JPS5978948A - 石英ガラスの製造法 - Google Patents
石英ガラスの製造法Info
- Publication number
- JPS5978948A JPS5978948A JP18961182A JP18961182A JPS5978948A JP S5978948 A JPS5978948 A JP S5978948A JP 18961182 A JP18961182 A JP 18961182A JP 18961182 A JP18961182 A JP 18961182A JP S5978948 A JPS5978948 A JP S5978948A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica sol
- quartz glass
- mixture
- silicic acid
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は石英ガラスの製造法に係り、更に詳しくはタル
キルシリケート/Si(OR)4.Rは炭素数1〜7の
アルキル基を示す。以下のアルキルシリケートは同様の
童味である。)を加水分解して得たシリカゾルとケイ酸
微粉末の混合工程後、す(な(とも超音波による混合工
程、又はr過処理工程ケいれ、しかる後、乾燥ゲルとし
、該乾燥ゲルを焼成してガラスとする石英ガラスの製造
法に関する。
キルシリケート/Si(OR)4.Rは炭素数1〜7の
アルキル基を示す。以下のアルキルシリケートは同様の
童味である。)を加水分解して得たシリカゾルとケイ酸
微粉末の混合工程後、す(な(とも超音波による混合工
程、又はr過処理工程ケいれ、しかる後、乾燥ゲルとし
、該乾燥ゲルを焼成してガラスとする石英ガラスの製造
法に関する。
昨今の技術分野をみると、高純度物質を扱う機会や特殊
な強度、あるいは特性を有する材料を必要とする機会が
ふえている。
な強度、あるいは特性を有する材料を必要とする機会が
ふえている。
石英ガラスは耐fビ学性に優れ、また1000℃程度の
高温賽で使用でき、極低膨張性のため耐熱衝撃性が大き
い優れたガラスである。このため現在工0製造用の炉心
管、又は工C製造のフォトマスク用基盤として大量に使
用されており、今後更に応用範囲が広がるであろう。
高温賽で使用でき、極低膨張性のため耐熱衝撃性が大き
い優れたガラスである。このため現在工0製造用の炉心
管、又は工C製造のフォトマスク用基盤として大量に使
用されており、今後更に応用範囲が広がるであろう。
しかし、石英ガラスは非常に高価であるため。
安価な石英ガラスの製造方法が望オれている。
この安価な製造法として最近特に注目されている技術は
ゾル−ゲル法による石英ガラスの製造法である。
ゾル−ゲル法による石英ガラスの製造法である。
このゾル−ゲル法による石英ガラスの製造法について述
べると以下の通りである。
べると以下の通りである。
エチルシリケート(5i(00雰H,)4 をエタノ
ール溶液に溶解し、アンモニヤ等の塩基性物質、又は塩
酸等の酸性物質を加えるかして、エチルシリケート?加
水分解し、シリカゾルとする。続いて溶媒濃縮、加熱等
の処理により乾燥ゲルとする。
ール溶液に溶解し、アンモニヤ等の塩基性物質、又は塩
酸等の酸性物質を加えるかして、エチルシリケート?加
水分解し、シリカゾルとする。続いて溶媒濃縮、加熱等
の処理により乾燥ゲルとする。
得られた塊状の乾燥ゲルを炉に入れ焼成することにより
石英ガラスとする。これがゾル−ゲル法による石英ガラ
スの製造法である。この方法の特徴のいくつかは次のと
うりである。
石英ガラスとする。これがゾル−ゲル法による石英ガラ
スの製造法である。この方法の特徴のいくつかは次のと
うりである。
1、 水晶全原料として高温溶融法で作る場合工りも低
温ででき省エネルギー的である。
温ででき省エネルギー的である。
2、 精製容易な原料を用いるため高純度のガラスを得
ることができる。
ることができる。
3、粘性の低い溶媒を原料とするため高均質なガラスが
得られる。
得られる。
このような優れた特性を有するためこの方法は色々なと
ころではげ広く研究されている。しかし今寸で発表され
た文献等でみるかぎり1色々な問題があり、実用化には
至っていない。
ころではげ広く研究されている。しかし今寸で発表され
た文献等でみるかぎり1色々な問題があり、実用化には
至っていない。
上記ゾル−ゲル法の製造において、加水分解時酸性物質
を用いるか、塩基性物質を用いるかで問題が異なるので
、これらの問題点について分けて、簡単に説明する。
を用いるか、塩基性物質を用いるかで問題が異なるので
、これらの問題点について分けて、簡単に説明する。
加水分解に酸性物質ifいる場合の問題の一つけ、得ら
れた乾燥ゲルの熱処理時発泡することである。この原因
の一つは乾燥ゲル中にシラノール基が多数存在するため
、比較的低温で粘性が下がり、空孔がふさがり、この結
果、高温にてシラノール基2個よりできる水が逃げられ
