JPH0114177B2 - - Google Patents
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- JPH0114177B2 JPH0114177B2 JP14169984A JP14169984A JPH0114177B2 JP H0114177 B2 JPH0114177 B2 JP H0114177B2 JP 14169984 A JP14169984 A JP 14169984A JP 14169984 A JP14169984 A JP 14169984A JP H0114177 B2 JPH0114177 B2 JP H0114177B2
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 75
- 239000000499 gel Substances 0.000 claims description 42
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 19
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 17
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 11
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 5
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011240 wet gel Substances 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 28
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 description 8
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005262 decarbonization Methods 0.000 description 1
- 238000006298 dechlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、金属アルコキシドを原料とするゾル
ーゲル法において、ゾル溶液に微粉末シリカを添
加することにより、大きな石英ガラスを製造する
方法に関する。
ーゲル法において、ゾル溶液に微粉末シリカを添
加することにより、大きな石英ガラスを製造する
方法に関する。
石英ガラスは、高純度のものが製造できるよう
になつたため、最近では半導体の製造に使用する
ルツボ、ボードあるいは拡散炉の炉芯管に用いら
れるようになり、その有用性が認められている。
また、理化学用のビーカー等のガラス器具や光学
測定用のセルなどにも用いられ、さらには水酸基
の少ないものや光学的に均一のものが開発された
ことによつて、各種の光学的用途にも使用され、
特に光通信用の石英ガラスフアイバーやTFT(薄
膜トランジスタ)の基板への応用が最近注目され
るようになり、今後ますます需要が拡大するもの
と期待されている。
になつたため、最近では半導体の製造に使用する
ルツボ、ボードあるいは拡散炉の炉芯管に用いら
れるようになり、その有用性が認められている。
また、理化学用のビーカー等のガラス器具や光学
測定用のセルなどにも用いられ、さらには水酸基
の少ないものや光学的に均一のものが開発された
ことによつて、各種の光学的用途にも使用され、
特に光通信用の石英ガラスフアイバーやTFT(薄
膜トランジスタ)の基板への応用が最近注目され
るようになり、今後ますます需要が拡大するもの
と期待されている。
現在、石英ガラスは主に次の三種類の方法で製
造されている。
造されている。
1 天然水晶を洗浄し、これを溶融する方法。
2 高純度のSiCl4あるいはSiH4原料としてSiO2
を作る方法。
を作る方法。
3 天然珪砂を溶融する方法。
これらの方法は、いずれも高温での処理が必要
であることに加えて、石英ガラス特有の製造工程
の難しさから、得られる石英ガラスが非常に高価
なものとなつてしまうという欠点を有している。
であることに加えて、石英ガラス特有の製造工程
の難しさから、得られる石英ガラスが非常に高価
