JPS63182222A - シリカガラスの製造法 - Google Patents

シリカガラスの製造法

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JPS63182222A
JPS63182222A JP1193087A JP1193087A JPS63182222A JP S63182222 A JPS63182222 A JP S63182222A JP 1193087 A JP1193087 A JP 1193087A JP 1193087 A JP1193087 A JP 1193087A JP S63182222 A JPS63182222 A JP S63182222A
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JP
Japan
Prior art keywords
gel
silica glass
tetramethylammonium hydroxide
silicon alkoxide
polycondensate
Prior art date
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Pending
Application number
JP1193087A
Other languages
English (en)
Inventor
Fusaji Hayashi
林 房司
Akihito Iwai
明仁 岩井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP1193087A priority Critical patent/JPS63182222A/ja
Publication of JPS63182222A publication Critical patent/JPS63182222A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C1/00Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
    • C03C1/006Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、光学用、半導体工業用、電子工業用。
理化学用等に使用されるクラック等の生じないシリカガ
ラスを製造する方法に関する。
(従来の技術) シリカガラスはその優れ九耐熱性、耐食性、光学特性か
ら光学機器、理化学機器、半導体製造に欠かせない重要
な材料である。シリカガラスの新たな製造法として最近
注目をあびているのがゾル−ゲル法である。
ゾル−ゲル法によるシリカガラスの製造法の列を説明す
ると次の通りである。
一般式Si (OR)a (但しRはアルキル基を示す
)で示されるシリコンアルコキシド及び/又はその重縮
合物9例えば(RO)s S l・(O8i (OR)
t )。。
O8i (OR)s=  (”はθ〜8の整数、Rは7
 h −IF A/基を示す)に水(アルカリまたは酸
でpH調整してもよい)を加え、加水分解し、シリカヒ
ドロゾル(以下シリカゾル)とする。この時、シリコン
アルコキシドと水が均一な系になる様に溶媒として適当
なアルコールを加えてもよい。さらにシリカの超微粒子
などを加えてもよい。このシリカゾルを静置、昇温、ゲ
ル化剤添加等によυゲル化させる。その後ゲルを蒸発乾
燥することによシ、シリカ乾燥ゲルとする。この乾燥ゲ
ルを適当な雰囲気中で焼結することによシリカガラスを
得る。
このゾル−ゲル法には以下の特長がある。
(1)  5iC1aなどを原料として酸水素炎でガラ
ススートを堆積してい〈従来からのシリカガラス製造法
よりも低温で製造できるため、省エネルギーで低コスト
である。
(2)原料が液体であるため、精製が容易であり。
高純度な製品が得られる。
(3)室温で液相混合ができるため、 AlzOs −
’1rOte TiCh、 BtOs* PzOs* 
Nb、o、などを均一にドープしたシリカガラスが得ら
れる。
これらの大変に有用な特長があるために、これまでにも
多くの研究がなされてきた。
(発明が解決しようとする問題点) ゾル−ゲル法によるシリカガラスの製造には。
まだ未解決の問題が残されている。特にゲルを乾燥する
過程でゲルにクラックや割れが発生し易く。
