JPH025693B2 - - Google Patents
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- JPH025693B2 JPH025693B2 JP8376082A JP8376082A JPH025693B2 JP H025693 B2 JPH025693 B2 JP H025693B2 JP 8376082 A JP8376082 A JP 8376082A JP 8376082 A JP8376082 A JP 8376082A JP H025693 B2 JPH025693 B2 JP H025693B2
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- quartz glass
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は石英ガラスの製造法に係わり、更に詳
しくはアルキルシリケートを加水分解して作つた
シリカゲルの乾燥時、溶媒の蒸発、除去を容器の
周辺から行ない、しかる後、焼成し石英ガラスと
する石英ガラスの製造法に関する。
しくはアルキルシリケートを加水分解して作つた
シリカゲルの乾燥時、溶媒の蒸発、除去を容器の
周辺から行ない、しかる後、焼成し石英ガラスと
する石英ガラスの製造法に関する。
石英ガラスはその耐薬品性、耐熱性等の優れた
性質を有するガラスである。
性質を有するガラスである。
このような優れた性質を有するため、石英ガラ
スは光学用機器、理化学用器具、化学工業の材料
として多種多様な形状で使用されている。そし
て、又、その需要は年々増加の傾向にある。
スは光学用機器、理化学用器具、化学工業の材料
として多種多様な形状で使用されている。そし
て、又、その需要は年々増加の傾向にある。
しかし、従来の溶融法と呼ばれる石英ガラスの
製造法では、天然水晶、又は高純度の硅砂を原料
とし、水洗、選別、弗酸処理、ばい焼、粉砕等の
複雑な処理工程を経、最後に2000℃位の高温で溶
融と、非常に長い工程を経るため高価となる欠点
がある。又、高温で処理するため、消費されるエ
ネルギーは莫大となる。
製造法では、天然水晶、又は高純度の硅砂を原料
とし、水洗、選別、弗酸処理、ばい焼、粉砕等の
複雑な処理工程を経、最後に2000℃位の高温で溶
融と、非常に長い工程を経るため高価となる欠点
がある。又、高温で処理するため、消費されるエ
ネルギーは莫大となる。
これに対し、最近、複雑な工程を経ることな
く、1000℃位の低温で石英ガラスができるゾル−
ゲル法が注目されている。このゾル−ゲル法はエ
チルシリケートを加水分解して得たシリカゲルを
乾燥固化、焼成してガラスを得る方法である。
く、1000℃位の低温で石英ガラスができるゾル−
ゲル法が注目されている。このゾル−ゲル法はエ
チルシリケートを加水分解して得たシリカゲルを
乾燥固化、焼成してガラスを得る方法である。
このゾル−ゲル法は従来の溶融法に比べて、原
料精製や均質化等が容易であるなど、高品質のガ
ラスを得る上で多くの利点を有する。
料精製や均質化等が容易であるなど、高品質のガ
ラスを得る上で多くの利点を有する。
しかし、このゾル−ゲル法では大きなガラスが
得られない欠点がある。この得られない理由の一
つとして次の理由が考えられる。
得られない欠点がある。この得られない理由の一
つとして次の理由が考えられる。
従来のゾル−ゲル法では乾燥ゲルを作るとき、
容器をアルミホイルでふたをし、ピンホール等の
穴をあけ蒸発量を制御していた。
容器をアルミホイルでふたをし、ピンホール等の
穴をあけ蒸発量を制御していた。
しかし、この方法ではアルミホイルが触媒の塩
酸におかされ、穴の径が変わり、良い結果が得ら
れなかつた。又、容器に対して穴の数がすくな
く、穴の面積がせまいため、容器全体にわたる蒸
発量の均一な制御ができなく、局所的な乾燥がお
こり、われたり、そつたりした。
酸におかされ、穴の径が変わり、良い結果が得ら
れなかつた。又、容器に対して穴の数がすくな
く、穴の面積がせまいため、容器全体にわたる蒸
発量の均一な制御ができなく、局所的な乾燥がお
こり、われたり、そつたりした。
本発明の目的はこのような欠点を改良する手段
を提供することにある。
を提供することにある。
第１図は従来の容器とふたの関係をあらわす図
であり、１はシヤーレ等の容器、２はアルミホイ
ル、３はピンホールをあらわす。
であり、１はシヤーレ等の容器、２はアルミホイ
ル、３はピンホールをあらわす。
図によりわかるように、このようなピンホール
で蒸発量を制御した場合、穴のまわりの蒸発量が
多くなり、局所的な乾燥が起こり、そりや、割れ
が発生する。
で蒸発量を制御した場合、穴のまわりの蒸発量が
多くなり、局所的な乾燥が起こり、そりや、割れ
が発生する。
これに対する本発明の製造法を第２図を参照し
つつ説明する。図において、４はシヤーレ等の容
器を、５はガラス、アクリル等の平板のフタを、
６はスペーサを示す。
つつ説明する。図において、４はシヤーレ等の容
器を、５はガラス、アクリル等の平板のフタを、
６はスペーサを示す。
図に示す容器の中にエチルシリケートの加水分
解物を注入し、図のように装置を組み立て、クリ