なものとなつてしまうという欠点を有している。
このようなことから、石英ガラスを安価に製造
する方法の実現が望まれており、その方法として
金属アルコキシドを原料とするゾルーゲル法によ
り石英ガラスを合成する方法と、超微粉末シリカ
を原料とするゾルーゲル法により石英ガラスを合
成する方法の二つの方法が、これまでに試みられ
ている。
する方法の実現が望まれており、その方法として
金属アルコキシドを原料とするゾルーゲル法によ
り石英ガラスを合成する方法と、超微粉末シリカ
を原料とするゾルーゲル法により石英ガラスを合
成する方法の二つの方法が、これまでに試みられ
ている。
金属アルコキシドを原料とするゾルーゲル法に
より、石英ガラスを安価に製造しようという試み
は、野上,守谷らによつてなされている(ジヤー
ナル・オブ・ノンクリスタリン・リリツズ
(Journal of Non―Crystalline Solids),P191
〜201,37,1980参照)。
より、石英ガラスを安価に製造しようという試み
は、野上,守谷らによつてなされている(ジヤー
ナル・オブ・ノンクリスタリン・リリツズ
(Journal of Non―Crystalline Solids),P191
〜201,37,1980参照)。
この方法の概略は、シリコンアルコキシド,
水,アルコールおよび塩酸やアンモニア等の適当
な触媒を混合し、加水分解後ゲル化し、さらに収
縮乾燥させてドライゲルとした後、このドライゲ
ルを加熱処理して無孔化し、石英ガラスとするも
のである。
水,アルコールおよび塩酸やアンモニア等の適当
な触媒を混合し、加水分解後ゲル化し、さらに収
縮乾燥させてドライゲルとした後、このドライゲ
ルを加熱処理して無孔化し、石英ガラスとするも
のである。
この方法は、原料のアルコキシドの精製が容易
なことから、純度の高い石英ガラスが得られると
いうことと、熱処理温度が低いために製造コスト
が安価であるという特徴を有している反面、ゲル
化後収縮乾燥させてドライゲルとする工程中に割
れが発生しやすいということと、さらに、ドライ
ゲルを加熱処理して石英ガラスとする工程におい
ても割れやすいということから、結局実用上充分
な大きさの石英ガラスを作成できないという欠点
を有している。文献でみるかぎり、現状では野
上、守谷らの研究によつて得られた28mmφの円板
状石英ガラスが最大のようである。
なことから、純度の高い石英ガラスが得られると
いうことと、熱処理温度が低いために製造コスト
が安価であるという特徴を有している反面、ゲル
化後収縮乾燥させてドライゲルとする工程中に割
れが発生しやすいということと、さらに、ドライ
ゲルを加熱処理して石英ガラスとする工程におい
ても割れやすいということから、結局実用上充分
な大きさの石英ガラスを作成できないという欠点
を有している。文献でみるかぎり、現状では野
上、守谷らの研究によつて得られた28mmφの円板
状石英ガラスが最大のようである。
次に、微粉末シリカを原料とするゾルーゲル法
により、石英ガラスを製造しようという試みはイ
ー・エム・ラビノビツヒ(E.M.Ravinovich)ら
によつて試みられている(ジヤーナル・オブ・ノ
ンクリスタリン・ソリツズ,P435〜439,47,
1982参照)。
により、石英ガラスを製造しようという試みはイ
ー・エム・ラビノビツヒ(E.M.Ravinovich)ら
によつて試みられている(ジヤーナル・オブ・ノ
ンクリスタリン・ソリツズ,P435〜439,47,
1982参照)。
この方法の概略は、微粉末シリカ(キヤボシル
(Cab―o―Sil),キヤボツト社の商品名)を水
に加えてヒドロゾルとした後ゲル化し、さらに収
縮乾燥させてドライゲルとした後、このドライゲ
ルを焼結して石英ガラスとするものである。
(Cab―o―Sil),キヤボツト社の商品名)を水
に加えてヒドロゾルとした後ゲル化し、さらに収
縮乾燥させてドライゲルとした後、このドライゲ
ルを焼結して石英ガラスとするものである。
この方法は、前述の金属アルコキシドを原料と
する方法に比べて、ドライゲル作成工程および焼
結工程中に割れやクラツクが発生しにくく、前述
の方法よりは大きな石英ガラスを製造しやすいと
いう特徴を有している。しかし、前述の文献によ
れば、実際に得られた石英ガラスは、95×15×5
mm(4%のB2O3を含む)程度で、まだ充分な大
きさと言えず、またこの程度の大きさの限界のよ