ないことにある。
れた乾燥ゲルの熱処理時発泡することである。この原因
の一つは乾燥ゲル中にシラノール基が多数存在するため
、比較的低温で粘性が下がり、空孔がふさがり、この結
果、高温にてシラノール基2個よりできる水が逃げられ
ないことにある。
又、塩基性物質を加水分解に甲いた場合、発泡の問題は
解決されているが、酸性物質を用い友場合に比べて大き
な乾燥ゲルが得られない点が問題となる。この原因はア
ンモニア等の塩基性物質を用いた場合1反応が網状に進
むのではなく、粒状物質を作るように進み1粒間の結合
力が弱いためである。
解決されているが、酸性物質を用い友場合に比べて大き
な乾燥ゲルが得られない点が問題となる。この原因はア
ンモニア等の塩基性物質を用いた場合1反応が網状に進
むのではなく、粒状物質を作るように進み1粒間の結合
力が弱いためである。
このような二方法の欠点を除く方法として、最近、ケイ
酸微粉末(例えばCab−o−sil(CabOt
社製)、 Aerosil (Degusea社製)F
raneil (Fransi1社製)、:O,a%
5ilica (Dow Oorning社製’) 、
Tokusil(徳山ソーダ類) ) とシリカゾル
を混合する方法が注目されている。
酸微粉末(例えばCab−o−sil(CabOt
社製)、 Aerosil (Degusea社製)F
raneil (Fransi1社製)、:O,a%
5ilica (Dow Oorning社製’) 、
Tokusil(徳山ソーダ類) ) とシリカゾル
を混合する方法が注目されている。
この方法の概略を示すと次のとうりである。
まず前記1kK酸、又は、アンモニアによる方法により
、アルキルシリケートの加水分解を行ない、シリカゾル
とする。続いてこのシリカゾルにケイ酸微粉末、例えば
Oa b−o−F311 (粒径的100X)加え混
合する。混合後、適当な容器1例えばガラスシャーレ、
テフロンシャーレ、ソノ他1tll脂製シャーレ、タッ
パ−等にいれ、乾燥固化させる。
、アルキルシリケートの加水分解を行ない、シリカゾル
とする。続いてこのシリカゾルにケイ酸微粉末、例えば
Oa b−o−F311 (粒径的100X)加え混
合する。混合後、適当な容器1例えばガラスシャーレ、
テフロンシャーレ、ソノ他1tll脂製シャーレ、タッ
パ−等にいれ、乾燥固化させる。
乾燥固fヒ後、焼成することにニジ、ガラス化させ、石
英ガラスとする方法である。
英ガラスとする方法である。
この方法の特徴は次のとうりである。
1、 粒状のケイ酸微粉末を用いるため、焼成時、比較
的高幅寸で、発生した水分の逃げ道が微粉末間に確保さ
れ、シラノール基の濃度がある値(約o、 a w t
% )以下になると初めて空孔を閉じるため発泡しな
い。
的高幅寸で、発生した水分の逃げ道が微粉末間に確保さ
れ、シラノール基の濃度がある値(約o、 a w t
% )以下になると初めて空孔を閉じるため発泡しな
い。
2、 アンモニア等の塩基性物質ケ用いる前記方法では
結合力が弱く大きな乾燥ゲルが得られなかったのに対し
、適当量の酸性物質による加水分解物、すなわちシリカ
ゾルがケイ酸微粉末の結合剤の役をはたすため、比較的
簡単に乾燥ゲルが得られ、大きな石英ガラスtmること
かできる。
結合力が弱く大きな乾燥ゲルが得られなかったのに対し
、適当量の酸性物質による加水分解物、すなわちシリカ
ゾルがケイ酸微粉末の結合剤の役をはたすため、比較的
簡単に乾燥ゲルが得られ、大きな石英ガラスtmること
かできる。
ケイ酸微粉末を用いる方法にはこのような利点があるが
、未だ再現性に幾分問題があり、現在のところ量産段階
に至っていない。
、未だ再現性に幾分問題があり、現在のところ量産段階
に至っていない。
この方法の問題点はケイ酸微粉末を混合するとき、微粉
末が完全に分散できなくて、大きな塊りで存在すること
である。この結果、大きな塊りの間には広い空間ができ
その間にシリカゾルが入り込み、部分的に酸性物質を加
水分解に用いた場合と同様な効果があられれ1発泡する
。
末が完全に分散できなくて、大きな塊りで存在すること
である。この結果、大きな塊りの間には広い空間ができ
その間にシリカゾルが入り込み、部分的に酸性物質を加
水分解に用いた場合と同様な効果があられれ1発泡する
。
本発明の目的はかかる欠点を改良することにあり、他の
目的は安価な石英ガラスの製造法を提供することにある
。
目的は安価な石英ガラスの製造法を提供することにある
。
本発明はケイ酸微粉末とアルキルシリケートの加水分解
物km会合後更に超音波印加による混合工程、又は、フ
ィルターによるr過工程をいれること全特徴とするが、
その概略を述べると以下のとうりである。
物km会合後更に超音波印加による混合工程、又は、フ
ィルターによるr過工程をいれること全特徴とするが、
その概略を述べると以下のとうりである。
咬ず適尚量のアルキルシリケートを溶かしたアルコール
溶液に塩酸溶液を加える。(塩酸溶液にアルコール百〜
用いないで直接アルギルシリケートを加えても良い)、
