下に保つに
は非常に排気量の大きい真空ポンプが必要となり、設備
コストから考えても望沫しいものでない。真空度がs 
Torr以上になると、イオン、電子等の平均自由工程
は小さくなり、加速粒子のエネルギーは小さくなり、加
速粒子個数の総数は多いにもかかわらず処理効率は低く
なる。
このまうに考えていくと、加速粒子の平均自由工程、言
いかえると荷電粒子が電界によって加速される距離及び
加速粒子の個数を決定する真空度Pと加速粒子がそのエ
ネルギーあるいは活性を失なうことなく被処理的に到達
できる確率を決定する高電圧側電極と接地側電極の電極
間距離dとの間には何らかの最適な関係が存在すること
が考えられる。この点について検討した結果、1≦d≦
10 (cm)で、か−) 0.05 < P−d <
 5 (Torr×cm )を満足する真空度と電極間
距離番でおいて、もつとも処理効率が良いことが判明し
た。つ才り圧力の高い場合はdを小さく、圧力が低くな
るとdを大きくとると処理効率は良好であった。
さらに電極間に配置する繊維構造物の相対的な位置につ
いては前にも述べたが、一方の電極に接触して配置させ
るのが一般的には処理効率は良い。
また構造物に張力をあ猿りかけたくない場合や、構造物
にシワを入れたくない場合は、構造物と電極が一緒に移
動できるタイプのもの、例えばドラム電極上に構造物を
接触させて配置し、ドラムを回転させながら構造物を移
動させるようなものが望ましい。実際微少なシワが処理
斑を引きおこすことがよくある。張力やシワにあ才り注
意をはられなくてよい場合には、例えばプレート電極上
に構造物を接触して配置し、構造物を電極上を滑らせて
走行移動させてもよい。当然片面処理後さらに電極を構
造物に対して逆配置した所を通せば両面処理が可能とな
る。通常の場合、片面のみの処理効果で十分な場合が多
いのでこのタイプが処理効率から直っても望葦しい。し
かしどうしても両面の処理効果を1対の電極のみで得よ
うとすれば両電極間の間の位置に繊維構造物を配置し、
構造物を走行移動させればよい。この場合は、電極に接
して配置した場合に比較して処理効果は一般的に小さく
なる。この現象を放電特性から考えてみると、両電極間
の電圧降下特性で説明できる。両電極間の電圧降下特性
は、低電圧側電極伺近がもつとも大糎<、次いで高電圧
側であり、両[極の中間刊近の電圧降下は少ないと言わ
れており、この電圧降下がすなわち電界の強さに比例し
ており、電圧降下の大きい部分の方が荷電粒子により大
きなエネルギーを与えることができるからであろう。
直流方式の場合は、低電圧側電極と高電圧側電極とが容
易に決定されるが、交流方式の場合は、低電圧側と高電
圧側とが時間的に入れかわるため、低電圧側電極と高電
圧側電極とを区別して言えない。しかしいずれにしろ電
極に近いIJど電圧降下が大きく処理効果は大となると
考えられる。
次に処理の均一性の面から言うと、両電極は平行に保持
される必要があり、しかも被処理繊維構造物質の進行方
向に直角に配置されt【ければならない。この条件が満
足されないと、構造物の巾方向に処理斑を生じさせるこ
とになる。
さらに両電極の巾は被処理繊維構造物の1]より少なく
とも5Cm以上長くしておく必要がある。これは電極の
端部の電界不均一性を除くためである。
この長さが5cIn以下になると構造物の巾方向、特に
両サイドが中央付近と比較して処理効果が異なり好まし
くない。
本発明で言う構造物が移動するということは、この装置
が連続的に大気にある繊維構造物を真空系内に移動し処
理できるもの及び繊維構造物が予備真空系内に配置され
処理室に移動できるもの、さらには処理室内に繊維構造
物が間仕切りして配置されてるもの等を言うが、要する
に繊維構造物が連続的に移動できるものであればよい。
プラズマ出力は放電部分に作用する出力として0.1〜