ツプ等で固定して乾燥器にいれ一定の温度で適当
な時間放置して乾燥ゲルを得、しかる後、焼成す
ることにより石英ガラスを得る。
解物を注入し、図のように装置を組み立て、クリ
ツプ等で固定して乾燥器にいれ一定の温度で適当
な時間放置して乾燥ゲルを得、しかる後、焼成す
ることにより石英ガラスを得る。
図よりわかるように本発明の製造法で用いられ
る装置によれば、溶媒の蒸発量を点状ではなく、
線状にまわりから効率よく除去できる。このため
部分的な乾燥がなくなり、そりとかわれの現象が
でにくいことが予想できる。
る装置によれば、溶媒の蒸発量を点状ではなく、
線状にまわりから効率よく除去できる。このため
部分的な乾燥がなくなり、そりとかわれの現象が
でにくいことが予想できる。
以下実施例により本発明の態様を更に詳しく説
明する。
明する。
実施例 １
エチルシリケート44.7ｇ、エタノール６ml、
0.1N塩酸40mlをフラスコにとり、３時間撹拌混
合し、エチルシリケートの加水分解を行なつた。
0.1N塩酸40mlをフラスコにとり、３時間撹拌混
合し、エチルシリケートの加水分解を行なつた。
加水分解後、この混合物を内径50mmのシヤーレ
にとつた。続いてシヤーレのふちに10μｍのシリ
コーンゴムを４個配置し、その上にガラス板でふ
たをし、60℃の恒温槽に乾燥するまで放置し、乾
燥ゲルとした。得られた乾燥ゲルは直径35mmであ
つた。更にこの乾燥ゲルを昇温速度13℃／ｈで
1000℃まで昇温し石英ガラスとした。
にとつた。続いてシヤーレのふちに10μｍのシリ
コーンゴムを４個配置し、その上にガラス板でふ
たをし、60℃の恒温槽に乾燥するまで放置し、乾
燥ゲルとした。得られた乾燥ゲルは直径35mmであ
つた。更にこの乾燥ゲルを昇温速度13℃／ｈで
1000℃まで昇温し石英ガラスとした。
尚石英ガラスの確認は比重、赤外線吸収スペク
トル、硬度、Ｘ線回折等の分析手段を用いて行な
つた。
トル、硬度、Ｘ線回折等の分析手段を用いて行な
つた。
以上述べたように、本発明によれば溶媒の蒸発
をつねに容器の外周からさせているので、部分的
に乾燥されることによつての歪を少なくすること
ができるので、割れの少ない安定したドライゲル
を得ることができる。
をつねに容器の外周からさせているので、部分的
に乾燥されることによつての歪を少なくすること
ができるので、割れの少ない安定したドライゲル
を得ることができる。
第１図はゾル−ゲル法により石英ガラスを製造
する場合の、乾燥ゲルの従来の製造装置を示す
図。図において、１はシヤーレ、２はアルミホイ
ル、３はピンホールを表わす。 第２図は本発明の製造法で用いる装置図であ
り、４はシヤーレ、５はふた、６はスペーサを表
わす。
する場合の、乾燥ゲルの従来の製造装置を示す
図。図において、１はシヤーレ、２はアルミホイ
ル、３はピンホールを表わす。 第２図は本発明の製造法で用いる装置図であ
り、４はシヤーレ、５はふた、６はスペーサを表
わす。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ アルキルシリケートを加水分解してゾル溶液
とし、前記ゾル溶液を平型の蓋つき容器に入れて
ゲル化したのち、乾燥、焼結する石英ガラスの製
造法において、 前記ゲル化に用いる平型容器の蓋を浮かせて、
前記蓋の外周部より溶媒を除去させて乾燥するこ
とを特徴とする石英ガラス製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8376082A JPS58199736A (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | 石英ガラス製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8376082A JPS58199736A (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | 石英ガラス製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58199736A JPS58199736A (ja) | 1983-11-21 |
| JPH025693B2 true JPH025693B2 (ja) | 1990-02-05 |
Family
ID=13811518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8376082A Granted JPS58199736A (ja) | 1982-05-18 | 1982-05-18 | 石英ガラス製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58199736A (ja) |
-
1982
- 1982-05-18 JP JP8376082A patent/JPS58199736A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58199736A (ja) | 1983-11-21 |
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