JPS6191021A - 石英ガラスの製造方法 - Google Patents
石英ガラスの製造方法Info
- Publication number
- JPS6191021A JPS6191021A JP19746684A JP19746684A JPS6191021A JP S6191021 A JPS6191021 A JP S6191021A JP 19746684 A JP19746684 A JP 19746684A JP 19746684 A JP19746684 A JP 19746684A JP S6191021 A JPS6191021 A JP S6191021A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz glass
- gel
- sintering
- sol
- drying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はゾル−ゲル法による石英ガラスの1iili造
方法に関する。
方法に関する。
石英ガラスはIC製造工相中でるつぼやボード、拡散炉
等に使用されるようになり、°その有用性が認められ、
更に水#1基の少ないものや元学的均−性の良いものが
開発されたことによって、各種の光学的用途に使用され
るようになり、特に元通信用の石英ガラスファイバーが
最近注目されている。
等に使用されるようになり、°その有用性が認められ、
更に水#1基の少ないものや元学的均−性の良いものが
開発されたことによって、各種の光学的用途に使用され
るようになり、特に元通信用の石英ガラスファイバーが
最近注目されている。
このように石英ガラスは植々の分野で使用され、その利
用範囲も広がりている。しかし、石英ガラスの製造コス
トは高く、高価なことが問題になっている。安価で高品
買の石英ガラスを製造する方法として、ゾル−ゲル法が
試みられている。
用範囲も広がりている。しかし、石英ガラスの製造コス
トは高く、高価なことが問題になっている。安価で高品
買の石英ガラスを製造する方法として、ゾル−ゲル法が
試みられている。
ゾル−ゲル法を用いて歩留り良く、大型の石英ガラスを
得る方法として、アルキルシリケートを加水分解したゾ
ル中に超微粉末シリカを加え、超音波等で分散し更にP
Hを5〜6に調整した後、50〜90℃で乾燥し、焼結
する方法がある。ドライゲル作製中の割れの問題と、焼
結中の割れやクラック生成の問題を同時に解決したもの
であり、かなり大きな石英ガラス(41nchφ以上)
が低コストで製造できるようになった。
得る方法として、アルキルシリケートを加水分解したゾ
ル中に超微粉末シリカを加え、超音波等で分散し更にP
Hを5〜6に調整した後、50〜90℃で乾燥し、焼結
する方法がある。ドライゲル作製中の割れの問題と、焼
結中の割れやクラック生成の問題を同時に解決したもの
であり、かなり大きな石英ガラス(41nchφ以上)
が低コストで製造できるようになった。
水酸基が少なく、気泡を含まない高品質の石英ガラスを
製造する為には、ドライゲルを緻密な構造の耐熱材によ
る閉容器中で焼結する方法が非常に有効である。
製造する為には、ドライゲルを緻密な構造の耐熱材によ
る閉容器中で焼結する方法が非常に有効である。
しかし閉容器中で焼結する従来技術では、焼結中に割れ
やす<、#ICドライゲルを高密度に並べると光面全体
にクラックが生成するという問題点を有する。そこで本
発明はこのような問題点を解決するもので、その目的と
するところは焼結でのdiれを皆無にし、高密度の焼結
を可能にして磁度性を著しく向上させる方法を提供する
ところにある。
やす<、#ICドライゲルを高密度に並べると光面全体
にクラックが生成するという問題点を有する。そこで本
発明はこのような問題点を解決するもので、その目的と
するところは焼結でのdiれを皆無にし、高密度の焼結
を可能にして磁度性を著しく向上させる方法を提供する
ところにある。
本発明の石英ガラスのV遣方法は、少なくともアルキル
ンリケードおよび超微粉末ソリ力を原料とするゾル−ゲ
ル法による石英ガラスの製造方法において、シリカゾル
をゲル化・就床させて作製したドライゲルを、焼結前に
再び加熱乾燥させることを特徴とする。乾燥は50℃以
上の加熱乾燥雰囲気中で行なうことが望ましい。
ンリケードおよび超微粉末ソリ力を原料とするゾル−ゲ
ル法による石英ガラスの製造方法において、シリカゾル
をゲル化・就床させて作製したドライゲルを、焼結前に
再び加熱乾燥させることを特徴とする。乾燥は50℃以
上の加熱乾燥雰囲気中で行なうことが望ましい。
シリカゲルは乾燥剤として用いられているが、ゾル−ゲ
ル法におけるドライゲルも多孔性の為、激しい吸水性を
示す。室温で空気中に放置した場合、ドライゲルの乾燥
Mfltの半分近い水を吸着する。この吸層水は焼結過