5ワツ開が望才しい。この場合、放電部面積としては、
放電部に存在する繊維構造物の面積、あるいは対電極の
どちらかの表面積でプラズマ放電部出力の値を割った場
合にどれかの数値が0.1〜5ワツト、dになればよい
。放電部出力は放電部の電圧、電流を測定すれば容易に
算出できるが、一つの目安としてプラズマ電源の出力の
30〜70%と考えてもよい。プラズマ出力が0.1ワ
ツ)/c−d以下の場合架橋処理に時間がかかるし、架
欄膜の厚さも十分ではない。プラズマ出力が5ワット肩
以上になるとやや放電が不安定になり、架橋以外にエツ
チングもおこりやすくなる。架橋のみを行なう場合は、
プラズマ出力0.1〜5ワツト/ c4で酸素を含まな
いガス(例えば、アルゴン、−酸化炭素等)が望ましい
。また架橋とエツチングを同時に行ないたい場合は酸素
を含むガス(例えば、酸素、空気等)が望才しい。しか
し架橋そのものは非重合性無機ガスであればどの場合も
おこる。
処理時間は5〜300秒程度が望ましいがこの範囲に必
ずしも限定されるものでない。5秒未満の処理では架橋
密度がやや低く、300秒を越えると架橋密度は十分で
あるが、やや表面が硬くなったり、もろくなって繊維本
来の性質とちがってくる場合がある。処理時間はプラズ
マ出力との関係から言うとプラズマ出力が大きい場合は
当然処理時間は短かくすることが可能であるが、セルロ
ース系のようにエツチング処理されやすい繊維構造物の
場合は、比較的低出力で長時間処理、ポリエステルのよ
うにエツチングされにくい繊維構造物の場合は、扁出力
で短時間処理が望ましい。
また本処理発明について、放電電極及びその放電回路が
接地された缶体より絶縁され、しかも非接地状態である
ことについて述べる。
従来の低温プラズマ発生装置を模式的に描くと第1図の
ごとくになる。ここで1は繊維構造物、2.3はrit
!iIi、 4は電諒、5は缶体(金属)、6はトラン
スである。装置が大型化すると缶体はステンレス等の金
属番どなるが、この場合構造物と接触している電極電位
及び缶体の電位が大地の電位と同電位であるTこめ、缶
体も電極として作用し放電は缶内全面に及ぶ。このため
構造物に作用するプラズマは少t1′<、放電電力も非
常に多く必要となる。効率を上げるために放電電力を上
げれば上げるほど放電電流が缶体に流れ、構造物と接触
している電極を通して流れる電流の割合は減少してくる
。このtこめプラズマは有効1ζ利用できす、所定の処
理効果を得るtコめの放電電力費用が非常にかかり、ラ
ンニングコストも―く、しかも処理時間を長くする必要
から装置の小型化は困難で設備費用が縄くなり、工業的
に巾1m以上の繊維構造物処理には採用され6ζくいも
のであった。
本発明者らはプラズマの有効利用を長年にわたり研究し
模式的に描くと第2図のような装置を開発しtコ。符号
は第1図の場合と同じである。即ち本方式の特徴は放電
電極及び放電回路が、接地された缶体から絶縁され、し
かも非接地状態となっていることである。この場合は構
造物と接触している電極電位と缶体の電位(接地しであ
るので大地電位)は異なり、缶体が電極として作用する
ことはなく、放電は両電極間内で主Eζおころ。そのた
めプラズマは有効に希釈されることなく構造物に作用し
処理効果は著しく上ると同時−ど、少ない放電電力で処
理効果は第1図の方式に比較して著しく大きく、短時間
の処理で所定の効果が得られるため、装置の小型化、言
いかえると設備費用も少なくてよく、しかも放電電力が
少なくてすむjこめランニングコストも数分の1程度ζ
どなる。
薄膜状の架橋構造とは、繊維表面の一部が1〜103m
μの厚さにわたって架橋状態になっておればよい。この
架橋したかどうかを調べるには繊維の溶媒により溶解テ
ストを行なえばただちにわかる。
例えばポリエステルの場合であれば、トリフルオロ酢酸