モノリシックな大形の乾燥ゲルを歩留りよく製造するこ
とが困難であるという問題がある。クラックや割れの発
生する原因の一つにゲル乾燥時に水やアルコールの蒸発
に伴いゲル中に応力が発生し。
この応力がゲルの強度より大きいとゲルはクラックや割
れが発生する。この対策として、容器の開孔率を下げ、
水やアルコールの蒸発速度を制御する方法がとられてい
るが未だ不充分である。
ゲル化、乾燥収縮過程でのクラックや割れはゲルの内部
構造と乾燥条件に負うところが大きい。
従来、シリコンアルコキシドを加水分解してゲル化させ
る場合にアンモニアを触媒として用いることが多く行わ
れている。しかしながらアンモニアを触媒に用いると加
水分解速度に比較して重縮合速度が著しく速いため、得
られた乾燥ゲルは粒子の大きい粗な構造をとるため2粒
子間の結合力が弱くなる欠点がある。
本発明は上記した問題を解消するシリカガラスの製造法
を提供することを目的とする。
(問題点を解決するための手段) 発明者らはアンモニアに代えて水酸化テトラメチルアン
モニウムを用いることにより、ゲルの乾燥時にアルコー
ル等の蒸発に伴って発生する応力よりもゲル強度を大き
くできることを見出し1本発明を完成するに至った。
本発明は、一般式5i(OR)4(但しRはアルキル基
を示す)で示されるシリコンアルコキシド及び/又はそ
の重縮合物を加水分解してシリカゾルとし9次いでゲル
化し乾燥及び焼結するシリカガラスを製造する方法にお
いて、前記加水分解時に。
シリコンアルコキシド及び/又はその重縮合物のSi 
 1モル尚シlXl0−’〜5 X 10−”モルの水
酸化テトラメチルアンモニウムを添加するシリカガラス
の製造法に関する。
本発明において用いるシリコンアルコキシド及び/又は
その重縮合物のアルキル基は特に制限はないが、メチル
基、エチル基及びプルピル基が好ILい。シリコンアル
コキシドの重縮金物としては9例えば、  (C)fs
o)s Si ・(08i(OCHs)x )n ”O
8i (QC)Ll)3 (rl = O〜8 )をあ
げることカーt’きる。加水分解のために加える水はあ
らかじめ触媒トシての水酸化テトラメチルアンモニウム
lot濃度を調整しておくことが必要である。水酸化テ
トラメチルアンモニウムの濃度はシリコンアルコキシド
のSi  1モルに対し1×10 モル以上5XIO−
2モル以下である。5 X 10”−”モルを越えると
ゲル化が速すぎて操作上好ましくない。またI X 1
0−’モル未満であるとゲル乾燥時に反)が発生し易く
好ましくない。シリカゾルを作成する際にシリコンアル
コキシドと加水分解用の水を均一溶液とするために加え
るアルコール等の溶媒の種類は特に限定するものではな
く、一種でも複数でも使用可能で、用いるシリコンアル
コキシド及び/又はその重縮合物の種類によって適宜選
ぶことができる。シリコンアルコキシド及び/又はその
重縮合物と溶媒及び水とは生成するシリカゾルをできる
だけ均一々ものとするためにスターテ等を用いてよく混
合する。生成したシリカゾルは手早く容器に移してゲル
化させる。ゲル化時には生成したゲルからのアルコール
及び溶媒の蒸発を防ぐために容器を密封することが好ま
しく、マ念ゲル化時の温度は0℃以上が好ましい。ゲル
化後は穴のある蓋に変え、空気中で乾燥し、収縮固化さ
せて乾燥ゲルとする。乾燥時の温度は室温以上であるこ
とが好ましい。
(作用) 水酸化テトラメチルアンモニウムは選択的に5i806
 (カゴ型へ量体)を生成する働きがあシ。
S r s O20が重合することで強度を増すことが
でき。
クラックや割れを防止できる。
(実施例) 本発明を実施例により説明する。
実施例1 シリコンテトラメトキシド(St (OCH3)4  
)19.2m/にメタノール22.7mrを加えよく混
合した。この溶液に水酸化テトラメチルアンモニウム1
.7 X 10−” gを含む水(Si1モルに対すル
水酸化テトラメチルアンモニウムの濃i7.2X10−
4モル)9.1m!!を加え、充分に混合しシリカゾル
とした。これを直径90mのテフロンでコーティングし
たガラス製シャーレに深さ約8aotで入れ、密封し、
室温でゲル化した。その後蓋に穴を開け、50℃の恒温
槽で7日間乾燥し、その後120℃の恒温槽に移し1日
乾燥して直径57.7肝、厚さ5.1工の乾燥ゲルを得
た。こうして得られた乾燥ゲルのかさ密度は約0.5 