混合後、加水分解を充分に行なってから、このシリカゾ
ル溶液に攪拌しながらケイ酸微粉末を徐々に加λる。ケ
イ酸微粉末の粒径は5(IK〜toooX位寸で可能で
あるが100に位が適当である。ケイ酸微粉末添加後、
更に攪拌混合する。゛混合後、混合溶液に超音波全印加
し、更に均一に分散させる。分散の程度はほとんど透明
な溶液になる位にする。場合によってはこの後、フィル
ター(適当な規格のもので良いが、#2程度が良好であ
る)によシe遇する。
溶液に塩酸溶液を加える。(塩酸溶液にアルコール百〜
用いないで直接アルギルシリケートを加えても良い)、
混合後、加水分解を充分に行なってから、このシリカゾ
ル溶液に攪拌しながらケイ酸微粉末を徐々に加λる。ケ
イ酸微粉末の粒径は5(IK〜toooX位寸で可能で
あるが100に位が適当である。ケイ酸微粉末添加後、
更に攪拌混合する。゛混合後、混合溶液に超音波全印加
し、更に均一に分散させる。分散の程度はほとんど透明
な溶液になる位にする。場合によってはこの後、フィル
ター(適当な規格のもので良いが、#2程度が良好であ
る)によシe遇する。
攪拌混合後、均一に分散している場合は、フィルターに
よるIJ−J過のみでも目的の特性を得ることができる
。
よるIJ−J過のみでも目的の特性を得ることができる
。
このような処理した後、混合液を適当な材質(テフロン
、ポリプロピレン、ホリエチレン、ガラス等)の容器に
いれ乾燥し、乾燥ゲルとする。
、ポリプロピレン、ホリエチレン、ガラス等)の容器に
いれ乾燥し、乾燥ゲルとする。
続いてこの乾燥ゲルを適当な昇温プログラムで熱処理す
ることによシ石英ガラスを得ることができる。
ることによシ石英ガラスを得ることができる。
このような工程を径ることにエリ、従来の方法ではケイ
酸微粉末が塊状状態であったり、不均一に分散するため
、焼成過程で発泡する工うなことがあったが、このよう
な事は除かれた。
酸微粉末が塊状状態であったり、不均一に分散するため
、焼成過程で発泡する工うなことがあったが、このよう
な事は除かれた。
以下実施例により本発明の詳細な説明
実施例
エチルシリケートAAmlとエタノール5.4 ml
f混合し、この混合液を01N塩酸S6d.に加え。
f混合し、この混合液を01N塩酸S6d.に加え。
50分間攪拌混合した。混合後、この溶液を攪拌しなが
らcab−o−sin Bgを徐々に加え、添加後も
しばらく攪拌した。攪拌後,超音波洗浄槽(超音波洗浄
槽)に混合液のはいったビーカー金つけ,超音波による
攪拌、混合全1時間行なった。
らcab−o−sin Bgを徐々に加え、添加後も
しばらく攪拌した。攪拌後,超音波洗浄槽(超音波洗浄
槽)に混合液のはいったビーカー金つけ,超音波による
攪拌、混合全1時間行なった。
超音波による攪拌後、混合液をテフロン製シャーレ(直
径1o cm. Jiみ2 cm )にとり、適当な乾
燥速度により乾燥した。最後は1日90℃で乾燥した。
径1o cm. Jiみ2 cm )にとり、適当な乾
燥速度により乾燥した。最後は1日90℃で乾燥した。
続いてできた乾燥ゲルを炉に入れ、昇温速度180℃/
時間で1200゜Ctで熱処理して石英ガラスとした。
時間で1200゜Ctで熱処理して石英ガラスとした。
石英ガラスの確認は赤外線吸収スペクトル、ビツカース
硬度,X線回析、線膨張率等の物性値を比較することに
より行なった。
硬度,X線回析、線膨張率等の物性値を比較することに
より行なった。
得られたガラスを光学研摩したところ非常にきねいな表
面を崩す直径’l.scrnのガラスが得られた。
面を崩す直径’l.scrnのガラスが得られた。
実施例
実施例1と同様にしてメチルシリケート33一を用い試
験を行なったところ、実施例1と同様な結果が得られた
。
験を行なったところ、実施例1と同様な結果が得られた
。
実施例5、
市販の四塩什シランとアミルアルコールを用い作ったア
ミルシリケート全原料とし,実施例1と同様な試験を行
なったところ、同様な結果が得られた。
ミルシリケート全原料とし,実施例1と同様な試験を行
なったところ、同様な結果が得られた。
実施例4。
エチルシリケート4’mlと工iノール5.Amlk混
合し、この混合液を012封塩酸30−に加え30分間
攪拌混合した。混合後、この溶液を攪拌しながらC a
b−0−13 1 1 6 g f徐々に加えた、
添加後、均一に分散させるため、更に3時間、激しく攪
拌した。充分に混合できたところで#2のガラスフィル
ターでP過し,Cab−o−sinの塊りを除いた● f過後、r液をポリプロピレン製タッパ−(直径1 1
cm )に入れ、適当量の穴のあいkふ7cヲして乾
燥機に入れ、最初50゜Cでl日程乾燥し、除徐に温度
を上げ、最後90℃で1日乾燥した。
合し、この混合液を012封塩酸30−に加え30分間
攪拌混合した。混合後、この溶液を攪拌しながらC a
b−0−13 1 1 6 g f徐々に加えた、
添加後、均一に分散させるため、更に3時間、激しく攪