等夢と溶解すれば架橋部は完全こと溶解せずδζ不溶物
となる。ただ不溶物が薄膜状である必要はない。またレ
ーヨンの場合であれば、銅アンモニア溶液等が使用でき
る。このように本発明で言う架橋構造とは、ポリマー溶
媒に完全に溶けr【い構造を有しているということであ
る。
添加物とは、繊維形成ポリマーと反応していなければよ
く、繊維に添加する時期は、モノマー中、ポリマー作成
時、紡糸又は延伸時、又はその後の加工工程中いずれの
時期でもよい。添加物としてはポリマーと相開性が悪く
、光、熱、あるいは水、又は経時的に繊維表面に移行し
やすいものが本発明の効果が大きい。例えばポリエステ
ル中に練込才れたポリエチレングリコール等、又はポリ
エステルの染色に使用される分散染料、あるいはレーヨ
ンの染色に使用される直接染料等がある。
これらの添加物は繊維構造物最表面の繊維の緻密な架橋
構造の1コめ、構造物最表面に移行することができなく
なり、製品の消費性能の低下や物性低下を防止できる。
架橋構造の重量比率はあ沫り尚くなりすぎると繊維表面
の特性が本来のものと異なるし、操業的ζζはコストア
ップにつながり好ましくない。また低くすぎると本発明
の移行防止効果が小さくなり好ましくなく、検討結果と
して、繊維構造の重量に対して0.OQ 1〜5.0%
、さらに好ましくは0.05〜i、O)−nであった。
本発明で言うポリエステルとは、テレフタル酸、イソフ
タル酸、ナフタリン−2,6−ジカルボン酸などの芳香
族ジカルボン酸、フタール酸、アジピン酸、セバシン酸
などの脂肪族ジカルボン酸またはこれらのエステル類と
エチレングリコール、ジエチレングリコール、1−4−
ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ジクロルヘ
キサン−1゜4−ジメタツールなどのジオール化合物と
から合成されるポリエステルであり、特に反復構造単位
の80%以上がエチレンテレフタレート単位であるポリ
エステルが好ましい。また上記ポリエステル成分にポリ
アルキレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリト
ール、メトキシポリアルキレングリコール、ビスフェノ
ールA、スルホイソフタル酸などを共重合したものある
いは艶消剤、熱安定剤、顔料等を混合したものでもよい
。Jだポリエステル系繊維とは、短繊維であるか長繊維
であるかはもちろん問わないし、ポリエステル系と他繊
維のコンジュゲート、芯鞘繊維、あるいは多芯芯鞘繊維
等をも意味するものである。
本発明で言う天然セルロースとは、綿、麻等を言い、再
生セルロースとはビスコース・レーヨン、キュプラ、ポ
リノジック等を言う。
またこれまでの説明で当然理解されるように、低温プラ
ズマ処理後に通常の樹脂加工を行なってもよい。樹脂加
工とは親水、制電、吸汗、吸湿、溌水、風合調節、防融
、抗ビル、難燃等各種あるが、どの加工でもよい。しか
し本特許の効果が特に著しく大きいのは、樹脂としてウ
レタン、シリコン系を使用する場合である。前述したよ
うにポリエステルとウレタンの組合せの場合などは、染
料移行が非常に激しく Ifとんど商品としての価値が
ないような場合でも本発明の低温プラズマ処理により染
料移行は完全になくなる。
またー((CH2)n1’九 とは、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール等を構造中に有する化合物を言う。但しm
、ni、を整数である。
く実 施 例〉 以下実施例にしたがってさらに詳細に説明する。
但し実施例及び比較例の各表中の各堅牢度の測定方法は
下記の様式にて行なった。
染料移行昇華性 :  JIS  L−0854昇華堅
牢度   :  JIS  L−0850摩擦堅牢度 
  :  JIS  L−0849洗濯堅牢度   :