うに思われる。さらにこの方法は、気泡がゾル中
に取り込まれやすいため、結果として石英ガラス
中に無数の気泡が存在することになり、光学的な
均質性が得られないという欠点を有しており、光
学的特性を要求される分野への応用は期待できな
い。
する方法に比べて、ドライゲル作成工程および焼
結工程中に割れやクラツクが発生しにくく、前述
の方法よりは大きな石英ガラスを製造しやすいと
いう特徴を有している。しかし、前述の文献によ
れば、実際に得られた石英ガラスは、95×15×5
mm(4%のB2O3を含む)程度で、まだ充分な大
きさと言えず、またこの程度の大きさの限界のよ
うに思われる。さらにこの方法は、気泡がゾル中
に取り込まれやすいため、結果として石英ガラス
中に無数の気泡が存在することになり、光学的な
均質性が得られないという欠点を有しており、光
学的特性を要求される分野への応用は期待できな
い。
以上述べたように、これまでに試みられたゾル
ーゲル法による石英ガラスの製造方法では、いず
れも充分な大きさ、充分な品質を有する石英ガラ
スが得られておらず、各種の分野で実用化される
状況にはなつていない。
ーゲル法による石英ガラスの製造方法では、いず
れも充分な大きさ、充分な品質を有する石英ガラ
スが得られておらず、各種の分野で実用化される
状況にはなつていない。
本発明の目的は大面積の石英ガラス板あるいは
大きな体積の石英ガラス塊を製造できる方法の提
供および、製造上の歩留りを向上させることにあ
る。
大きな体積の石英ガラス塊を製造できる方法の提
供および、製造上の歩留りを向上させることにあ
る。
本発明の石英ガラスの製造方法は、金属アルコ
キシドを加水分解してなるゾル溶液に微粉末シリ
カを前記金属アルコキシド1モルに対して0.2〜
5モルの割合で添加する工程、前記微粉末シリカ
を添加してなるゾル溶液をゲル化した後、乾燥さ
せてドライゲルを作成する工程および前記ドライ
ゲルを焼結して石英ガラスとする工程からなる石
英ガラスの製造方法において、前記ゲル化および
ドライゲル作成工程における前記ゾル溶液を収容
する容器か疎水性の材質であることを特徴とす
る。
キシドを加水分解してなるゾル溶液に微粉末シリ
カを前記金属アルコキシド1モルに対して0.2〜
5モルの割合で添加する工程、前記微粉末シリカ
を添加してなるゾル溶液をゲル化した後、乾燥さ
せてドライゲルを作成する工程および前記ドライ
ゲルを焼結して石英ガラスとする工程からなる石
英ガラスの製造方法において、前記ゲル化および
ドライゲル作成工程における前記ゾル溶液を収容
する容器か疎水性の材質であることを特徴とす
る。
疎水性の材質としては、ポリプロピレン,ポリ
フツ化エチレン,ポリ塩化ビニル,ポリエチレ
ン,ポリスチレン等の有機ポリマーが最適であ
る。また、金属,ガラス等の無機材料の表面に前
記有機ポリマーを付着させたものでも良い。
フツ化エチレン,ポリ塩化ビニル,ポリエチレ
ン,ポリスチレン等の有機ポリマーが最適であ
る。また、金属,ガラス等の無機材料の表面に前
記有機ポリマーを付着させたものでも良い。
以下、本発明について実施例に基づき詳細に説
明する。
明する。
実施例 1
精製した市販のシリコンエトキシド208g(1モ
ル)に0.01規定の塩酸を280ml加え、激しく撹拌
し加水分解する。この溶液に微粉末シリカ(Cab
―o―sil:Cabot社の表面積200m2/gの微粉末
シリカの商品名)を72g(1.22モル)撹拌下加え
た。このゾルに0.1規定のアンモニア水を滴下し、
PHを4.5に調整した。このゾルをポリプロピレン
製の箱型容器(幅30cm×30cm×高さ10cm)に高さ
が1cmになるように仕込んだ。密閉して20℃で放
置すると30分後ゲル化し、更に一夜放置してウエ
ツトゲルを得た。
ル)に0.01規定の塩酸を280ml加え、激しく撹拌
し加水分解する。この溶液に微粉末シリカ(Cab
―o―sil:Cabot社の表面積200m2/gの微粉末
シリカの商品名)を72g(1.22モル)撹拌下加え
た。このゾルに0.1規定のアンモニア水を滴下し、
PHを4.5に調整した。このゾルをポリプロピレン
製の箱型容器(幅30cm×30cm×高さ10cm)に高さ
が1cmになるように仕込んだ。密閉して20℃で放
置すると30分後ゲル化し、更に一夜放置してウエ
ツトゲルを得た。
次に、穴の面積がフタの面積に対して2%(開
