JPS6191022A - 石英ガラスの製造方法 - Google Patents
石英ガラスの製造方法Info
- Publication number
- JPS6191022A JPS6191022A JP19746784A JP19746784A JPS6191022A JP S6191022 A JPS6191022 A JP S6191022A JP 19746784 A JP19746784 A JP 19746784A JP 19746784 A JP19746784 A JP 19746784A JP S6191022 A JPS6191022 A JP S6191022A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz glass
- gel
- sol
- dry
- dry gel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はゾル−ゲル法による石英ガラスの製造方法に関
する。
する。
石英ガラスは工C製造工程中でるつぼやボード、拡散炉
等に使用されるようになり、その有用性が認められ、更
に水酸基の少ないものや光学的均一性の良いものが開発
されたことによ2て、各種の光学的用途に使用されるよ
うになり、特に光・通信用の石英ガラス7アイパーが最
近注目されている。
等に使用されるようになり、その有用性が認められ、更
に水酸基の少ないものや光学的均一性の良いものが開発
されたことによ2て、各種の光学的用途に使用されるよ
うになり、特に光・通信用の石英ガラス7アイパーが最
近注目されている。
このように石英ガラスは種々の分野で使用されその利用
範囲も広がりでいる。しかし、石英ガラスの製造コスト
は高く、高価なことが問題になっている。安価で高品質
の石英ガラスを製造する方法として、ゾル−ゲル法が試
みられている。
範囲も広がりでいる。しかし、石英ガラスの製造コスト
は高く、高価なことが問題になっている。安価で高品質
の石英ガラスを製造する方法として、ゾル−ゲル法が試
みられている。
ゾル−ゲル法を用いて歩留り良く、大型の石英ガラスを
得る方法として、アルキルシリケートを加水分解したゾ
ル中に超微粉末シリカを加え、超音波等で分散し更にP
Hを5〜6に調整した後、50〜90℃で乾燥し、焼結
する方法がある。ドライゲル作製中の割れの問題と、焼
結中の便Iれやクラック生成の問題を同時に解決したも
のであり、かなり大きな石英ガラス(41nchφ以上
)が低コストで製造できるようになりた。
得る方法として、アルキルシリケートを加水分解したゾ
ル中に超微粉末シリカを加え、超音波等で分散し更にP
Hを5〜6に調整した後、50〜90℃で乾燥し、焼結
する方法がある。ドライゲル作製中の割れの問題と、焼
結中の便Iれやクラック生成の問題を同時に解決したも
のであり、かなり大きな石英ガラス(41nchφ以上
)が低コストで製造できるようになりた。
水俄畿が少なく、気泡を含まない高品質の石英ガラスを
装造する為には、ドライゲルを緻密な構造の耐熱材によ
る閉容器中で焼結する方法が非常に有効である。
装造する為には、ドライゲルを緻密な構造の耐熱材によ
る閉容器中で焼結する方法が非常に有効である。
しかし閉容器中で焼結する従来技術では、焼結中に割れ
やすく、特にドライゲルを高密度に並べると表面全体に
クラックが生成するという間一点を有する。そこで本発
明はこのような問題点を解決するもので、その目的とす
るところは焼結での割れを皆無にし、高密度の焼結を可
能にして社屋性を著しく向上させる方法を提供するとこ
ろにある。
やすく、特にドライゲルを高密度に並べると表面全体に
クラックが生成するという間一点を有する。そこで本発
明はこのような問題点を解決するもので、その目的とす
るところは焼結での割れを皆無にし、高密度の焼結を可
能にして社屋性を著しく向上させる方法を提供するとこ
ろにある。
本発明の石英ガラスの製造方法は、少なくともアルキル
シリケートおよび超微粉末シリカを原料とするゾル−ゲ
ル法による石英ガラスの製造方法において、シリカゾル
をゲル化・乾燥させて作製したドライゲルを、焼結炉に
投入するまでの期間、密閉容器内に保存することを特徴
とする。50℃以上の加熱乾燥雰囲気中に保存すると更
に効果的である。
シリケートおよび超微粉末シリカを原料とするゾル−ゲ
ル法による石英ガラスの製造方法において、シリカゾル
をゲル化・乾燥させて作製したドライゲルを、焼結炉に
投入するまでの期間、密閉容器内に保存することを特徴
とする。50℃以上の加熱乾燥雰囲気中に保存すると更
に効果的である。
シリカゲルは乾燥剤として用いられているが、ゾル−ゲ
ル法におけるドライゲルも多孔性の為、激しい吸水性を
示す。室温で空気中に放置した場合、ドライゲルの乾燥
重量の半分近い水を吸着する。″この吸着水は焼結過程
で脱離する。脱水時に・割れやすく、また脱離した水蒸
気で多湿雰囲気となる為、焼結時に割れやクラックが生
成しやすい本発明の上記の方法によれば、ドライゲルへ
の水の吸着を防ぐことができる為、焼結過程での割れや
クラック生成を防ぐことができる。
ル法におけるドライゲルも多孔性の為、激しい吸水性を
示す。室温で空気中に放置した場合、ドライゲルの乾燥
重量の半分近い水を吸着する。″この吸着水は焼結過程
で脱離する。脱水時に・割れやすく、また脱離した水蒸
気で多湿雰囲気となる為、焼結時に割れやクラックが生
成しやすい本発明の上記の方法によれば、ドライゲルへ
の水の吸着を防ぐことができる為、焼結過程での割れや
クラック生成を防ぐことができる。
第1図は60℃でドライゲルを作製した後、15℃、湿
度50%の雰囲気中で放置した時の重量変化である。ド
ライゲルの形状、及び作製方法により吸水性は異なるが
、ゾル−ゲル法を用いる限り、必ずこのような重置増加
が起こる。
度50%の雰囲気中で放置した時の重量変化である。ド
ライゲルの形状、及び作製方法により吸水性は異なるが
