JPH0142897B2 - - Google Patents

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JPH0142897B2
JPH0142897B2 JP59197467A JP19746784A JPH0142897B2 JP H0142897 B2 JPH0142897 B2 JP H0142897B2 JP 59197467 A JP59197467 A JP 59197467A JP 19746784 A JP19746784 A JP 19746784A JP H0142897 B2 JPH0142897 B2 JP H0142897B2
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JP
Japan
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gel
quartz glass
dry
dry gel
cracks
Prior art date
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Expired
Application number
JP59197467A
Other languages
English (en)
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JPS6191022A (ja
Inventor
Satoru Myashita
Sadao Kanbe
Motoyuki Toki
Tetsuhiko Takeuchi
Hirohito Kitabayashi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Priority to JP19746784A priority Critical patent/JPS6191022A/ja
Publication of JPS6191022A publication Critical patent/JPS6191022A/ja
Publication of JPH0142897B2 publication Critical patent/JPH0142897B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/12Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はゾルーゲル法による石英ガラスの製造
方法に関する。
〔従来の技術〕
石英ガラスはIC製造工程中でるつぼやボード、
拡散炉等に使用されるようになり、その有用性が
認められ、更に水酸基の少ないものや光学的均一
性の良いものが開発されたことによつて、各種の
光学的用途に使用されるようになり、特に光通信
用の石英ガラスフアイバーが最近注目されてい
る。
このように石英ガラスは種々の分野で使用され
その利用範囲も広がつている。しかし、石英ガラ
スの製造コストは高く、高価なことが問題となつ
ている。安価で高品質の石英ガラスを製造する方
法としてゾル−ゲル法が試みられている。
ゾル−ゲル法を用いて歩留り良く、大型の石英
ガラスを得る方法として、アルキルシリケートを
加水分解したゾル中に微粉末シリカを加え、超音
波等で分散した更にPHを3〜6に調整した後、50
〜90℃で乾燥し、焼結する方法がある。ドライゲ
ル作動中の割れの問題と、焼結中の割れやクラツ
ク生成の問題を同時に解決したものであり、かな
り大きな石英ガラス(4inchφ以上)が低コスト
で製造できるようになつた。
水酸基が少なく、気泡を含まない高品質の石英
ガラスを製造する為には、ドライゲルを緻密な構
造の耐熱材による密閉容器中で焼結する方法が非
常に有効である。
〔問題点〕
しかし密閉容器中で焼結する従来技術では、焼
結中に割れやすく、特にドライゲルを高密度に並
べると表面全体にクラツクが生成するという問題
点を有する。そこで本発明はこのような問題点を
解決するもので、その目的とするところは焼結で
の割れを皆無にし、高密度の焼結を可能にして量
産性を著しく向上させる方法を提供するところに
ある。
〔手段〕
本発明の石英ガラスの製造方法は、 アルキルシリケートの加水分解溶液に微粉末シ
リカを添加してゾル溶液とし、前記ゾル溶液を容
器に入れてウエツトゲルとし、前記ウエツトゲル
を乾燥してドライゲルとしたのち焼結する石英ガ
ラスの製造方法において、 前記ドライゲルを焼結するまでの間、密閉容器
中に保留したのち、耐熱密閉容器中で焼結するこ
とを特徴とする。
なお、密閉容器に入れて50℃以上の加熱乾燥雰
囲気中に保存すると更に効果的である。
〔作用〕
シリカゲルは乾燥剤として用いられているが、
ゾル−ゲル法におけるドライゲルも多孔性のた
め、激しい吸水性を示す。室温の空気中に放置し
た場合、ドライゲルの乾燥重量の半分近い水を吸
着する。この吸着水は焼結過程で脱離するもの
の、これをそのまま、耐熱密閉容器を用いて焼結
すると、脱離した水蒸気で多湿雰囲気となり、焼
結時に割れやクラツクが生成しやすい。
このため、室温で空気中に放置した場合水分を
吸着することを防止することが必須条件となる。
本発明の方法によれば、ドライゲルに水分の吸
着を防ぐことができるので、耐熱密閉容器を用い
ての焼結過程で割れやクラツクの生成を防止する
ことができる。
〔実施例〕
第1図は60℃でドライゲルを作製した後、15
℃、湿度50%の雰囲気中で放置した時の重量変化
である。ドライゲルの形状、及び作製方法により
吸水性は異なるが、ゾル−ゲル法を用いる限り、
必ずこのような重量増加が起こる。
第2図は作製した直後のドライゲルを密閉容器