口率)のフタに替え、20℃から昇温スピード2
℃/hrで60℃に加熱した。7日間この温度で乾燥
させると、室温に放置しても割れない安定なドラ
イゲル(19cm×19cm×0.6cm)が得られた。同様
の乾燥をすると、2個が割れ、歩留り90%で18個
のドライゲルが得られた。
口率)のフタに替え、20℃から昇温スピード2
℃/hrで60℃に加熱した。7日間この温度で乾燥
させると、室温に放置しても割れない安定なドラ
イゲル(19cm×19cm×0.6cm)が得られた。同様
の乾燥をすると、2個が割れ、歩留り90%で18個
のドライゲルが得られた。
18個のドライゲルを焼結炉に入れ、室温から昇
温スピード60℃/hrで200℃まで加熱し、200℃で
1時間保持して脱吸着水処理の工程を行なつた。
つづいて昇温スピード180℃/hrで950℃まで加熱
し、950℃で180時間保持して脱炭素・脱塩化アン
モニウムの工程を行なつた。さらに昇温スピード
180℃/hrで1200℃まで加熱し、この温度で1.5時
間保持すると無孔化し、透明な石英ガラス(15cm
×15cm×0.5cm)となつた。この焼結過程では、
どのドライゲルも割れなくて、歩留り100%で18
個の石英ガラスが得られた。得られた石英ガラス
の近赤外吸収スペクトルを測定すると、市販の石
英ガラスと同様のピークがあらわれ、多少ピーク
の高さには差はあらわれたが、ほぼ一致している
と言える。また、比重は22、ビツカース硬度は
792Kg/mm2熱膨張係数5.4×10-7であり、これも市
販品とほぼ一致した。したがつて本発明の製造方
法による石英ガラスは、市販の石英ガラスと同一
物性であると言える。
温スピード60℃/hrで200℃まで加熱し、200℃で
1時間保持して脱吸着水処理の工程を行なつた。
つづいて昇温スピード180℃/hrで950℃まで加熱
し、950℃で180時間保持して脱炭素・脱塩化アン
モニウムの工程を行なつた。さらに昇温スピード
180℃/hrで1200℃まで加熱し、この温度で1.5時
間保持すると無孔化し、透明な石英ガラス(15cm
×15cm×0.5cm)となつた。この焼結過程では、
どのドライゲルも割れなくて、歩留り100%で18
個の石英ガラスが得られた。得られた石英ガラス
の近赤外吸収スペクトルを測定すると、市販の石
英ガラスと同様のピークがあらわれ、多少ピーク
の高さには差はあらわれたが、ほぼ一致している
と言える。また、比重は22、ビツカース硬度は
792Kg/mm2熱膨張係数5.4×10-7であり、これも市
販品とほぼ一致した。したがつて本発明の製造方
法による石英ガラスは、市販の石英ガラスと同一
物性であると言える。
実施例 2
実施例1と同様に調整したゾルをポリフツ化エ
チレン製の箱型容器(幅30cm×30cm×高さ10cm)
に高さが1cmになるように仕込んだ。密閉して20
℃で放置すると30分後ゲル化し、更に一夜放置し
た。
チレン製の箱型容器(幅30cm×30cm×高さ10cm)
に高さが1cmになるように仕込んだ。密閉して20
℃で放置すると30分後ゲル化し、更に一夜放置し
た。
次に穴の面積がフタルの面積に対して2%(開
口率)のフタに替え、20℃から昇温スピード2
℃/hrで60℃に加熱した。7日間この温度で乾燥
させると、室温に放置しても割れない安定なドラ
イゲル(19cm×19cm×0.6cm)が得られた。同様
の処理を同様の容器20個に仕込み、同様の乾燥を
すると、1個が割れ、歩留り95%で19個のドライ
ゲルが得られた。
口率)のフタに替え、20℃から昇温スピード2
℃/hrで60℃に加熱した。7日間この温度で乾燥
させると、室温に放置しても割れない安定なドラ
イゲル(19cm×19cm×0.6cm)が得られた。同様
の処理を同様の容器20個に仕込み、同様の乾燥を
すると、1個が割れ、歩留り95%で19個のドライ
ゲルが得られた。
19個のドライゲルを焼結炉に入れ、実施例1と
同様の焼結プログラムで加熱すると透明な石英ガ
ラス(15cm×15cm×0.5cm)となつた。この焼結
過程では割れなくて、歩留り100%で19個の石英
ガラスが得られた。
同様の焼結プログラムで加熱すると透明な石英ガ
ラス(15cm×15cm×0.5cm)となつた。この焼結
過程では割れなくて、歩留り100%で19個の石英
ガラスが得られた。
実施例 3
実施例1と同様に調整したゾルをポリ塩化ビニ
