JPS6195390A - 図形エレメント検出方式 - Google Patents
図形エレメント検出方式Info
- Publication number
- JPS6195390A JPS6195390A JP59216963A JP21696384A JPS6195390A JP S6195390 A JPS6195390 A JP S6195390A JP 59216963 A JP59216963 A JP 59216963A JP 21696384 A JP21696384 A JP 21696384A JP S6195390 A JPS6195390 A JP S6195390A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はラスタスキャン形表示装置において、図形デー
タメモリに格納されている複数Ｏ図形エレメントデータ
に対し、外部からこれらに関連したマーカ位置を設定し
、図形エレメントの検出を行なった場合、マーカ位置に
近い順序で高速に検出する図形エレメント検出方式に関
するものである。
タメモリに格納されている複数Ｏ図形エレメントデータ
に対し、外部からこれらに関連したマーカ位置を設定し
、図形エレメントの検出を行なった場合、マーカ位置に
近い順序で高速に検出する図形エレメント検出方式に関
するものである。
従来、後述する実施例＋２）ｇ２図で説明するように、
表示すべき複数の図形エレメントデータを図形デーモノ
七すに格納しておき、その図形デーモノ七すから読出し
た図形エレメントデータを図形発生ｎ路により、図形ベ
クトル１１文字別に画像メ毎りをアクセス表示するラス
タスキャン形表示装置が用いられる。この場合、複数の
図形エレメントのうちの１つを消去したり、他の位置に
移動させた〉、所定位置に新しい図形エレメントを挿入
したシして特定の目的に応じ編集するような場合、関連
する複数図形エレメントに対し、外部の座標検出装置に
よシ所定位置に！−力を設定し、さら（マーカを中心と
する一定すイズの指定領域内に含まれる図形エレメント
Ｏ検出が行なわれて−た。
表示すべき複数の図形エレメントデータを図形デーモノ
七すに格納しておき、その図形デーモノ七すから読出し
た図形エレメントデータを図形発生ｎ路により、図形ベ
クトル１１文字別に画像メ毎りをアクセス表示するラス
タスキャン形表示装置が用いられる。この場合、複数の
図形エレメントのうちの１つを消去したり、他の位置に
移動させた〉、所定位置に新しい図形エレメントを挿入
したシして特定の目的に応じ編集するような場合、関連
する複数図形エレメントに対し、外部の座標検出装置に
よシ所定位置に！−力を設定し、さら（マーカを中心と
する一定すイズの指定領域内に含まれる図形エレメント
Ｏ検出が行なわれて−た。
こＯ構出方法で線図形メモリに格納されてｉる順序で検
出され、上位装置（ホスト）に通知されていた。
出され、上位装置（ホスト）に通知されていた。
前述のように、マーカＯ指定領域に含まれる図形ニレメ
ンＦが複数個ある場合、通常マーカに最も近い図形エレ
メントが最重点対象であシ、マーカから離れるに従い関
連度が減少する。しかし従来の方法では、図形メ毫すに
格納された順序で検出されるから、ホスト側でマーカに
近い図形エレメントの危に並べ直さなければなら々かっ
た。このため、′ｕ、紋図形が相互に関連するｖＡ形エ
レメントに対し、前述Ｏ！Ｉ集処塩処理なう場合時間が
かかシ過ぎる欠点があった。
ンＦが複数個ある場合、通常マーカに最も近い図形エレ
メントが最重点対象であシ、マーカから離れるに従い関
連度が減少する。しかし従来の方法では、図形メ毫すに
格納された順序で検出されるから、ホスト側でマーカに
近い図形エレメントの危に並べ直さなければなら々かっ
た。このため、′ｕ、紋図形が相互に関連するｖＡ形エ
レメントに対し、前述Ｏ！Ｉ集処塩処理なう場合時間が
かかシ過ぎる欠点があった。
本発ｔＳＯ目的は表示装置側で座標検出装置によプ指定
されたマーカに最も近い図形エレメントから近い順序で
高速に検出できる図形エレメント検出方式を提供するこ
とにある。
されたマーカに最も近い図形エレメントから近い順序で
高速に検出できる図形エレメント検出方式を提供するこ
とにある。
前記目的を達成するため、本発明の図形エレメント検出
方式社りスタスキャン表示装置において、図形データメ
モリに格納されて−る複数の図形エレメントデータに対