拌した。充分に混合できたところで#2のガラスフィル
ターでP過し,Cab−o−sinの塊りを除いた● f過後、r液をポリプロピレン製タッパ−(直径1 1
cm )に入れ、適当量の穴のあいkふ7cヲして乾
燥機に入れ、最初50゜Cでl日程乾燥し、除徐に温度
を上げ、最後90℃で1日乾燥した。
乾燥後得られた乾燥ゲルを炉にいれ,昇温速度180℃
/時間で1200℃捷で焼成した。石英ガラスの確認は
実施例1と同様に行なった。
/時間で1200℃捷で焼成した。石英ガラスの確認は
実施例1と同様に行なった。
得られた石英ガラスを光学研摩したところ、直径5,1
αの非常に表面のきれいなガラスが得られたO 実施例5゜ エチルシリケート447!と0.1N塩酸36−をビー
カーにとり、激しく攪拌した。攪拌後しばらくすると均
一に溶解した。溶解後、この溶液を攪拌しながら、 c
ab−o−sil、 12 g f徐々に添加した。添
加後、しばらく攪拌してから、ビーカーを超音波洗浄槽
にいれ、1時間超音波を印加した。
αの非常に表面のきれいなガラスが得られたO 実施例5゜ エチルシリケート447!と0.1N塩酸36−をビー
カーにとり、激しく攪拌した。攪拌後しばらくすると均
一に溶解した。溶解後、この溶液を攪拌しながら、 c
ab−o−sil、 12 g f徐々に添加した。添
加後、しばらく攪拌してから、ビーカーを超音波洗浄槽
にいれ、1時間超音波を印加した。
印加後、#2のガラスフィルターを用いr遇し、r液を
テフロン製シャーレ(直径10crn)にとり、実施例
4で用いたタッパ−にシャーレごといれ、同じふたをし
て、乾燥機にいれ乾燥した。乾燥条件は、AQ°C2日
、50℃1日、60℃1日、80℃1日、90℃1日で
あった。
テフロン製シャーレ(直径10crn)にとり、実施例
4で用いたタッパ−にシャーレごといれ、同じふたをし
て、乾燥機にいれ乾燥した。乾燥条件は、AQ°C2日
、50℃1日、60℃1日、80℃1日、90℃1日で
あった。
得られた乾燥ゲルを炉にいれ、昇温速度200℃1時間
で、1500°C4で焼成した。
で、1500°C4で焼成した。
石英ガラスの確認は実施例1と同様に行なった。
得られた石英ガラスを光学研摩したところ非常に表面の
きれいな、透過率の良いガラスが得られた。
きれいな、透過率の良いガラスが得られた。
以上の実施例は本発明の代表例を述べfcKすきず、こ
の他にも、焼成時の昇温速度、乾燥ゲルを作るときの容
器の大きさ、材質、ふたの形状、原料の調合割合等の変
形が考えられることば当業者にとって周知のことである
。
の他にも、焼成時の昇温速度、乾燥ゲルを作るときの容
器の大きさ、材質、ふたの形状、原料の調合割合等の変
形が考えられることば当業者にとって周知のことである
。
いずれの方法1条件をとるにしても、シリカゾルとケイ
酸微粉末の混合後、超音波による混合。
酸微粉末の混合後、超音波による混合。
フィルターによる濾過処理工程をいれることの効果は絶
大なものであり、本発明の偉力を示すものである。
大なものであり、本発明の偉力を示すものである。
以上述べたように本発明の石英ガラスの製造法は従来の
溶融法に比べて、非常に低い温度で処理でき、省エネル
ギータイプの方法である。
溶融法に比べて、非常に低い温度で処理でき、省エネル
ギータイプの方法である。
この工うな石英ガラスの製造法はこれらの発展が期待さ
れる工0用フォトマスクの基板、あるいはT、FT川用
英基板ガラスの製造法として偉力を発揮するものである
。
れる工0用フォトマスクの基板、あるいはT、FT川用
英基板ガラスの製造法として偉力を発揮するものである
。
以上
出願人 株式会社 費訪精工舎
代理人 弁理士 最上 務
Claims (1)
- アルギルシリケート(sl(op)a 、Fは炭素数1
〜7のアルキル基を示す)を加水分解して得たシリカゾ
ルとケイ酸微粉末を混合し、混合後、溶媒を蒸発乾燥さ
せ乾燥ゲルとし、得られた乾燥ゲルを焼成することによ
シガラスを得る石英ガラスの製造法において、アルキル
シリケートヲ加水分解して得たシリカゾルとケイ酸微粉
末を混合後、す(な(とも超音波による混合工程、又は
f過処理工程を経ることを特徴とする石英ガラスの製造
法・
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18961182A JPS5978948A (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | 石英ガラスの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18961182A JPS5978948A (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | 石英ガラスの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5978948A true JPS5978948A (ja) | 1984-05-08 |