ル製の箱型容器(幅30cm×30cm×高さ10cm)に高
さが1cmになるように仕込んだ。密閉して20℃で
放置すると30分後ゲル化し、更に一夜放置した。
ル製の箱型容器(幅30cm×30cm×高さ10cm)に高
さが1cmになるように仕込んだ。密閉して20℃で
放置すると30分後ゲル化し、更に一夜放置した。
次に穴の面積がフタの面積に対して2%(開口
率)のフタに替え、20℃から昇温スピード2℃/
hrで60℃に加熱した。7日間この温度で乾燥させ
ると、室温に放置しても割れない安定なドライゲ
ル(19cm×19cm×0.6cm)が得られた。
率)のフタに替え、20℃から昇温スピード2℃/
hrで60℃に加熱した。7日間この温度で乾燥させ
ると、室温に放置しても割れない安定なドライゲ
ル(19cm×19cm×0.6cm)が得られた。
同様の処理を同様の容器20個に仕込み、同様の
乾燥をすると5個が割れ、歩留り75%で15個のド
ライゲルが得られた。
乾燥をすると5個が割れ、歩留り75%で15個のド
ライゲルが得られた。
15個のドライゲルを焼結炉に入れ、実施例1と
同様の焼結プログラムで加熱すると透明な石英ガ
ラス(15cm×15cm×0.5cm)となつた。この焼結
過程では割れなくて、歩留り100%で15個の石英
ガラスが得られた。
同様の焼結プログラムで加熱すると透明な石英ガ
ラス(15cm×15cm×0.5cm)となつた。この焼結
過程では割れなくて、歩留り100%で15個の石英
ガラスが得られた。
実施例 4
実施例1と同様に調整したゾルをポリエチレン
製の箱型容器(幅30cm×30cm×高さ10cm)に高さ
が1cmになるように仕込んだ。密閉して20℃で放
置すると30分後ゲル化し、更に一夜放置した。
製の箱型容器(幅30cm×30cm×高さ10cm)に高さ
が1cmになるように仕込んだ。密閉して20℃で放
置すると30分後ゲル化し、更に一夜放置した。
次に穴の面積がフタの面積に対して2%(開口
率)のフタに替え、20℃から昇温スピード2℃/
hrで60℃に加熱した。7日間この温度で乾燥させ
ると、室温に放置しても割れない安定なドライゲ
ル(19cm×19cm×0.6cm)が得られた。同様の処
理を同様の容器20個に仕込み、同様の乾燥をする
と3個が割れ、歩留り85%で17個のドライゲルが
得られた。
率)のフタに替え、20℃から昇温スピード2℃/
hrで60℃に加熱した。7日間この温度で乾燥させ
ると、室温に放置しても割れない安定なドライゲ
ル(19cm×19cm×0.6cm)が得られた。同様の処
理を同様の容器20個に仕込み、同様の乾燥をする
と3個が割れ、歩留り85%で17個のドライゲルが
得られた。
17個のドライゲルを焼結炉に入れ、実施例1と
同様の焼結プログラムで加熱すると透明な石英ガ
ラス(15cm×15cm×0.5cm)となつた。この焼結
過程では割れなくて、歩留り100%で17個の石英
ガラスが得られた。
同様の焼結プログラムで加熱すると透明な石英ガ
ラス(15cm×15cm×0.5cm)となつた。この焼結
過程では割れなくて、歩留り100%で17個の石英
ガラスが得られた。
実施例 5
実施例1と同様に調整したゾルをポリスチレン
製の箱型容器(幅30cm×30cm×高さ10cm)に高さ
が1cmになるように仕込んだ。密閉して20℃で放
置すると30分後ゲル化し、更に一夜放置した。
製の箱型容器(幅30cm×30cm×高さ10cm)に高さ
が1cmになるように仕込んだ。密閉して20℃で放
置すると30分後ゲル化し、更に一夜放置した。
次に穴の面積がフタの面積に対して2%(開口
率)のフタに替え、20℃から昇温スピード2℃/
hrで60℃に加熱した。7日間この温度で乾燥させ
ると、室温に放置しても割れない安定なドライゲ
ル(19cm×19cm×0.6cm)が得られた。同様の処
理を同様の容器20個に仕込み、同様の乾燥をする
と8個が割れ、歩留り60%で12個のドライゲルが
得られた。
率)のフタに替え、20℃から昇温スピード2℃/
hrで60℃に加熱した。7日間この温度で乾燥させ
ると、室温に放置しても割れない安定なドライゲ
ル(19cm×19cm×0.6cm)が得られた。同様の処
理を同様の容器20個に仕込み、同様の乾燥をする
と8個が割れ、歩留り60%で12個のドライゲルが
得られた。
12個のドライゲルを焼結炉に入れ、実施例1と