し、外部からこれらに関連したマーカ位置を設定し、該
ｉ−力位置を中心としたサイズを変化して指定サイズに
対し複数のサイズＯ検出用アパーチャを設定し、各図形
エレメント毎に複数の７パーテヤサイズを変化し検出可
能Ｏ最小Ｏサイズを検出するものである。
方式社りスタスキャン表示装置において、図形データメ
モリに格納されて−る複数の図形エレメントデータに対
し、外部からこれらに関連したマーカ位置を設定し、該
ｉ−力位置を中心としたサイズを変化して指定サイズに
対し複数のサイズＯ検出用アパーチャを設定し、各図形
エレメント毎に複数の７パーテヤサイズを変化し検出可
能Ｏ最小Ｏサイズを検出するものである。
さらに、複数の検出用アパーチャサイズは大きい方から
小さい方へ変化していくことが効果的である。
小さい方へ変化していくことが効果的である。
上記構成により、たとえば複数の検出用アパーチャのサ
イズを大！！一方から小さい方へ変化しそれぞれＯ図形
エレメントＯ検出可能の最小のサイズＯアパーチャを判
定する。このようにして！−力に最も近い図形エレメン
トから近い順に検出することができる。これは上位装置
に転送することなぐ、表示装置自体で行なうことができ
るから、検出手順が闇単となシ高遠の図形の編集処理に
対し有効である。
イズを大！！一方から小さい方へ変化しそれぞれＯ図形
エレメントＯ検出可能の最小のサイズＯアパーチャを判
定する。このようにして！−力に最も近い図形エレメン
トから近い順に検出することができる。これは上位装置
に転送することなぐ、表示装置自体で行なうことができ
るから、検出手順が闇単となシ高遠の図形の編集処理に
対し有効である。
Ｃ実 施 例〕
第１図（ロ）、（ｂ）は本発明の原理説明図と要部の詳
細説明図である。
細説明図である。
同図（ロ）拡画面１内に複数図形エレメント（人）２１
゜ＣＢ）２ｇ−（０）２ｘが密接または交差して配置さ
れてｉるとき、オペレータがマーカ３を座標入力装置に
よシ所定の位置に設定し、とのｉ−力３を中心とするサ
イズを可変とする図形エレメント検出用の７パーチヤ４
を設定するものである。
゜ＣＢ）２ｇ−（０）２ｘが密接または交差して配置さ
れてｉるとき、オペレータがマーカ３を座標入力装置に
よシ所定の位置に設定し、とのｉ−力３を中心とするサ
イズを可変とする図形エレメント検出用の７パーチヤ４
を設定するものである。
同゛図（６）はこのアパーチャ４によるマーカ３と図形
エレメント人、Ｂ、０との相互関係の検出手順の詳細を
示す。
エレメント人、Ｂ、０との相互関係の検出手順の詳細を
示す。
同図（６）において、検出用アパーチャ（サイズ）を小
さい方から４＊＜ｔイス８ｔ）〜４４（サイズ８４）と
し、図形エレメント人の座標点のベクトル解析を進め。
さい方から４＊＜ｔイス８ｔ）〜４４（サイズ８４）と
し、図形エレメント人の座標点のベクトル解析を進め。
そのア°ドレスがアパーチャ４４Ｏアドレスに一致した
Ａ４点に入った時解析を停止し、１単位小さいアパーチ
ャ４ｓに変化する。そして同様にベクトルアドレスを進
め、アパーチャ４富のアドレスと一致するＡ３に違する
と、再び１単位小さいアバー゛チャ４１に変化する。今
度は図形エレメント人とは交差しないから図形エレメン
トＡＯサイズ伐アパーチャ４ｓのサイズ８３と判定する
。
Ａ４点に入った時解析を停止し、１単位小さいアパーチ
ャ４ｓに変化する。そして同様にベクトルアドレスを進
め、アパーチャ４富のアドレスと一致するＡ３に違する
と、再び１単位小さいアバー゛チャ４１に変化する。今
度は図形エレメント人とは交差しないから図形エレメン
トＡＯサイズ伐アパーチャ４ｓのサイズ８３と判定する
。
図形エレメントＢの場合も同様Ｋ Ｂ４ 、Ｂｓ −８
２点でアパーチャ４４＊４ｓｅ４＊と変化し、最終的に
アパーチャ４１で検出され、サイズはＳｔとなる。図形
エレメントＣの場合も０４ 、０３点でアパーチャ４＜
、４ｓと変化し、最終的にアパーチャ４２で検出され、
サイズはＳ２となる。
２点でアパーチャ４４＊４ｓｅ４＊と変化し、最終的に
アパーチャ４１で検出され、サイズはＳｔとなる。図形
エレメントＣの場合も０４ 、０３点でアパーチャ４＜
、４ｓと変化し、最終的にアパーチャ４２で検出され、
サイズはＳ２となる。
このように、図形エレメント人、Ｂ、Ｏのアパーチャサ
イズはそれぞれａｓ ｅ ８１ ｅ ｓｔと表シ、マー
カ３に最も近い方から並べると図形Ｂ、０２人の順とな
る。
イズはそれぞれａｓ ｅ ８１ ｅ ｓｔと表シ、マー