程で脱離する。脱水時に割れやすく、また脱離した水蒸
気で多湿雰囲気となる為、焼結時に割れやり2ツクが生
成しやすい本発明の上記の方法によれば、ドライゲルの
吸盾水を焼結炉投入前に除失できる為、焼結過程での割
れやクラック生成を防ぐことができる。
ル法におけるドライゲルも多孔性の為、激しい吸水性を
示す。室温で空気中に放置した場合、ドライゲルの乾燥
Mfltの半分近い水を吸着する。この吸層水は焼結過
程で脱離する。脱水時に割れやすく、また脱離した水蒸
気で多湿雰囲気となる為、焼結時に割れやり2ツクが生
成しやすい本発明の上記の方法によれば、ドライゲルの
吸盾水を焼結炉投入前に除失できる為、焼結過程での割
れやクラック生成を防ぐことができる。
第1図は60′Cでドライゲルを作製した後、15°C
1湿度50%の雰囲気中で放置した時の重量変化である
。ドライゲルの形状、及び作製方法により吸水性は異な
るが、ゾル−ゲル法を用いる限り、必ずこのような重電
増加が起こる。
1湿度50%の雰囲気中で放置した時の重量変化である
。ドライゲルの形状、及び作製方法により吸水性は異な
るが、ゾル−ゲル法を用いる限り、必ずこのような重電
増加が起こる。
第2図は吸湿したドライゲルを、種々の温度の加熱乾燥
雰囲気中に放置した時のm址変化である。乾mMl!f
:は異なるものの、看実な重量減少がみられる。以下、
本発明について乾燥条件と焼結結果を比較しながら、詳
細に説明する。
雰囲気中に放置した時のm址変化である。乾mMl!f
:は異なるものの、看実な重量減少がみられる。以下、
本発明について乾燥条件と焼結結果を比較しながら、詳
細に説明する。
実施例1
エチルシリケー) 4.41と0.05規定塩酸水溶敢
五6tを激しく攪拌し、無色透明の均−浴液を14だ。
五6tを激しく攪拌し、無色透明の均−浴液を14だ。
そこに超微粉末シリカ(Aerosil OX −50
) 1.51jを徐々に添加し、充分に攪拌した。こ
のゾルを20℃に保ちながら28KHzの超音波を2時
間照射し、更に1500Gの遠心力を10分間かけた。
) 1.51jを徐々に添加し、充分に攪拌した。こ
のゾルを20℃に保ちながら28KHzの超音波を2時
間照射し、更に1500Gの遠心力を10分間かけた。
得られた均質度の旙いゾルを、0.1規矩アンモニア水
でP H4,2に調整してからポリプロビレ/iメ容器
(幅20 cm X 20 cm X高さ10創]に深
さが1crnになる量注入した。開口率1%の7タをし
、60’Cで10日間乾燥させたところ、−辺14副、
厚さ[L7ののドライゲルが作製できた。乾燥直後の重
置は120?だりた。
でP H4,2に調整してからポリプロビレ/iメ容器
(幅20 cm X 20 cm X高さ10創]に深
さが1crnになる量注入した。開口率1%の7タをし
、60’Cで10日間乾燥させたところ、−辺14副、
厚さ[L7ののドライゲルが作製できた。乾燥直後の重
置は120?だりた。
室温で空気中に2日間放置したところ、ドライゲルの)
鼠は150tに増加した。この吸湿したドライゲルを1
00℃の焼結機で2日間加熱すると、重量が1152に
減少し、それ以降はほとんど重量減少が観察されなかり
た。
鼠は150tに増加した。この吸湿したドライゲルを1
00℃の焼結機で2日間加熱すると、重量が1152に
減少し、それ以降はほとんど重量減少が観察されなかり
た。
このように熱処理した10個のドライゲルを、第3因に
示すように石英容器(15α×50α×15 cm )
内に等間隔で並べた。第3図において1はドライゲル、
2は石英ガラスによるついたてと容器であり、はぼV1
1閉構造となっている。ドライゲルの入りた石英容器を
炉の中に入れ、適当な昇温プログラムにより室温から1
500℃まで昇温し、1時間1500℃に保持した。割
れやクラックを生じることなく、透明な石英ガラス(1
0mX10mX(L5α]が10個得られた。重置は1
101Fに減少していた。
示すように石英容器(15α×50α×15 cm )
内に等間隔で並べた。第3図において1はドライゲル、
2は石英ガラスによるついたてと容器であり、はぼV1
1閉構造となっている。ドライゲルの入りた石英容器を
炉の中に入れ、適当な昇温プログラムにより室温から1
500℃まで昇温し、1時間1500℃に保持した。割
れやクラックを生じることなく、透明な石英ガラス(1
0mX10mX(L5α]が10個得られた。重置は1
101Fに減少していた。
以上の方法で製造した石英ガラスは含水率500 pp
mと極めて低く、気泡も発生していなかった比較例1 実施例1と同様の方法で作製したドライゲルを室温で空
気中に2日間放置したところ、本社が15Ofに増加し
た。
mと極めて低く、気泡も発生していなかった比較例1 実施例1と同様の方法で作製したドライゲルを室温で空
気中に2日間放置したところ、本社が15Ofに増加し