内、及び種々の温度の加熱乾燥雰囲気中で保存し
た時の重量変化である。ドライゲルへの水の吸着
はみられない。以下、本発明について保存条件と
焼結結果を比較しながら、詳細に説明する。
実施例 1 エテルシリケート4.4と0.05規定塩酸溶液3.6
を激しく撹拌し、無色透明の均一溶液を得た。
そこに微粉末シリカ(Aerosil OX−50)1.5Kgを
徐々に添加し、充分に撹拌した。このゾルを20℃
に保ちながら28KHzの超音波を2時間照射し、更
に1500Gの遠心力を10分間かけた。
得られた均質度の高いゾルを、0.1規定アンモ
ニア水でPH4.2に調整してからポリプロピレン製
密閉器(幅20cm×20cm×高さ10cm)に深さが1cm
になる量注入してゲル化させウエツトゲルを得
た。その後開口率1%のフタをして、60℃で10日
間乾燥させたところ、一辺14cm、厚さ0.7cmのド
ライゲルが作製できた。乾燥直後の重量は120g
だつた。
同様に作製した10個のドライゲルを、デツケー
ター内に保存したところ、10日後でも重量は変化
していなかつた。このドライゲルを第3図に示す
ように石英容器(15cm×30cm×15cm)内に等間隔
で並べた。第3図においてドライゲル、2は石英
ガラスによるついたてと容器であり、ほぼ密閉構
造となつている。ドライゲルの入つた石英容器の
炉の中に入れ、適当な昇温プログラムにより室温
から1300℃まで昇温し、1時間1300℃に保持し
た。1個に亀裂が入つていたものの、他の9個は
割れを生じずに透明な石英ガラス(10cm×10cm×
0.5cm)が製造できた。重量は110gに減少してい
た。
以上の方法で製造した石英ガラスは含水率
300ppmと極めて低く、気泡も発生していなかつ
た。
比較例 1 実施例1と同様の方法で作製したドライゲルを
室温で空気中に2日間放置したところ、重量が
150gに増加した。
吸湿したドライゲル10個を石英容器内に並べ、
実施例1と同様のプログラムで焼結させたとこ
ろ、10個中5個にクラツクが生成していた。得ら
れた石英ガラスの寸法、重量、品質は実施例1と
全く同じだつた。
実施例 2 実施例1と同様の方法で作製したドライゲルを
100℃の密閉した乾燥機内に保存したところ、2
日後に重量が115gに減少した。それ以降はほと
んど重量減少が観察されなかつた。
このように保存した10個のドライゲルを実施例
1と同様の方法で焼結したところ、割れやクラツ
クを生じることなく、透明な石英ガラスが10個得
られた。石英ガラスの寸法、重量、品質は実施例
1と全く同じだつた。
実施例 3 実施例1と同様の方法で作製した20個のドライ
ゲルを10日間デシケーター内に保存した。石英容
器(15cm×30cm×15cm)内のこのドライゲルを等
間隔で並べ、炉に移してから適当な昇温プログラ
ムにより1300℃まで昇温し、1時間1300℃に保持
した。2個の亀裂が入つていたものの、他の18個
の割れやクラツクを生じることなく、透明な石英
ガラスが製造できた。石英ガラスの寸法、重量、
品質は実施例1と全く同じだつた。
比較例 2 ドライゲル室温で空気中に2日間放置した後、
実施例3と同じ条件で焼結させたところ、20個す
べて表面全体に微細クラツクが生成し、数個の破
片に割れていた。
〔発明の効果〕
以上述べたように、ドライゲルを焼結するまで
の間、密閉容器中に保留したのち、耐熱密閉容器
中で焼結することにより、 割れや、クラツクのない、さらには高密度で気
泡のない石英ガラスを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、ドライゲルの吸湿を示すグラフ。第
2図は、種々の保存条件におけるドライゲルの重
量変化を示すグラフ。第3図は焼結容器の見取
図、 1……ドライゲル、2……石英ガラスのついた
て、及び容器。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 アルキルシリケートの加水分解溶液に微粉末
    シリカを添加してゾル溶液とし、前記ゾル溶液を
    容器に入れてウエツトゲルとし、前記ウエツトゲ
    ルを乾燥してドライゲルとしたのち焼結する石英
    ガラスの製造方法において、 前記ドライゲルを焼結するまでの間、密閉容器
    中に保存したのち、耐熱密閉容器中で焼結するこ
    とを特徴とする石英ガラスの製造方法。
JP19746784A 1984-09-20 1984-09-20 石英ガラスの製造方法 Granted JPS6191022A (ja)

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JP19746784A JPS6191022A (ja) 1984-09-20 1984-09-20 石英ガラスの製造方法

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JPS6191022A JPS6191022A (ja) 1986-05-09
JPH0142897B2 true JPH0142897B2 (ja) 1989-09-18

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55100231A (en) * 1979-01-19 1980-07-31 Hitachi Ltd Production of optical fiber base material
JPS59116135A (ja) * 1982-12-23 1984-07-04 Seiko Epson Corp 石英ガラスの製造方法

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