カ３に最も近い方から並べると図形Ｂ、０２人の順とな
る。
第２図は本発明の実施例の構成説明図である。
同図において、プばセッサ１０の制御によシパス１１を
通して各装置間にお込でデータの授受が行なわれる。す
なわち、上位装置からインタフェース回路１２を介して
表示すべき図形エレメントデータ。
通して各装置間にお込でデータの授受が行なわれる。す
なわち、上位装置からインタフェース回路１２を介して
表示すべき図形エレメントデータ。
文字＝−ド等が入力し、図形データメモリ１４に格納さ
れる。この図形データメモリ１４から読出された図形エ
レメントデータは図形発生回路１６に入力され、ベクト
ル発生回路１７からベクトル座標点アドレスを出力し、
文字発生回路１８から文字パターンアドレスを出力し、
メモリ制御回路２０で制御し、＠偉メモリ２１に図形１
文字パターンを記憶させる。この画像メモリ２１の内容
を並直列（Ｐ／Ｂ ）変換回路２２を通して直列信号と
してＯＲＴ管２３に送シ表示する。
れる。この図形データメモリ１４から読出された図形エ
レメントデータは図形発生回路１６に入力され、ベクト
ル発生回路１７からベクトル座標点アドレスを出力し、
文字発生回路１８から文字パターンアドレスを出力し、
メモリ制御回路２０で制御し、＠偉メモリ２１に図形１
文字パターンを記憶させる。この画像メモリ２１の内容
を並直列（Ｐ／Ｂ ）変換回路２２を通して直列信号と
してＯＲＴ管２３に送シ表示する。
次にこのクスタスキャン形表示装置において、所望の図
形エレメントをマーカに近い順に検出する構成を説明す
る。オペレータによ〕マーカが座標検出装置で位置指定
され、外部装置制御回路１３よシ図形発生回路１６ｔ−
通し文字発生回路１８でマーカパターンを発生して表示
する。そして、最大サイズのアパーチャを設定するため
、アパーチャアドレス回路２５とアパーチャアドレスカ
ウンタ２６により、サイズに応じたアドレス範囲を設定
し、アパーチャアドレスＸ、Ｙをカクントアップし、比
較回路２４に送る。一方、図形データメモリ１４に格納
された回形エレメント人、Ｂ、０を順次ベクトル発生回
路１７に送〕、そのベクトル座標点のアドレス謬、ｙを
アドレスポインタ１９によジ比較回路２４に送る。こむ
で、アパーチャアドレスＸ、Ｙと図形エレメントのベク
トル座標点のアドレス２゜Ｖが一致した時、ベクトル発
生回路１７を停止し、アパーチャサイズ回路２７と７バ
ーチヤナイズカクンタ２８のサイズＢｚ、Ｂｙを１単位
小さくシ、前述と同じ手職で同じ図形エレメントの検出
可能の最小サイズを求める。今度は次の図形エレメント
に進むようにして、全部の図形エレメントにつき検出可
能の最小サイズの７パーチヤを求めるものである。なお
、制御記憶（０８）１５ Ｋはこれらの検出処理を行な
うためのプログラムが格納される。
形エレメントをマーカに近い順に検出する構成を説明す
る。オペレータによ〕マーカが座標検出装置で位置指定
され、外部装置制御回路１３よシ図形発生回路１６ｔ−
通し文字発生回路１８でマーカパターンを発生して表示
する。そして、最大サイズのアパーチャを設定するため
、アパーチャアドレス回路２５とアパーチャアドレスカ
ウンタ２６により、サイズに応じたアドレス範囲を設定
し、アパーチャアドレスＸ、Ｙをカクントアップし、比
較回路２４に送る。一方、図形データメモリ１４に格納
された回形エレメント人、Ｂ、０を順次ベクトル発生回
路１７に送〕、そのベクトル座標点のアドレス謬、ｙを
アドレスポインタ１９によジ比較回路２４に送る。こむ
で、アパーチャアドレスＸ、Ｙと図形エレメントのベク
トル座標点のアドレス２゜Ｖが一致した時、ベクトル発
生回路１７を停止し、アパーチャサイズ回路２７と７バ
ーチヤナイズカクンタ２８のサイズＢｚ、Ｂｙを１単位
小さくシ、前述と同じ手職で同じ図形エレメントの検出
可能の最小サイズを求める。今度は次の図形エレメント
に進むようにして、全部の図形エレメントにつき検出可
能の最小サイズの７パーチヤを求めるものである。なお
、制御記憶（０８）１５ Ｋはこれらの検出処理を行な
うためのプログラムが格納される。
以下検出手屓の１例につき具体的に述べる。
まず、ｊｌＫ１図（＆）Ｋ示す図形（人）２Ｋを図形エ
レメノト検出の対象とし、アドレスポインタ１９Ｃ）ア
ドレスが最大サイズの７パーチヤ４４と一致し九人４点
でベクトル発生回路１７の動作が停止する。この回路は
ＤＤＡ （ディジタル−ディファレンシャル・アナライ