、ゾル−ゲル法を用いる限り、必ずこのような重置増加
が起こる。
第2図は作製した直後のドライゲルを密閉容器内、及び
種々の温度の加熱乾燥雰囲気中で保存した時のmW変化
である。ドライゲルへの水の吸着はみられない。以下、
本発明について保存条件と焼結結果を比較しながら、詳
細に説明する。
種々の温度の加熱乾燥雰囲気中で保存した時のmW変化
である。ドライゲルへの水の吸着はみられない。以下、
本発明について保存条件と焼結結果を比較しながら、詳
細に説明する。
実施例1
エチルシリケー) 4.4 tと0.05規定塩酸水溶
液五、6 tを激しく撹拌し、無色透明の均一溶液を得
た。そこに超微粉末シリカ(Aeroθ110X−50
)1.5KPを徐々に添加し、充分に攪拌した。
液五、6 tを激しく撹拌し、無色透明の均一溶液を得
た。そこに超微粉末シリカ(Aeroθ110X−50
)1.5KPを徐々に添加し、充分に攪拌した。
このゾルを20℃に保ちながら28KHzの超音波を2
時間照射し、更に1500Gの遍心力を10分間かけた
。
時間照射し、更に1500Gの遍心力を10分間かけた
。
得られた均寅度の高いゾルを、[1,1規定アンモニア
水でP H4,2に調整してからポリプロピレン製容器
(幅20 cm X 20 cm X高さ10画)に深
さが1mになる量注入した。開口率1%のフタをし、6
0℃で10日間乾燥させたところ、−辺14傭、厚さ1
17crnのドライゲルが作製できた。乾燥直後の重層
は1201だった。
水でP H4,2に調整してからポリプロピレン製容器
(幅20 cm X 20 cm X高さ10画)に深
さが1mになる量注入した。開口率1%のフタをし、6
0℃で10日間乾燥させたところ、−辺14傭、厚さ1
17crnのドライゲルが作製できた。乾燥直後の重層
は1201だった。
同様に作製した10個のドライゲルを、デシケータ−内
に保存したところ、10日後でも重層は変化していなか
った。このドライゲルを第3因に示すように石英容器(
15cm X 50 cm X 15 cm )内に等
間隔で並べた。第5図において1はドライゲル、2は石
英ガラスによるついたてと容器であり、はぼ密閉構造と
なっている。ドライゲルの入った石英容器を炉の中に入
れ、適当な昇温プログラムにより室温から1500 ’
Cまで昇温し、1時1〜1500℃に保持した。1個に
亀裂′!I;入っていたものの、他の9個は割れを生じ
ずに透明な石英ガラス(10cInX 10orrX
[15m )が製造できた。重量は110?に減少して
いた。
に保存したところ、10日後でも重層は変化していなか
った。このドライゲルを第3因に示すように石英容器(
15cm X 50 cm X 15 cm )内に等
間隔で並べた。第5図において1はドライゲル、2は石
英ガラスによるついたてと容器であり、はぼ密閉構造と
なっている。ドライゲルの入った石英容器を炉の中に入
れ、適当な昇温プログラムにより室温から1500 ’
Cまで昇温し、1時1〜1500℃に保持した。1個に
亀裂′!I;入っていたものの、他の9個は割れを生じ
ずに透明な石英ガラス(10cInX 10orrX
[15m )が製造できた。重量は110?に減少して
いた。
以上の方法で製造した石英ガラスは含水率3゜Oppm
と極めて低く、気泡も発生してぃなかった。
と極めて低く、気泡も発生してぃなかった。
比較例1
実施例1と同様の方法で作製したドライゲルを室温で空
気中に2日間放置したところ、重量が1502に増加し
ていた。
気中に2日間放置したところ、重量が1502に増加し
ていた。
吸ユしたドライゲル10個を石英容器内に並べ、実施例
1と同様のプログラムで焼結させたところ、10個中5
個にクラックが生成していた。得られた石英ガラスの寸
法1重量9品質は実施例1と全く同じだった。
1と同様のプログラムで焼結させたところ、10個中5
個にクラックが生成していた。得られた石英ガラスの寸
法1重量9品質は実施例1と全く同じだった。
実施例2
実施例1と同様の方法で作製したドライゲルを100°
Cの乾燥機内に保存したところ、2日後に重量が115
1に減少した。それ以降はほとんどホー減少が観察され
なかった。
Cの乾燥機内に保存したところ、2日後に重量が115
1に減少した。それ以降はほとんどホー減少が観察され
なかった。
このように保存した10個のドライゲルを実施例1と同
様の方法で焼結したところ、割れやクラックを生じるこ
となく、透明な石英ガラスが10個得られた。石英ガラ
スの寸法1重量1品亘は、′5A彪例1と全く同じだっ
た。
様の方法で焼結したところ、割れやクラックを生じるこ
となく、透明な石英ガラスが10個得られた。石英ガラ
スの寸法1重量1品亘は、′5A彪例1と全く同じだっ
た。
実施例5
実施例1と同様の方法で作製した20個のドライゲルを
、10日間デシケータ−内に保存した。
、10日間デシケータ−内に保存した。
石英容器(15crn×30crn×15crn)内に
このドライゲルを等間隔で並べ、炉に移してから適当な
昇温プログラムにより1500℃まで昇温し、1時間1
300℃に保持した。2個に亀裂が入っていたものの、
他の18個は割れやクラックを生じることなく、透明な
石英ガラスが製造できた。石英ガラスの寸法、重量2品
質は実施例1と全く同じだった。
このドライゲルを等間隔で並べ、炉に移してから適当な
昇温プログラムにより1500℃まで昇温し、1時間1
300℃に保持した。2個に亀裂が入っていたものの、
他の18個は割れやクラックを生じることなく、透明な
石英ガラスが製造できた。石英ガラスの寸法、重量2品
質は実施例1と全く同じだった。
比較例2
ドライゲルを室温で空気中に2日間放置した後、実施例
3と同じ条件で焼結させたところ、20個すべて表面全
体に微細クラックが生成し、数個の破片に割れていた。
3と同じ条件で焼結させたところ、20個すべて表面全
体に微細クラックが生成し、数個の破片に割れていた。
以上述べたように本発明によれば、少なくともアルキル
シリケートおよび超微粉末シリカを原料とするゾル−ゲ