  JIS L−0844耐光堅牢度   :  JI
S  L−0841判定は級判定により5段階評価を行
なった。但し級判定数字の○印はその数字により近いこ
とを示す。また各種ポリマー及び繊維は常法によって得
たものであり、これらを平織物にして加工及び染色を行
なった。才たプラズマ処理は繊維構造物の片面のみ行な
い、処理面の各堅牢度を測定した。
当然必要に応じて両面処理を行なえば表、躾とも同様の
傾向を有することがわかる。
第1表において、比較例A1〜A3、実施例A1〜A2
8にポリエチレンテレフタレート繊維構造物の各種プラ
ズマ条件における染料移行昇華堅牢度を示す。
実施例A1〜A5はプラズマの放電出力変化の結果であ
るが、出力の増加とともに架橋電量%も増加し、染料移
行昇華堅牢度が比較例A−1に比べ大巾に向上している
ことがわかる。
実施例A−2及びA−6〜A−11はプラズマ処理時間
を変化させた結果であるが、プラズマ処理時間の増加と
ともに架橋物の重置%も増加し、染料移行昇華堅牢度が
比較例A−1に比べ大巾に向上していることがわかる。
ただA−11は風合、外観が比較例A−1に比べやや変
化していfコ。この変化の艮し悪しは個々の観察者に左
右されるものであった。
実施例A−12〜A−14は電極間龍離d1と真空度P
 Torrを変化させた例であるが、0.05<P−d
 < 5 Torr cmを満足しているため比較例A
−1に比べ染料移行昇華堅牢度は向上している。
実施例A−15〜A−17はガスを一酸化炭素、空気、
酸素で行なった例であるが、染料移行昇華堅牢度は向上
していた。またA−17は比較例A−1に比べ濃色とな
った。
実施例A−18、A−19は放電形式を接地式にしてプ
ラズマ放電した例であるが、実施例A−2、A−4と比
較すると架橋物が少1(<、堅牢度向上効果もやや少な
いが比較例A−1に比較するとやはり大1]に向上して
いた。
実施例A−20はプラズマ処理後に染色をした例である
が、染色後プラズマ処理と同様に堅牢度は同上していた
実施例A−22〜A−26はプラズマ処理後に乾式ポリ
ウレタンをコーティングした例であるが、比較例A−1
、A−2と比べやはり大巾に染料移行昇華堅牢度が同上
している。
実施例A−27、A−28はプラズマ処理後にシリコン
のエマルジョンを伺看させた例であるが、比較例A−1
、A−3に比べやはり大巾に堅牢度が向上していた。
第2表ζζおいて、比較例B−1,B−2、実施例B−
1−B −6にポリブチレンテレフタレート繊維構造物
のプラズマ処理時間を変化させた場合の昇華堅牢度の結
果を示す。繊維構造物にウレタン樹脂加工を行なわない
場合と、行f【っだ場合のテストを実施したが、いずれ
の場合も比較例13−1、B−2に比べて大巾な昇華堅
牢度の向上があった。また架倫物の重欺%は0.08〜
22%の範囲であった。
比較例B−3、実施例B −7〜B−12にレーヨン繊
維構造物のプラズマ放電出力と処理時間を変化させた時
のウェットのg原堅牢度の結果を示す。レーヨンの場合
は、比較的低出力の領域で処理時間を長くとった方が有
利である。ウェットの摩擦堅牢度は比較例B −3に比
べ向上している。
B−12はプラズマ処理後に寸法安定性を伺与するため
に樹脂加工をCJどこしたものであるが、摩擦堅牢度及
び寸法安定性が単なる樹脂加工のみより向上していた。
比較例B−4、実施例B−13〜B−17は木綿繊維構
造物を芒硝の存在下で染色した物のプラズマ処理Cζよ
る洗濯堅牢度の結果である。レーヨンの場合と同様に低
出力プラズマが有効であり、汚染、変退色とも向上して
いた。
比較例B−5、実施例B−18はポリエチレンテレフタ
レートとレーヨン混繊からなる繊維構造物を反応染料1
)iacron Black B 10 owf%、と
分散染料1ζて染色し、プラズマ処理した場合の昇華堅