ザ）、すなわち図形ベクトルＯ座標点発生の動作を行な
うものでらシ、この動作を停止して、アパーチャサイズ
を１単位小さくしてアパーチャ４３を設定する。このア
パーチャ４３に対し、図形エレメントＡのＤＤＡを実行
し、アドレスが一致したＡ、点でＤＤＡを停止し、さら
に小さいアパーチャ４２を設定する。このアパーチャ４
２は、図形エレメント人と交差しないから、図形人に対
しては、図形エレメント検出の最小サイズはアパーチャ
４３と次る。
レメノト検出の対象とし、アドレスポインタ１９Ｃ）ア
ドレスが最大サイズの７パーチヤ４４と一致し九人４点
でベクトル発生回路１７の動作が停止する。この回路は
ＤＤＡ （ディジタル−ディファレンシャル・アナライ
ザ）、すなわち図形ベクトルＯ座標点発生の動作を行な
うものでらシ、この動作を停止して、アパーチャサイズ
を１単位小さくしてアパーチャ４３を設定する。このア
パーチャ４３に対し、図形エレメントＡのＤＤＡを実行
し、アドレスが一致したＡ、点でＤＤＡを停止し、さら
に小さいアパーチャ４２を設定する。このアパーチャ４
２は、図形エレメント人と交差しないから、図形人に対
しては、図形エレメント検出の最小サイズはアパーチャ
４３と次る。
図形Ｂに対しては、Ｂ４９Ｔ３３．Ｅ２点でＤＤＡを停
止し、１単位小さいサイズの７バーチヤに移シ、検出可
能の最小サイズはアパーチャ４１となる。目形０に対し
ては、０４＊０３点でＤＤＡを停止し、１単位小さいサ
イズのアパーチャに移シ、検出可能の最小サイズはアパ
ーチャ４！となる。この結果マーカ３に最も近い図形エ
レメントＢから順に０９人となる。
止し、１単位小さいサイズの７バーチヤに移シ、検出可
能の最小サイズはアパーチャ４１となる。目形０に対し
ては、０４＊０３点でＤＤＡを停止し、１単位小さいサ
イズのアパーチャに移シ、検出可能の最小サイズはアパ
ーチャ４！となる。この結果マーカ３に最も近い図形エ
レメントＢから順に０９人となる。
以上の図形エレメントの検出ではアパーチャを大きい方
から小さい方へ変化させたが、Ｉ！ＫＦＩｌ的には小ｉ
５一方から太き一方へ変化させても同様でらるが、後者
では当初図形エレメントが交差しない可能性が大きいか
ら、アパーチャを変化する度に図形エレメントのベクト
ル座標点アドレスの歩進を繰返し発生させなければなら
ない。これに対し、前者では尚初回形エレメントが交差
する可能性が大きいから、ＤＤＡの停止とアパーチャサ
イズの変化後再起動で済むから歩進の経路が１回となシ
単純高速化することができる。
から小さい方へ変化させたが、Ｉ！ＫＦＩｌ的には小ｉ
５一方から太き一方へ変化させても同様でらるが、後者
では当初図形エレメントが交差しない可能性が大きいか
ら、アパーチャを変化する度に図形エレメントのベクト
ル座標点アドレスの歩進を繰返し発生させなければなら
ない。これに対し、前者では尚初回形エレメントが交差
する可能性が大きいから、ＤＤＡの停止とアパーチャサ
イズの変化後再起動で済むから歩進の経路が１回となシ
単純高速化することができる。
以上説明したように、本発明によれば、ラスタス中ヤン
形宍示装置の図形データメモリに格納されている複数の
図形エレメントデータに対し、外部からオペレータがマ
ーカ位置を設定し、該マーカ位置を中心としたサイズを
変化して複数の検出用アパーチャを設定し、各図形エレ
メント毎に複数のアパーチャサイズを変化し検出可能の
最小のサイズを検出するものである。さらに、複数の検
出用アパーチャサイズは大きい方から小さい方へ変化し
ていくことが有効である。
形宍示装置の図形データメモリに格納されている複数の
図形エレメントデータに対し、外部からオペレータがマ
ーカ位置を設定し、該マーカ位置を中心としたサイズを
変化して複数の検出用アパーチャを設定し、各図形エレ
メント毎に複数のアパーチャサイズを変化し検出可能の
最小のサイズを検出するものである。さらに、複数の検
出用アパーチャサイズは大きい方から小さい方へ変化し
ていくことが有効である。
これにより、複数ＯｗＪ形ニレメン）Ｋ間過してオペレ
ータが指定した！−力に対し、説示装置ａで！−力に近
い順に並べて検出できるから、これらを上位装置に送る
ことによシ上位装置で並べ直す必要がなく、プログ２ム
０みにより、たとえば第１番目のみを選択したυ、第１
番目、第２番目を選択したシして目的とする編集を行な
う仁とがで亀る。
ータが指定した！−力に対し、説示装置ａで！−力に近
い順に並べて検出できるから、これらを上位装置に送る