同様の焼結プログラムで加熱すると透明な石英ガ
ラス(15cm×15cm×0.5cm)となつた。この焼結
過程では割れなくて、歩留り100%で12個の石英
ガラスが得られた。
同様の焼結プログラムで加熱すると透明な石英ガ
ラス(15cm×15cm×0.5cm)となつた。この焼結
過程では割れなくて、歩留り100%で12個の石英
ガラスが得られた。
実施例 6
実施例1と同様に調整したゾルをアルミニウム
にポリフツ化エチレンをコーテイングした箱型容
器(幅30cm×30cm×高さ10cm)に高さが1cmにな
るように仕込んだ。密閉して20℃で放置すると30
分後ゲル化し、更に一夜放置した。
にポリフツ化エチレンをコーテイングした箱型容
器(幅30cm×30cm×高さ10cm)に高さが1cmにな
るように仕込んだ。密閉して20℃で放置すると30
分後ゲル化し、更に一夜放置した。
次に穴の面積がフタの面積に対して2%(開口
率)のフタに替え、20℃から昇温スピード2℃/
hrで60℃に加熱した。7日間この温度で乾燥させ
ると、室温に放置しても割れない安定なドライゲ
ル(19cm×19cm×0.6cm)が得られた。同様の処
理を同様の容器20個に仕込み、同様の乾燥をする
と3個が割れ、歩留り85%で17個のドライゲルが
得られた。
率)のフタに替え、20℃から昇温スピード2℃/
hrで60℃に加熱した。7日間この温度で乾燥させ
ると、室温に放置しても割れない安定なドライゲ
ル(19cm×19cm×0.6cm)が得られた。同様の処
理を同様の容器20個に仕込み、同様の乾燥をする
と3個が割れ、歩留り85%で17個のドライゲルが
得られた。
17個のドライゲルを焼結炉に入れ、実施例1と
同様の焼結プログラムで加熱すると透明な石英ガ
ラス(15cm×15cm×0.5cm)となつた。この焼結
過程では割れなくて、歩留り100%で17個の石英
ガラスが得られた。
同様の焼結プログラムで加熱すると透明な石英ガ
ラス(15cm×15cm×0.5cm)となつた。この焼結
過程では割れなくて、歩留り100%で17個の石英
ガラスが得られた。
実施例 7
実施例1と同様に調整したゾルをポリプロピレ
ン製の箱型容器(幅30cm×30cm×高さ15cm)に高
さが6cmになるように仕込んだ。密閉して20℃で
放置すると30分後ゲル化し、更に一夜放置した。
ン製の箱型容器(幅30cm×30cm×高さ15cm)に高
さが6cmになるように仕込んだ。密閉して20℃で
放置すると30分後ゲル化し、更に一夜放置した。
次に穴の面積がフタの面積に対して2%(開口
率)のフタに替え、20℃から昇温スピード2℃/
hrで60℃に加熱した。30日間この温度で乾燥させ
ると、室温に放置しても割れない安定なドライゲ
ル(19cm×19cm×4cm)が得られた。同様の処理
を同様の容器20個に仕込み、同様の乾燥をすると
5個が割れ、歩留り75%で15個のドライゲルが得
られた。
率)のフタに替え、20℃から昇温スピード2℃/
hrで60℃に加熱した。30日間この温度で乾燥させ
ると、室温に放置しても割れない安定なドライゲ
ル(19cm×19cm×4cm)が得られた。同様の処理
を同様の容器20個に仕込み、同様の乾燥をすると
5個が割れ、歩留り75%で15個のドライゲルが得
られた。
15個のドライゲルを焼結炉に入れ、実施例1と
同様の焼結プログラムで加熱すると透明な石英ガ
ラス(15cm×15cm×3cm)となつた。この焼結過
程では割れなくて、歩留り100%で15個の石英ガ
ラス塊が得られた。
同様の焼結プログラムで加熱すると透明な石英ガ
ラス(15cm×15cm×3cm)となつた。この焼結過
程では割れなくて、歩留り100%で15個の石英ガ
ラス塊が得られた。
以上数種類の材質の容器について実施例を示し
たが、ゲルと容器の間の親和力が弱く、なるべく
ゲルがすべり易い疎水性の材質ならば、大型の石
英ガラスを製造することができる。
たが、ゲルと容器の間の親和力が弱く、なるべく
ゲルがすべり易い疎水性の材質ならば、大型の石
英ガラスを製造することができる。
また、ゾルに超音波をかけたり、遠心分離によ
つてダマ状物を取り除き均一度の高いゾルを調整
すると歩留りは更に向上する。開口率,乾燥温
度,容器の形状等を変えることによつて、歩留り
が向上する可能性もある。ここに挙げた実施例は
あくまでも一実施例にすぎないものである。