た。
吸湿したドライゲル10個を、そのまま石英容器内に並
べ、実施例1と同様のプログラムで焼結させたところ、
10個中5個にクラックが生成していた。得られた石英
ガラスの寸法、11品質は実施例1と全く同じだりた。
べ、実施例1と同様のプログラムで焼結させたところ、
10個中5個にクラックが生成していた。得られた石英
ガラスの寸法、11品質は実施例1と全く同じだりた。
実施例2
実施例1と同様の方法で作製したドライゲルを案晶で空
気中に2日間放置したところ、本社が1502に増加し
た。この吸湿したドライゲルを200℃の乾*慎で1日
加熱すると瓜磁が115vに減少した。
気中に2日間放置したところ、本社が1502に増加し
た。この吸湿したドライゲルを200℃の乾*慎で1日
加熱すると瓜磁が115vに減少した。
このように熱処理した10個のドライゲルを実施例1と
同様の方法でm=したところ、割れやクラックの生成は
観察されなかった。得られた10個の石英ガラスの寸法
、正量1品質は′AMIi例1と全く同じだりた。
同様の方法でm=したところ、割れやクラックの生成は
観察されなかった。得られた10個の石英ガラスの寸法
、正量1品質は′AMIi例1と全く同じだりた。
実施例5
実施例1と同様の方法で作製したドライゲルを室温で空
気中に2日間放置したところ、AHttが1502に増
加した。この吸湿したドライゲルを60℃の乾燥機で4
日間加熱するとホ祉が1202に減少した。
気中に2日間放置したところ、AHttが1502に増
加した。この吸湿したドライゲルを60℃の乾燥機で4
日間加熱するとホ祉が1202に減少した。
このように熱処理した10個のドライゲルを実施例1と
同様の方法で焼結したところ、1個に亀裂が入りていた
。得られた9個の石英ガラスの寸法、重鉦1品質は実施
例1と全く同じだった。
同様の方法で焼結したところ、1個に亀裂が入りていた
。得られた9個の石英ガラスの寸法、重鉦1品質は実施
例1と全く同じだった。
実施例4
実施例1と同様の方法で作製し、放置後100℃で再乾
燥させた20個のドライゲルを石英容器(15a++X
50o*X156R)内に等間隔で並べた。ドライゲル
の入りた石英容器を炉の中に入れ、適当な昇温プログラ
ムにより室温から1500℃まで昇温し1時間1300
℃に保持した。割れやり2ツクを生じることなく、透明
な石英ガラスが20個得られた。石英ガラスの寸法1重
Mk e品質は実施例1と全く同じだった。
燥させた20個のドライゲルを石英容器(15a++X
50o*X156R)内に等間隔で並べた。ドライゲル
の入りた石英容器を炉の中に入れ、適当な昇温プログラ
ムにより室温から1500℃まで昇温し1時間1300
℃に保持した。割れやり2ツクを生じることなく、透明
な石英ガラスが20個得られた。石英ガラスの寸法1重
Mk e品質は実施例1と全く同じだった。
比較例2
ドライゲルを焼結前に再乾燥させることなく、実施例4
と同じ条件で焼結させたところ、20個すべて餞面全体
に@細りラックが生成し、数個の破片に割れていた。
と同じ条件で焼結させたところ、20個すべて餞面全体
に@細りラックが生成し、数個の破片に割れていた。
以上述べたように本発明によれば、少なくともアルキル
シリケートおよびM微粉末シリカを原料とするゾル−ゲ
ル法による石英ガラスの製造方法において、シリカゾル
をゲル化・乾燥させて作製したドライゲルを、焼結前に
再び加熱乾燥させることにより、焼結での割れを皆無に
し、高密度の焼結を可能にして量産性を向上させる効果
を有する。
シリケートおよびM微粉末シリカを原料とするゾル−ゲ
ル法による石英ガラスの製造方法において、シリカゾル
をゲル化・乾燥させて作製したドライゲルを、焼結前に
再び加熱乾燥させることにより、焼結での割れを皆無に
し、高密度の焼結を可能にして量産性を向上させる効果
を有する。
ドライゲルをどんな方法で作製しようと、どんな焼結処
理をしようと、本発明はその焼結歩留りにおいて確実に
効果を発揮する。
理をしようと、本発明はその焼結歩留りにおいて確実に
効果を発揮する。
第1図は、ドライゲルの吸湿を示すグラフ。
第2図は、吸湿したドライゲルの乾燥を示すグラフ。
1・・・・・・60”Cの乾燥雰囲気
2・・・・・・100℃の乾燥雰囲気
3・・・・・・200℃の乾燥雰囲気
第3図は焼結容器の見取図
1・・・・・・ドライゲル
2・・・・・・石英ガラスのついたて、及び容器以
上
上
Claims (2)
- (1)少くともアルキルシリケートおよび超微粉末シリ
カを原料とするゾル−ゲル法による石英ガラスの製造方
法において、シリカゾルをゲル化・乾燥させて作成した
ドライゲルを、焼結前に再び加熱乾燥させることを特徴
とする石英ガラスの製造方法。 - (2)ドライゲルの焼結前の乾燥を、50℃以上の加熱