牢度の結果を示した。プラズマ処理品は昇華堅牢度の汚
染、変退色とも向上していた。
第3表において、比較例C−1、実施例C−1〜c −
6はポリエチレンテレフタレート繊維構造物にポリエチ
レングリコールを4wt%含有する織物を黒濃色に染色
し、プラズマ処理の時間を変更させた場合の耐光堅牢度
の結果である。
処理秒数2秒の0−1は堅牢度の向上効果がやや少ない
が、5秒から300秒のものはいずれも大巾に向上した
比較例C−2、実施例0−7はナイロン6jζポリエチ
レングリコールを6wt%含有させた繊維構造物である
が、プラズマ処理1ζより耐光堅牢度は向上していた。
特開昭11i1−97467(13)
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の低温プラズマ発生装置の模式図、第2図
は非接地方式の低温プラズマ発生装置の模式図である。 また第3図及び第4図は非接地式低温プラズマ方法を実
施する装置例の概略図である。 1  ・・・・・・・・・繊維構造物(被処理物)2.
3・・・・・・・・・電極 4  ・・・・・・・・・電  源 5 ・・・・・・・・・缶 体

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 繊維構造物の少なくとも片面に位置する該構造物最
    表面の繊維の1部以上が低温プラズマ処理により薄膜状
    の架橋構造を有していることを特徴とする添加物の移行
    防止効果にすぐれた繊維構造物。 2 架橋構造の重量比率が繊維構造の重量に対して0.
    001〜5.0%であることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の繊維構造物。 3 繊維構造物を構成する繊維がポリエステルである特
    許請求の範囲第1項及び第2項記載の繊維構造物。 4 繊維構造物を構成する繊維が天然セルロース又は再
    生セルロースである特許請求の範囲第1項及び第2項記
    載の繊維構造物。 5 添加物が分散染料あるいは直接染料である特許請求
    の範囲第1項及び第2項記載の繊維構造物。 6 添加物が−((CH_2)_m−O)−_nの構造
    を分子中に含有する特許請求の範囲第1項及び第2項記
    載の繊維構造物。 7 架橋膜を有する繊維構造物が樹脂を有する特許請求
    の範囲第1項及び第2項記載の繊維構造物。 8 繊維構造物の少なくとも片面を低温プラズマ処理し
    、繊維構造物最表面の繊維の1部以上に薄膜状の架橋構
    造を形成させるに際し、重合性を有しない無機ガスによ
    り真空度Pを0.01≦P≦5.0Torr、電極間距
    離dを1≦d≦10cm、両者の積P・dを0.05<
    P・d<5(Torr×cm)プラズマ出力を0.1〜
    5ワット/cm^2、処理時間を5〜300秒にて、内
    部電極方式の処理機により処理することを特徴とする添
    加物の移行防止効果にすぐれた繊維構造物の製造方法。 9 繊維構造物の染色後に低温プラズマ処理を行なう特
    許請求の範囲第8項記載の繊維構造物の製造方法。 10 繊維構造物の一部が分散染料で染色されたポリエ
    ステル又は直接染料で染色された天然セルロースあるい
    は構成セルロースより構成された特許請求の範囲第8項
    記載の繊維構造物の製造方法。 11 低温プラズマ処理後に樹脂加工を行なう特許請求
    の範囲第8項記載の繊維構造物の製造方法。 12 低温プラズマ処理を缶体に対して絶縁された非接
    地式電極にて行なうことを特徴とする特許請求の範囲第
    8項記載の繊維構造物の製造方法。
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