つてダマ状物を取り除き均一度の高いゾルを調整
すると歩留りは更に向上する。開口率,乾燥温
度,容器の形状等を変えることによつて、歩留り
が向上する可能性もある。ここに挙げた実施例は
あくまでも一実施例にすぎないものである。
以上述べたように本発明によれば、ゾル―ゲル
法による石英ガラスの製造方法において、ゲル化
およびドライゲル作成工程におけるゾル溶液を収
容する容器に疎水性の材質を用いることにより、
ゲルと容器の間の親和力が弱くゲルがすべり易い
為、大面積の石英ガラス板あるいは大きな体積の
石英ガラス塊を製造することが可能になり、高い
歩留りを有した。
法による石英ガラスの製造方法において、ゲル化
およびドライゲル作成工程におけるゾル溶液を収
容する容器に疎水性の材質を用いることにより、
ゲルと容器の間の親和力が弱くゲルがすべり易い
為、大面積の石英ガラス板あるいは大きな体積の
石英ガラス塊を製造することが可能になり、高い
歩留りを有した。
Claims (1)
- 1 金属アルコキシドの加水分解溶液に微粉末シ
リカを添加してゾル溶液とし、前記ゾル溶液を容
器に入れてゲル化してウエツトゲルとし、前記容
器の蓋を開口部を有する蓋に変えて前記ウエツト
ゲルを乾燥、焼結する石英ガラスの製造方法にお
いて、前記石英ガラスの製造方法に用いる容器の
材質が疎水性有機ポリマーであることを特徴とす
る石英ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14169984A JPS60131834A (ja) | 1984-07-09 | 1984-07-09 | 石英ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14169984A JPS60131834A (ja) | 1984-07-09 | 1984-07-09 | 石英ガラスの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23757783A Division JPS60131833A (ja) | 1982-12-23 | 1983-12-16 | 石英ガラスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60131834A JPS60131834A (ja) | 1985-07-13 |
JPH0114177B2 true JPH0114177B2 (ja) | 1989-03-09 |
Family
ID=15298147
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14169984A Granted JPS60131834A (ja) | 1984-07-09 | 1984-07-09 | 石英ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60131834A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63166730A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-09 | Shinetsu Sekiei Kk | 石英ガラスの製造方法 |
KR100549422B1 (ko) * | 1999-03-16 | 2006-02-06 | 삼성전자주식회사 | 졸-겔 공정용 실리카 글래스 조성물 및 이를 이용한 실리카 글래스의 제조방법 |
JP4712879B2 (ja) | 2009-02-19 | 2011-06-29 | 公立大学法人首都大学東京 | 含水湿潤ゲルの乾燥方法及び含水湿潤ゲルの乾燥装置 |
CN110790489A (zh) * | 2019-11-28 | 2020-02-14 | 福建工程学院 | 一种低维材料掺杂的无水解凝胶玻璃的制备方法 |
-
1984
- 1984-07-09 JP JP14169984A patent/JPS60131834A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60131834A (ja) | 1985-07-13 |
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