ル法による石英ガラスの製造方法において、シリカゾル
をゲル化・乾燥させて作製したドライゲルを、焼結炉に
投入するまでの期間、密閉容器内に保存することにより
、焼結での割れを減少させ、高密度の焼結を可能にして
量産性を同上させる効果を有する。
シリケートおよび超微粉末シリカを原料とするゾル−ゲ
ル法による石英ガラスの製造方法において、シリカゾル
をゲル化・乾燥させて作製したドライゲルを、焼結炉に
投入するまでの期間、密閉容器内に保存することにより
、焼結での割れを減少させ、高密度の焼結を可能にして
量産性を同上させる効果を有する。
ドライゲルの保存を50°C以上の加熱乾燥雰囲気中で
行なうと、更に著しい効果が得られる。
行なうと、更に著しい効果が得られる。
ドライゲルをどんな方法で作製しようと、どんな焼結処
理をし・ようと、本発明はその焼結歩留りにおいて確実
に効果を発揮する。
理をし・ようと、本発明はその焼結歩留りにおいて確実
に効果を発揮する。
第1因は、ドライゲルの吸湿を示すグラフ。
第2図は、d々の保存条件におけるドライゲルの重量K
化を示すグラフ。 第5図は焼結容器の見取図 1・・・・・・ドライゲル 2・・・・・・石英ガラスのついたて、及び容器以
上
化を示すグラフ。 第5図は焼結容器の見取図 1・・・・・・ドライゲル 2・・・・・・石英ガラスのついたて、及び容器以
上
Claims (2)
- (1)少くともアルキルシリケートおよび超微粉末シリ
カを原料とするゾル−ゲル法による石英ガラスの製造方
法において、シリカゾルをゲル化・乾燥させて作製した
ドライゲルを、焼結炉に投入するまでの期間、密閉容器
内に保存することを特徴とする石英ガラスの製造方法。 - (2)ドライゲルの保存を、50℃以上の加熱乾燥雰囲
気中で行なうことを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の石英ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19746784A JPS6191022A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 石英ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19746784A JPS6191022A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 石英ガラスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6191022A true JPS6191022A (ja) | 1986-05-09 |
JPH0142897B2 JPH0142897B2 (ja) | 1989-09-18 |
Family
ID=16374974
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19746784A Granted JPS6191022A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 石英ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6191022A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109262134A (zh) * | 2018-09-07 | 2019-01-25 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 光学元件制备方法和激光干燥处理系统 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55100231A (en) * | 1979-01-19 | 1980-07-31 | Hitachi Ltd | Production of optical fiber base material |
JPS59116135A (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-04 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造方法 |
-
1984
- 1984-09-20 JP JP19746784A patent/JPS6191022A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55100231A (en) * | 1979-01-19 | 1980-07-31 | Hitachi Ltd | Production of optical fiber base material |
JPS59116135A (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-04 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109262134A (zh) * | 2018-09-07 | 2019-01-25 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 光学元件制备方法和激光干燥处理系统 |
CN109262134B (zh) * | 2018-09-07 | 2021-08-20 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 光学元件制备方法和激光干燥处理系统 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0142897B2 (ja) | 1989-09-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |