JPS6054928A - 石英ガラスの製造方法 - Google Patents

石英ガラスの製造方法

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JPS6054928A
JPS6054928A JP16074583A JP16074583A JPS6054928A JP S6054928 A JPS6054928 A JP S6054928A JP 16074583 A JP16074583 A JP 16074583A JP 16074583 A JP16074583 A JP 16074583A JP S6054928 A JPS6054928 A JP S6054928A
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JP
Japan
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quartz glass
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silica
gel
mixed
Prior art date
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Pending
Application number
JP16074583A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuhiko Takeuchi
哲彦 竹内
Sadao Kanbe
貞男 神戸
Motoyuki Toki
元幸 土岐
Satoru Miyashita
悟 宮下
Haruo Nagafune
長船 晴夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
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Publication date
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Priority to JP16074583A priority Critical patent/JPS6054928A/ja
Publication of JPS6054928A publication Critical patent/JPS6054928A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C1/00Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
    • C03C1/006Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、石英ガラスの製造方法に関り、さらに詳しく
は、アルへ′ルシリケートおよび微粉末シリカを主原料
とするゾル−ゲル法による低温での石英ガラスの製造法
において、アルキルシリケート、水、塩酸等の原料混合
溶液に、微粉末シリカを添加、混合L、ある程度の分散
状態に達し、PH値が一定となった時点でアンモニア水
等の塩基性水溶液により、P H値を05〜1.0Fi
’度1−列させてから、以彼の分散操作を行ないゲルを
作シlしさらにこhを焼結する透明均質な石英ガラスの
製造法に関する。
まず石英ガラスの有用性について触れることにする。近
年、石英ガラスは銅、ホウ素等の不純物濃度が0.17
)7+711以下の高純IWのものが製薯告されるよう
になった7r・め、ゲルマニウム、シリコン、その他の
半導体!FJ i% 、TL程におき、ルツボやボード
、拡散炉の炉心管など幅広く用いらノ1.るようになり
また理化学用ビーカー、光学測定用のセルと1うてもよ
く使用され、さらに水酸ノー:含有用の少ないものおよ
び光学的均一性に優れた高品質々ものが開発され、各種
の光学的用途に使用され、特に光通信用の石英ガラスフ
ァイバーは、注目されている。
このよらに必要性の高い石英ガラスは、現在、一般に次
に示すり連りの方法でF!!されている。
1)天然水晶を洗浄し、これを溶融する方法2)高純1
dBiOhまfCn EIiH4f yicネ」とL”
rsiozを作る方法 3)天然珪砂を溶融する方法(泡を含む石英ガラスが得
られる) しか17、以上のいずれの製造方法を用いても、原料費
が高価であるこ2および高温での処理が必要であること
などのために、石英ガラスは非常に高価なものになって
いる。
そこで石英ガラスの安価な製造法として、特に注目をあ
びているのがゾル−ゲル法による低温での石英ガラスの
製造法である。このゾル−ゲル法になる石英ガラス製造
法の特徴としては1)水晶を原料として高温溶融法で製
造する場合に比べ低温で製造可能なため省エネルギー的
である。
2)原料が精製容易なため高純度のガラスが得られる。
3)粘性の低い溶液を原料として用いるために均質なガ
ラスが得られる。
などがあげられる。このように、和点が多いためこの方
法を利用する石英ガラスの製造法に関してさまざまな所
で幅広く研究されている。しかしながら、これまでに発
表されている資料等によると未解決の種々の間四点があ
り実用化まで至っていないのが工17状である。
このようなゾル−ゲル法の一手法と[7て次の方法が考
案されている。すなわち、適当なアルキルシリケートF
l?:(OR)、(Rは炭素1〜1oのアルキル基)、
適当なアルコール溶液(含水)、塩酸、および微粉末シ
リカを混合、分散させシリカゾルとし、アンモニア水等
によりP H値の調整、熱処理等の処理を加えることに
よりシリカゲルとする。
こ、−で得られた塊状のシリカゲルを炉に入れ所定のプ
ログラムで焼結を行にい石英ガラスとするものであるが
、この方法の問題、壱として、原料を混合しゾルとし、
攪拌、超音波振動等による分散操作を行ないこの後ゲル
化させる(通常PH=2.2〜2.6)と、ゲル化に長
時間を要するため粒子は均一であるが、重合速度が遅く
バルクのゲルの歩留りが悪く収縮途中でクラ・ツクがけ
いったり割れてしまう。この対処策とi〜て、分散操作
終了時にアンモニア水等の環基を用いPH値を4.5〜
55程度に調整することで、バルクのグルの歩留りは、
かなり向上するものの、この場合には、どうしてもゾル
中のPH値が不均一であり、重合速度が速いためにゲル
化時間が短かく、均一な粒子成長が困難であり、かなり
の粒度分布をもってゲル化する。このため、得られた乾
燥ゲルを焼結し、石英ガラスとした際に、このガラス中
には、かなりの気泡、結晶等が含有されていて低品質な
石英ガラスしか得られない。
そこで本発明の目的は、重合速度が適当で、粒子成長が
均一であるゾルを調整し、これをゲル化乾燥し、バルク
の乾燥ゲルを得る透明均質な石英ガラスの製造法を提供
することである。
前述の条件を満たすような石英ガラスの製造方法として
次のような方法を考案した。
すなわち、エチルシリケート、水、アルコール(有無ど
ちらも可)および塩酸を混合し加水分解溶液を調製、こ
れに微粉末シリカ(例えば商品名Aerosil CD
igussa社)、Frans i l (yrans
 o 1社)、 5− Cab−o−8il (On、hot社)、D、 o、
 5ilica (Dnw r:nr??inq社)、
およびArc 5ili;ca (p t・a社)を混
合攪拌し、PH値が一定となったところで、アンモニア
水等でPH値を05〜10上昇させる。この後攪拌、超
音波による分散、遠心分離、ろ過などの操作を加え容器
に移12ゲル化させる。これを乾燥1゜得られた乾燥ゲ
ルを炉に入れ焼結するというものである。この方法を用
いると、PH値が05〜1゜0高いことにより、適当な
重合速度が得られ、ゲル化時間も適当で以後の分散操作
を加えることができ粒子成長が均一な状態でゲル化し、
かつバルクのゲルが製造可能である。このため、ここで
得られた乾燥ゲルを焼結すると透明均質で、気泡。
結晶等はとんど皆無な石英ガラスが得られる。なおP)
(値の上昇が0.5以下では、重合速度に与える効果が
小さく、10以−1にとなると、重合速度が速すぎて充
分な分散状態が得られないうちにゲル化してしまい不適
当である。
以下、実施例に従い本発明の内容をさらに詳細に説明す
る。
 6− 実施例1 市P反のエチルシリケ−1□ (5i(OF2)4>2
64m1 と0、0 I N HC1216m1を混合
激しく攪拌し加水分解反応を行なった。加水分子@終了
後、攪拌を継続し7この溶液に微粉末シリカ(商品名A
l08IL OX 50)90gを徐々に添加した。添
加後も攪拌を継続し10分程でPH値が25でほぼ一定
とがった。ここで0. I Nのアンモニア水を滴下し
PH値の調整を行なった。こに、では同様の原料でPH
=2.8,3.0゜33の3種類のPH値のゾルを調製
した。P H値の調製後、ゾルの分散を高めるため、攪
拌を2時間、超音波を2時間かけ、遠心分離(3ooo
γpm。
10分間)し、ろ過(40nmeshのポリプロピレン
製シート)後、容器(ポリプロピレン!B27 X 2
2cm)に移し、蓋をし密閉状態にて、室温でゲル化さ
せた。ゲル化時間は、PH値、室温(20〜25℃)で
弱干異なるが、容器に移した後5〜15時間を要した。
ゲル化後、収縮が始まった時点で蓋を乾燥速度の調節可
能なものに取り替え、乾燥機に入れ60℃で6日間の乾
燥後、1 B、2X 14.I Xo、6−の板状の乾
燥デルを得た。なおこの乾燥ゲルの大きさ、および乾燥
時間dPH値の違いには左右されず等しかった。この乾
燥グルを焼結炉に投入し、昇温速度180°C/h、r
で加熱焼結したところ、1230℃で透明な12,7x
9,8X0.4 cmの板状の石英ガラスを得た。この
石英ガラスを光学顕g!僻で観察したところ、この手法
の問題点である気泡、結晶等は皆無な状態であり非常に
高品質であることが判明1゜た。また、この石英ガラス
の諸物性分析の結果もビッカース硬変80 ()fAm
 2、比重2.2であり、赤外吸収スペクトル、近赤外
吸収スペクトル、および屈折率などそれぞれ溶融石英ガ
ラスと全く一致し完全な石英ガラスであることが’I!
ll明した。
実施例2 実施例1と同様の原料を用いて■PH値を訴1整しな1
ハ場合(PH=2.3)、■P H値を15−に昇し7
た場合(PH=1!、、8)、■PH値を30+荷1.
た場合(PH=5.3)の3flII類のゾルを調製し
、以後、実施例1と同様の分散操作を行なった。この結
果を順次列挙すると、■のJJ%合ゲルまでに6〜40
間を要し、分散後の乾燥の段階で粉々に割れてしまった
。しかし破片を実施例1と同様に焼結17たところ、実
施例1と係合のない石英ガラスが得られた、■の場合は
、重合速度が速いため、分散工程中に粘性が急」二昇し
、均質なゾルが得られず、こ−hを実施例1と同様にゲ
ル化、乾燥して得た乾燥ゲルを焼結したところ、ガラス
中に多数の気泡および結晶を含有していた。■の場合に
は、PH値を5゜3に調整17てから、30分後ぐらい
からゲル化が起こり以後の操作が不可能となった。
以上、実施例をあげて示17たように、重合速度はPH
値に犬きく左右される。このため適当な速度、つまりゲ
ル化までに充分ゾルの分散性を高める操作が可能であり
、これを害さない程度の重合速度にPH値を制御するこ
とが、バルクでしかも高品質な石英ガラス製造の必要条
件の一つである。
この点に関して本発明の方法は充分に満足するものであ
る。
このようにじて本発切により製造される石英ガラスは、
従来の方法(溶融法)による石英ガラス 9− 製造より低コストでできる等の大きな利倣によりこれま
で、石英ガラスを使用していた分野(例えば、理化学用
機器、IC製造工程中のフォト−vスフ、炉心管のボー
 ドなど)でに1、もちろんのこと品質的にも非常にp
好なガラスが容易K ’1%られるため、光学的用途等
、さらに広範囲にその応用が広がってゆくものと考える
以 8」− 出願人 株式会社 諏訪精工舎 代理人 弁理士 最」−務 −1〇 −

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. アルキルシリケートおよび微粉末シリカを主原料として
    用いるゾル−ゲル法において、原料を混合後、ゾル中に
    微粉末シリカがある程度分散1. PH値が一定となっ
    た状態で、PH値を05〜10程変高くしてから以後の
    分散操作を行−7″Iととを
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Cited By (8)

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