g/cm’であり。
クラックや割れはなかった。
この乾燥ゲルを焼結炉に入れ室温から昇温速度50°C
/時間で250℃まで加熱し、250℃で1時間保持し
た。さらに昇温速度50℃/時間で1150℃まで加熱
し、1150℃で1時間保持したところ無孔化し、直径
35.2mto、厚さ3.1印の透明なシリカガラスが
得られた。
得られたシリカガラスには失透や気泡はなく。
品質の高いものである。また分析の結果、得られたシリ
カガラスは市販のシリカガラスとその特性が一致した。
一方比較のために、水酸化テトラメチルアンモニウムの
濃度をSi  1%ル当り6X10−2モルとした以外
は実施例1と同様の操作を進めたところ。
水酸化テトラメチルアンモニウムを含む水を加えて数分
でゲル化してしまい容器に充填することができなかった
また、水酸化テトラメチルアンモニウムの濃度をSi 
 1モル当、j70.5 X 10−’モルとし次以外
は実施例1と同様の操作を行った結果、乾燥ゲル作成段
階で反シが発生し、その後側れてしまい、クラックや割
れのない乾燥ゲルを得ることはできなかった。
実施例2 シリコンテトラメトキシドの重縮金物((CI(3)s
O8i ・(O8i (CHs)z)n ・O8i (
CHs)s、  n =3を中心にもつもの)22.7
mI!にメタノール243m1を加えよく混合した。こ
の溶液に水酸化テトラメチルアンモニウム7.9 X 
10−3ge含む水(Si1モルに対する水酸化テトラ
メチルアンモニウムの濃度3.6X10−’モル)8.
7mlを加え。
充分に混合しシリカゾルとした。これを直径90−のテ
フロンでコーテングし念ガラス製シャーレに深さ約8加
まで入れて密封し、室温でゲル化した。その後、蓋に穴
を開け50℃の恒温槽で7日間乾燥し、その後120℃
の恒温槽に移し1日乾燥して直径72−511[1m、
厚さ6.4 auの乾燥ゲルを得た。こうして得られた
乾燥ゲルのかさ密度は約0、56/cがであシ、クラッ
クや割れは全くなかった。
この乾燥ゲルを焼結炉に入れ、室温から昇温速度50℃
/時間で250℃まで加熱し、250℃で1時間保持し
之。さらに昇温速度50℃/時間で1150℃まで加熱
し、1150℃で1時間保持したところ無孔化し、直径
44.2[11111,厚さ3,9唾の透明なシリカガ
ラスが得られた。得られたシリカガラスには失透や気泡
はなく9品質の高いものである。また分析の結果、得ら
れたシリカガラスは市販のシリカガラスとその特性が一
致した。
(発明の効果) 本発明によれば、大形のシリカガラスをゾル−ゲル法に
よシフラックや割れを発生することなく。
容易に製造が可能となる。その大きさは基本的には制約
がなく、形状も板状の物に限らず棒状、管状のものも製
造可能となり、従来よシも安価に製造することができる
又2本発明によればこれまでシリカガラスを使用してい
た分野における需要の拡大はもちろんのこと、これまで
高価格のために使用されていなかった分野での需要の拡
大が可能となる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、一般式Si(OR)_4(但しRはアルキル基を示
    す)で示されるシリコンアルコキシド及び/又はその重
    縮合物を加水分解してシリカヒドロゾルとし、次いでゲ
    ル化し乾燥及び焼結するシリカガラスを製造する方法に
    おいて、前記加水分解時に、シリコンアルコキシド及び
    /又はその重縮合物のSi1モル当り1×10^−^■
    〜5×10^−^2モルの水酸化テトラメチルアンモニ
    ウムを添加することを特徴とするシリカガラスの製造法
JP1193087A 1987-01-21 1987-01-21 シリカガラスの製造法 Pending JPS63182222A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02115804A (ja) * 1988-10-26 1990-04-27 Fujikura Ltd イメージファイバの製造方法
KR100487194B1 (ko) * 2002-06-27 2005-05-03 삼성전자주식회사 콜로이드계 실리카 조성물 및 그 제조방법

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