Family
ID=16244199
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18961182A Pending JPS5978948A (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | 石英ガラスの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5978948A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6126521A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-02-05 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造方法 |
JPS6144720A (ja) * | 1984-08-07 | 1986-03-04 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造方法 |
-
1982
- 1982-10-28 JP JP18961182A patent/JPS5978948A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6126521A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-02-05 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造方法 |
JPH0348140B2 (ja) * | 1984-07-12 | 1991-07-23 | Seiko Epson Corp | |
JPS6144720A (ja) * | 1984-08-07 | 1986-03-04 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO1984002519A1 (en) | Process for producing quartz glass | |
JPS5978948A (ja) | 石英ガラスの製造法 | |
JPS6054928A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPS59131538A (ja) | 石英ガラスの製造法 | |
JPS6126524A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPS6065735A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPS60131834A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPS6054929A (ja) | 石英ガラスの製造法 | |
JPS60108324A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPS6140825A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPS6086037A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPS6086034A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPS62278135A (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPS643814B2 (ja) | ||
JPS60215531A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPS62100424A (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPS643813B2 (ja) | ||
JPS62235274A (ja) | ケイ酸カルシウム成形体の製造法 | |
JPS60171228A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPS6158818A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPH0755836B2 (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPS632820A (ja) | ガラスの製造方法 | |
JPS643812B2 (ja) | ||
JPS5969434A (ja) | 石英ガラスの製造法 | |
JPS6144720A (ja) | 石英ガラスの製造方法 |