ことによシ上位装置で並べ直す必要がなく、プログ２ム
０みにより、たとえば第１番目のみを選択したυ、第１
番目、第２番目を選択したシして目的とする編集を行な
う仁とがで亀る。
［１図（Ｇ） 、 （＆）唸本発明Ｏ原理説明図、第２
図は本発明の実施例Ｏ構成説明図であ〕、図中、１は画
面、２凰〜２富は図形エレメント、５はマーカ、４゜４
Ｍ〜４４はアパーチャ、１０はプロセッサ、１１ババス
、１２はインタフェース回路、１４は図形データメそり
、１５は制御グ冨グツム、１６は図形発生回路、１７は
ベクトル発生回路、１Ｂは文字発生回路１９はアドレス
ポインタ、２０はメモす制御回路、２１は画像メモ９．
２３ａＯＲＴ管、２４は比較回路、２５はアパーチャア
ドレス回路、２６はアパーテヤアドレスカクンタ、２７
はアパーチャサイズ回路、２８はアパーテヤサイズカク
ンタを示す。
図は本発明の実施例Ｏ構成説明図であ〕、図中、１は画
面、２凰〜２富は図形エレメント、５はマーカ、４゜４
Ｍ〜４４はアパーチャ、１０はプロセッサ、１１ババス
、１２はインタフェース回路、１４は図形データメそり
、１５は制御グ冨グツム、１６は図形発生回路、１７は
ベクトル発生回路、１Ｂは文字発生回路１９はアドレス
ポインタ、２０はメモす制御回路、２１は画像メモ９．
２３ａＯＲＴ管、２４は比較回路、２５はアパーチャア
ドレス回路、２６はアパーテヤアドレスカクンタ、２７
はアパーチャサイズ回路、２８はアパーテヤサイズカク
ンタを示す。
Claims (2)
- （１）表示すベき複数の図形エレメントデータを図形デ
ータメモリに格納し、該図形データメモリから読出した
図形エレメントデータを図形発生回路により、図形ベク
トル、文字別に画像メモリをアクセス表示するラスタス
キヤン形表示装置において、前記複数の図形エレメント
に関連したマーカ位置を設定する手段と、該マーカ位置
を中心としてサイズを変化する複数の検出用アパーチヤ
を設定する手段と、各図形エレメント毎に複数のアパー
チヤサイズを変化し検出可能の最小のサイズを検出する
手段とを具え、複数の図形エレメント。 検出をマーカ位置に近い順序に検出することを特徴とす
る図形エレメント検出方式。 - （２）前記複数の検出用アパーチヤサイズを大きい方か
ら小さい方へ変化するようにしたことを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の図形エレメント検出方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59216963A JPS6195390A (ja) | 1984-10-16 | 1984-10-16 | 図形エレメント検出方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59216963A JPS6195390A (ja) | 1984-10-16 | 1984-10-16 | 図形エレメント検出方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6195390A true JPS6195390A (ja) | 1986-05-14 |
Family
ID=16696660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59216963A Pending JPS6195390A (ja) | 1984-10-16 | 1984-10-16 | 図形エレメント検出方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6195390A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0264779A (ja) * | 1988-08-30 | 1990-03-05 | Canon Inc | 画像生成装置 |
-
1984
- 1984-10-16 JP JP59216963A patent/JPS6195390A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0264779A (ja) * | 1988-08-30 | 1990-03-05 | Canon Inc | 画像生成装置 |
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