乾燥雰囲気中で行なうことを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の石英ガラスの製造方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19746684A JPS6191021A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 石英ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19746684A JPS6191021A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 石英ガラスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6191021A true JPS6191021A (ja) | 1986-05-09 |
JPH0142896B2 JPH0142896B2 (ja) | 1989-09-18 |
Family
ID=16374959
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19746684A Granted JPS6191021A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 石英ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6191021A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6324235U (ja) * | 1986-07-29 | 1988-02-17 | ||
JPS6469532A (en) * | 1987-09-08 | 1989-03-15 | Sumitomo Electric Industries | Production of glass |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5722128A (en) * | 1980-07-15 | 1982-02-05 | Hitachi Ltd | Production of optical glass |
JPS58199733A (ja) * | 1982-05-13 | 1983-11-21 | Seiko Epson Corp | シリカガラスの低温合成方法 |
JPS59107937A (ja) * | 1982-12-10 | 1984-06-22 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造法 |
JPS59116135A (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-04 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造方法 |
-
1984
- 1984-09-20 JP JP19746684A patent/JPS6191021A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5722128A (en) * | 1980-07-15 | 1982-02-05 | Hitachi Ltd | Production of optical glass |
JPS58199733A (ja) * | 1982-05-13 | 1983-11-21 | Seiko Epson Corp | シリカガラスの低温合成方法 |
JPS59107937A (ja) * | 1982-12-10 | 1984-06-22 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造法 |
JPS59116135A (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-04 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6324235U (ja) * | 1986-07-29 | 1988-02-17 | ||
JPS6469532A (en) * | 1987-09-08 | 1989-03-15 | Sumitomo Electric Industries | Production of glass |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0142896B2 (ja) | 1989-09-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |