JPS6153272A - グルタル酸誘導体の製法 - Google Patents
グルタル酸誘導体の製法Info
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- C07D277/38—Nitrogen atoms
- C07D277/44—Acylated amino or imino radicals
- C07D277/48—Acylated amino or imino radicals by radicals derived from carbonic acid, or sulfur or nitrogen analogues thereof, e.g. carbonylguanidines
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は抗生物質などの合成原料として有用なグルタ
コン酸誘導体の製造方法、とくに次式の反応によりチア
ゾール酢酸誘導体（Ｉ＞とアルフキジアクリル酸誘導体
（Ｉ［）とを強塩基の存在下にマイケル型縮合反応に付
すことを特徴とする特許コン酸エステル誘導体（ＩＩＩ
）の製造方法に関する。
コン酸誘導体の製造方法、とくに次式の反応によりチア
ゾール酢酸誘導体（Ｉ＞とアルフキジアクリル酸誘導体
（Ｉ［）とを強塩基の存在下にマイケル型縮合反応に付
すことを特徴とする特許コン酸エステル誘導体（ＩＩＩ
）の製造方法に関する。
（式中、
Ｒはアミノ基または保護、アミン基、
Ｒ１はエステル形成基、
Ｒ１は水素、シアン着またはエステル化カルボキシ基、
Ｒ１は水素、シアン基またはエステル化カルボキシ基、
Ｒ４は低級アルキル基またはアラルキル基、をそれぞれ
示す）に関する。
示す）に関する。
前式における各基を以下に説明する。
Ｒで表わされる保護アミン基におけるアミン保護基とし
ては、低級アルカノイル（ホルミル、アセチ４．インブ
チリルなど）、ハロ低級アルカノイル（クロロアセチル
など）、アルキル炭酸アシル（メトキシカルボ二）呟
ｔ−ブトキシカルボニル、トリクロロエトキシカルボニ
ル、ヨードエトキシカルボニルなど）、アラルキル炭酸
アシル（ベンジルオキシカルボニル、ジメチルベンジル
オシカルボ二）呟 ニトロベンジルオシカルボニルなど
）、アルカンまたはアリールスルホニル（メタンスルホ
ニノ呟エタンスルホニル、ベンゼンスルホニノ呟トルエ
ンスルホニル、ブロモベンゼンスルホニルなど）、その
他のアシル基やトリアリールメチル（トリフェニルメチ
ルなど）、エナミン形成基、トリアルキルシリル（第三
級ブチルジメチルシリル、トリメチルシリルなど）、シ
ッフ塩基形成基（ジメチルアミノメチリデン、ベンジリ
デンなど）、その他のアミン保護基を例示できる。
ては、低級アルカノイル（ホルミル、アセチ４．インブ
チリルなど）、ハロ低級アルカノイル（クロロアセチル
など）、アルキル炭酸アシル（メトキシカルボ二）呟
ｔ−ブトキシカルボニル、トリクロロエトキシカルボニ
ル、ヨードエトキシカルボニルなど）、アラルキル炭酸
アシル（ベンジルオキシカルボニル、ジメチルベンジル
オシカルボ二）呟 ニトロベンジルオシカルボニルなど
）、アルカンまたはアリールスルホニル（メタンスルホ
ニノ呟エタンスルホニル、ベンゼンスルホニノ呟トルエ
ンスルホニル、ブロモベンゼンスルホニルなど）、その
他のアシル基やトリアリールメチル（トリフェニルメチ
ルなど）、エナミン形成基、トリアルキルシリル（第三
級ブチルジメチルシリル、トリメチルシリルなど）、シ
ッフ塩基形成基（ジメチルアミノメチリデン、ベンジリ
デンなど）、その他のアミン保護基を例示できる。
Ｒ’で表わされるエステル形成基およびＲ１、Ｒ３、Ｒ
′で表わされるエステル化カルボキシ基におけるエステ
ル形成基としては、それぞれ同一または相異なる低級ア
ルキル（メチノ呟エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、ｔ−ブチルなど）、ハロゲン、アルコキシ、スル
ホニルなどで置換された低級アルキル（クロロメチル、
トリクロロメチル、メトキシエチル、メタンスルホニル
エチルなど）、アラルキル（ベンジル、メチルヘンシル
、ニトロベンジル、メトキシベンジル、ンフェニルメチ
ルなど）、その他の常用のカルボキシ保護基を例示でき
る。
′で表わされるエステル化カルボキシ基におけるエステ
ル形成基としては、それぞれ同一または相異なる低級ア
ルキル（メチノ呟エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、ｔ−ブチルなど）、ハロゲン、アルコキシ、スル
ホニルなどで置換された低級アルキル（クロロメチル、
トリクロロメチル、メトキシエチル、メタンスルホニル
エチルなど）、アラルキル（ベンジル、メチルヘンシル
、ニトロベンジル、メトキシベンジル、ンフェニルメチ
ルなど）、その他の常用のカルボキシ保護基を例示でき
る。
Ｒ′で表わきれる低級アルキル基としてはメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、イソブチルなど、とくにメチル
とエチルが好ましい、アラキル基としては、ベンジルと
トルイルが好ましい。
ル、プロピル、ブチル、イソブチルなど、とくにメチル
とエチルが好ましい、アラキル基としては、ベンジルと
トルイルが好ましい。
この発明のマイケル型反応は、チアゾール酢酸誘導体（
１）に強塩基を作用許せて活性メチレン基をカルバニオ
ン（Ｉａ）としたのち、アルフキジアクリル酸誘導体（
Ｉ［）を付加許せて中間体としてのアルコキングルタル
酸誘導体（より）を形成許せ、これからアルコールＲ′
○Ｈを脱離してグルタコン酸エステル誘導体（Ｉ［）を
合成するものである。
１）に強塩基を作用許せて活性メチレン基をカルバニオ
ン（Ｉａ）としたのち、アルフキジアクリル酸誘導体（
Ｉ［）を付加許せて中間体としてのアルコキングルタル
酸誘導体（より）を形成許せ、これからアルコールＲ′
○Ｈを脱離してグルタコン酸エステル誘導体（Ｉ［）を
合成するものである。
グルタコン酸エステル誘導体（Ｉｆｆ）は加水分解など
により脱エステル化し、Ｒ”、Ｒ３がともにカルボキシ
のときは脱炭酸がおこり、グルタコン酸誘導体（ＩＶ）
となり、セファロスポリン、ペニシリンなどの合成に利
用できる。
により脱エステル化し、Ｒ”、Ｒ３がともにカルボキシ
のときは脱炭酸がおこり、グルタコン酸誘導体（ＩＶ）
となり、セファロスポリン、ペニシリンなどの合成に利
用できる。
前記カルバニオン形成、付加およびアルコール脱離反応
は、いずれも強塩基の存在下、無水条件下でも進行する
ので、中間体（Ｉ ａ） 、 （Ｉ ｂ）の単離は必須
ではない。
は、いずれも強塩基の存在下、無水条件下でも進行する
ので、中間体（Ｉ ａ） 、 （Ｉ ｂ）の単離は必須
ではない。
この反応に眉いる強塩基としては、アルカ！ノ金属の水
素化物、アルコキシドなどの金属化合物を採用できる。
素化物、アルコキシドなどの金属化合物を採用できる。
カルバニオン形成反応と付加反応は、無水条件下に実施
する。
する。
付加反応は前段階で生成したカルバニオンに、好ましく
は１〜５モル当量、とくに１〜３モル当量のアルコキシ
アクリル酸誘導体（Ｕ）を接触移せれば十分に進行する
。生成する付加体（Ｉｂ）は反応液中から常法により単
離できる場合もある。
は１〜５モル当量、とくに１〜３モル当量のアルコキシ
アクリル酸誘導体（Ｕ）を接触移せれば十分に進行する
。生成する付加体（Ｉｂ）は反応液中から常法により単
離できる場合もある。
アルコールＲ’ＯＨの脱離反応は、塩基の作用により進
行する。この反応は水などの極性媒体中でも速やかに進
行する。
行する。この反応は水などの極性媒体中でも速やかに進
行する。
このようにして製造できるグルタコン酸エステル誘導体
（Ｉ［［）は、通常、二重結合についての幾何異性体の
混合物である。チアゾール酢酸誘導体（１）からの通算
収率は９０％以上に達する場合もある。
（Ｉ［［）は、通常、二重結合についての幾何異性体の
混合物である。チアゾール酢酸誘導体（１）からの通算
収率は９０％以上に達する場合もある。
これを加水分解などによって脱保護すればグルタコン酸
誘導体（ＩＶ）となる、グルタコン酸エステル（ＩＩＩ
）のＲ１，Ｒｊが共にエステル化カルボキシである場合
も、脱炭酸反応が併発してグルタフン酸誘導体（ＩＶ）
を得ることができる。
誘導体（ＩＶ）となる、グルタコン酸エステル（ＩＩＩ
）のＲ１，Ｒｊが共にエステル化カルボキシである場合
も、脱炭酸反応が併発してグルタフン酸誘導体（ＩＶ）
を得ることができる。
前記各段階の反応は、溶媒中では円滑に進行する。ここ
に用いる溶媒としては、エーテル（ジメトキシエタン、
テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）、ニトリル（ア
セトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなど
）、スルホキシド（ジメチルスルホキシドなど）、アミ
ド（Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドなど）
、エステル（ギ酸メチル、酢酸エチルなど）、その他と
、これらを含む混合溶媒が好ましい。アクリル酸誘導体
（［）ちり応溶媒として採用できる。反応は通常、−３
０″Ｃ〜１ｏｏ℃、とくに０°Ｃ〜７０℃でも十分に進
行し、５分間〜１０時間で完了することが多い。
に用いる溶媒としては、エーテル（ジメトキシエタン、
テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）、ニトリル（ア
セトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなど
）、スルホキシド（ジメチルスルホキシドなど）、アミ
ド（Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドなど）
、エステル（ギ酸メチル、酢酸エチルなど）、その他と
、これらを含む混合溶媒が好ましい。アクリル酸誘導体
（［）ちり応溶媒として採用できる。反応は通常、−３
０″Ｃ〜１ｏｏ℃、とくに０°Ｃ〜７０℃でも十分に進
行し、５分間〜１０時間で完了することが多い。
チアゾール酢酸誘導体（ＩＩＩ）およびアルコキシアク
リル酸誘導体（Ｉｆ）はいずれも公知物質または公知物
質から常法により容易に製造できる化合物であり、アル
コキシグルタル酸誘導体（Ｉｂ）、グルタフン酸エステ
ルＸｉ導体（ＩＩＩ）、グルタコン酸誘導体（ＩＶ）は
いずれも新規化合物である。
リル酸誘導体（Ｉｆ）はいずれも公知物質または公知物
質から常法により容易に製造できる化合物であり、アル
コキシグルタル酸誘導体（Ｉｂ）、グルタフン酸エステ
ルＸｉ導体（ＩＩＩ）、グルタコン酸誘導体（ＩＶ）は
いずれも新規化合物である。
以下に実施例を記載して、この発明の詳細な説明する。
実施例中「部、は重量部、１当量、はモル当量を示す。
（略号）
ＢＯＣ々ｔ−プトキ・ンカルボニル。
ＣｂＺ＝−ヘンシルオキシカルボニル。
ＤＢＬＩ ＝＝フンザビシクロウンデセン。
ＤＭＡ ＝ジメチルアセトアミド。
ＤＭＦ−ジメチルホルムアミド。
Ｅｔ がエチル。
Ｍｅ エステル。
ｎｄ −測定せず。
Ｐｈ 厘フェニル。
ｒｔ −室温。
Ｔ）ＩＦ−テトラヒドロフラン。
実施例１（付加反応）
水素化ナトリウムをテトラヒドロフランに懸濁し、これ
にチアゾール酢酸エステル（１）と２−（アルコキシメ
チリデン）マロン酸エステル（２）をテトラヒドロフラ
ンにとかして加え、所定温度で所定時間かきまぜる０反
応液を酢酸エチルでうすめ、酢酸で中和し、水洗、乾燥
、減圧濃縮する。残留物を、要すればクロマトグラフィ
ーにより精製し、アルフキシグルタル酸エステルＯ）を
得る。幾何異性体を単離することもできる。
にチアゾール酢酸エステル（１）と２−（アルコキシメ
チリデン）マロン酸エステル（２）をテトラヒドロフラ
ンにとかして加え、所定温度で所定時間かきまぜる０反
応液を酢酸エチルでうすめ、酢酸で中和し、水洗、乾燥
、減圧濃縮する。残留物を、要すればクロマトグラフィ
ーにより精製し、アルフキシグルタル酸エステルＯ）を
得る。幾何異性体を単離することもできる。
反応条件を第−表に、生成物の物理定数を第五表に示す
。
。
実施例２（脱離反応）
アルフキシグルタル酸誘導体（１）を溶媒にとかし、塩
基を加え、所定温度で所定時間かきまぜる０反応液を中
和し、水と酢酸エチルでうすめ、水洗、乾燥、減圧濃縮
する。残留物を、要すればシリカゲルクロマトグラフィ
ーによって、精製し、カルボキシグルタフン酸エステル
誘導体（２）を得る。幾何異性体を単離することもでき
る。
基を加え、所定温度で所定時間かきまぜる０反応液を中
和し、水と酢酸エチルでうすめ、水洗、乾燥、減圧濃縮
する。残留物を、要すればシリカゲルクロマトグラフィ
ーによって、精製し、カルボキシグルタフン酸エステル
誘導体（２）を得る。幾何異性体を単離することもでき
る。
反応条件を第二表に、生成物の物理定数を第八底に示す
。
。
実施例３（加水分解、脱炭酸反応）
カルボキシグルタコン酸エステル（１）を溶媒にとかし
、塩基を加えて所定温度で所定時間かきまぜる０反応液
を水と酢酸エチルでうすめ、分離した水層を塩酸水溶液
で酸性とし、酢酸エチルで抽出し水洗、乾燥、減圧濃縮
する。残留物はグルタフン酸誘導体■である。
、塩基を加えて所定温度で所定時間かきまぜる０反応液
を水と酢酸エチルでうすめ、分離した水層を塩酸水溶液
で酸性とし、酢酸エチルで抽出し水洗、乾燥、減圧濃縮
する。残留物はグルタフン酸誘導体■である。
反応条件を第三表に、生成物の物理定数を第七底に示す
。
。
実施例４
■
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドに塩基、アルフキジアク
リル酸誘導体試薬（りとチアゾール酢酸誘導体（１）を
とかし、所定温度に所定時間保って反応させる０反応液
を５％塩酸と酢酸エチルの混合物に注ぎ、有機層を分取
する。これを水洗、乾燥、減圧濃縮する。要すれば、残
留物をシリカゲル・クロマトグラフィーにより精製して
、グルタコン酸エステル誘導体（３）を得る。
リル酸誘導体試薬（りとチアゾール酢酸誘導体（１）を
とかし、所定温度に所定時間保って反応させる０反応液
を５％塩酸と酢酸エチルの混合物に注ぎ、有機層を分取
する。これを水洗、乾燥、減圧濃縮する。要すれば、残
留物をシリカゲル・クロマトグラフィーにより精製して
、グルタコン酸エステル誘導体（３）を得る。
塩基が水素化物であるときは、反応開始剤として少量の
アルコールを加えることもできる。
アルコールを加えることもできる。
反応条件を第四表（その１）に、生成物の物理定数を第
八底に示す。
八底に示す。
実施例５
■
２−（ベンジルオキシカルボニルアミノ−４−チアゾリ
ル）酢酸メチル（１）を溶媒にとかし、３−メトキシア
クリル酸メチル試薬（２）とナトリウムメトキシドを加
え、０℃〜１５℃で１５分間反応させる。反応液を高速
液体クロマトで分析して目的とする２−（２−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−４−チアゾリル）グルタコン
酸ジメチルエステル（３）の生成率を求めた。
ル）酢酸メチル（１）を溶媒にとかし、３−メトキシア
クリル酸メチル試薬（２）とナトリウムメトキシドを加
え、０℃〜１５℃で１５分間反応させる。反応液を高速
液体クロマトで分析して目的とする２−（２−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−４−チアゾリル）グルタコン
酸ジメチルエステル（３）の生成率を求めた。
反応条件と生成率を第四表（その２）に示した。
製造例１
アミン（１）をトルエン４．３部にとかし、これにベン
ズアルデヒド５当量を加え、２時間脱水還流する０反応
液を濃縮して溶媒とベンズアルデヒドを留去し、残渣を
シリカゲル・クロマトグラフ（ヘキサン：アセトン−３
：２）で精製し、ヘキサン−エーテルから結晶化させれ
ばシッフ塩基（りを得る＊ ｍｐ、 ７１〜７２℃、収
率：６２．８％。
ズアルデヒド５当量を加え、２時間脱水還流する０反応
液を濃縮して溶媒とベンズアルデヒドを留去し、残渣を
シリカゲル・クロマトグラフ（ヘキサン：アセトン−３
：２）で精製し、ヘキサン−エーテルから結晶化させれ
ばシッフ塩基（りを得る＊ ｍｐ、 ７１〜７２℃、収
率：６２．８％。
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ）Ｌｌ ：１７３０．１６０５，１５
８５．１１６０ｃｍ−’。
８５．１１６０ｃｍ−’。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）ε：３．７１（ｓ、 ３８）、
３．８０＜ｓ、 ２８）、 ７．０７＜Ｓ、 ＬＨ＞、
７．４７（ｍ、 ３Ｍ＞、 ７．９３（ｍ、 ２Ｈ）
、 ８．９８（ｓ、 ＬＨ）ｐｐｍ。
３．８０＜ｓ、 ２８）、 ７．０７＜Ｓ、 ＬＨ＞、
７．４７（ｍ、 ３Ｍ＞、 ７．９３（ｍ、 ２Ｈ）
、 ８．９８（ｓ、 ＬＨ）ｐｐｍ。
製造例２
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１．８部にオキシ塩化り
ん５当量を６〜１１℃、１８分で水冷下に力Ｕえてのち
、クロロホルム４，５部をカロえる。
ん５当量を６〜１１℃、１８分で水冷下に力Ｕえてのち
、クロロホルム４，５部をカロえる。
この溶液をホルムアミド体（１）のクロロホルム１０部
懸１１８液に７°Ｃ５１５分間に加え、室温で１４０分
かきまぜる。反応液を５℃に冷却し、３Ｎ−水酸化ナト
リウム水を加えてｐＨ７とし、クロロホルムで抽出する
。抽出液を水洗、乾燥し、減圧濃縮する。残留物をシリ
カゲル−クロマトグラフ（酢酸エチル：アセトニトリル
−８：２）で精製すればカーポジイミド体（りを得る。
懸１１８液に７°Ｃ５１５分間に加え、室温で１４０分
かきまぜる。反応液を５℃に冷却し、３Ｎ−水酸化ナト
リウム水を加えてｐＨ７とし、クロロホルムで抽出する
。抽出液を水洗、乾燥し、減圧濃縮する。残留物をシリ
カゲル−クロマトグラフ（酢酸エチル：アセトニトリル
−８：２）で精製すればカーポジイミド体（りを得る。
収率：５Ｂ、２％。
ＩＲ（Ｃ）ＩＣ１，） Ｌ／ ：１７３０．１６３０．
１１００ｃｍ−’。
１１００ｃｍ−’。
ＮＭＲ（ＣＤＣ１，） ｌ； ：３．０３．３．０６（
２ｘｓ、 ６Ｈ）、 ３．７０（ｓ、 ５Ｈ）。
２ｘｓ、 ６Ｈ）、 ３．７０（ｓ、 ５Ｈ）。
６．６０（ｓ、 ＩＩ）、 ８．１７（ｓ、 ＩＨ）ｐ
ｐｍ。
ｐｍ。
製造例３
製造例２と同一条件下にホルムアミド体（１）を処理す
ればカーポジイミド体（りを得る。収率：８７．７％。
ればカーポジイミド体（りを得る。収率：８７．７％。
ＩＲ（ＣＨＣｌ、ンＶ ：Ｌ７３０．１６２０．１１０
３ｃｍ−’。
３ｃｍ−’。
ＮＭＲ（Ｃ）ＩＣＩｓ ） ｌ； ：Ｌ、 ２６（ｔ、
Ｊ＝７Ｈｚ、 ３Ｈ）、３．０４（ｓ、 ６Ｈ）。
Ｊ＝７Ｈｚ、 ３Ｈ）、３．０４（ｓ、 ６Ｈ）。
３、６３（ｓ、 ２８）、 ４．１５（ｑ、 Ｊ＝７Ｈ
ｚ、 ２Ｈ）、 ６．６０（ｓ、 １Ｂ）、 ８．１４
（ｓ、 ｔＨ）ｐｐｍ。
ｚ、 ２Ｈ）、 ６．６０（ｓ、 １Ｂ）、 ８．１４
（ｓ、 ｔＨ）ｐｐｍ。
製造例４
ＰｈＣＨ、ＯＨ
ＨａＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＭｅ ＰｈＣＨ−０Ｃ
Ｈ＝ＣＨＣＯＯＣＨ、Ｐ ｈａＯＭｅ ３−メトキシアクリル酸メチル（１）、ベンジルアルコ
ール１．２当量、ナトリウムメトキシドのメタノール溶
液０．０５当量、トルエン３．７部の混合物を３時間、
メタノールを共沸除去しながら加熱する０反応液を減圧
濃縮して溶媒を除いたのち、副生物を減圧留去（３ｍｍ
Ｈｇで９４〜１１２℃）し、冷却した残渣をシリカゲル
クロマト（ベンセン−酢酸エチル−９５：５）すれば３
−ベンジルオキシアクリル酸ベンジルエステル■を得る
。収率：４５％。
Ｈ＝ＣＨＣＯＯＣＨ、Ｐ ｈａＯＭｅ ３−メトキシアクリル酸メチル（１）、ベンジルアルコ
ール１．２当量、ナトリウムメトキシドのメタノール溶
液０．０５当量、トルエン３．７部の混合物を３時間、
メタノールを共沸除去しながら加熱する０反応液を減圧
濃縮して溶媒を除いたのち、副生物を減圧留去（３ｍｍ
Ｈｇで９４〜１１２℃）し、冷却した残渣をシリカゲル
クロマト（ベンセン−酢酸エチル−９５：５）すれば３
−ベンジルオキシアクリル酸ベンジルエステル■を得る
。収率：４５％。
ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ ） Ｓ ’ ４．７４（ｓ、 ２
Ｈ）、５．１１ （ｓ、 ２Ｈ）、５．３２（ｄ。
Ｈ）、５．１１ （ｓ、 ２Ｈ）、５．３２（ｄ。
Ｊ＝１３Ｈ，ＬＨ＞、 ７．２９（ｍ、 １０Ｈ）、
７．６９（ｄ、 Ｊ＝１３）１ｚ、 ＬＨ）ｐｐｍ。
７．６９（ｄ、 Ｊ＝１３）１ｚ、 ＬＨ）ｐｐｍ。
（以下余白）
手続ネ市正書（自発）
昭和６０年 ７月２，９日
Claims (2)
- （１）チアゾール酢酸誘導体（ I ）とアルコキシアク
リル酸誘導体（II）とを強塩基の存在下にマイケル型縮
合反応に付すことを特徴とするグルタコン酸エステル誘
導体（III）の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）▲数式、化
学式、表等があります▼（II）▲数式、化学式、表等が
あります▼（III） （式中、 Ｒはアミノ基または保護アミノ基、 Ｒ＾１はエステル形成基、 Ｒ＾２は水素、シアノ基またはエステル化カルボキシ基
、 Ｒ＾３は水素、シアノ基またはエステル化カルボキシ基
、 Ｒ＾４は低級アルキル基またはアラルキル基、をそれぞ
れ示す） - （２）次式で表わされるグルタコン酸誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４は請求項
（１）におけるものと同意義、 Ｒ＾５は同一または相異なる保護カルボキシ基、をそれ
ぞれ示す）
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59176954A JPS6153272A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | グルタル酸誘導体の製法 |
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| EP85109618A EP0172463B1 (en) | 1984-08-24 | 1985-07-31 | A process for producing thiazole glutaconic acid derivatives |
| US06/763,784 US4713461A (en) | 1984-08-24 | 1985-08-08 | Process for producing glutaconic acid derivatives |
| KR1019850005992A KR920003897B1 (ko) | 1984-08-24 | 1985-08-20 | 글루타콘산 유도체의 제조방법 |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59176954A JPS6153272A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | グルタル酸誘導体の製法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11094693A Division JPH0670024B2 (ja) | 1993-04-13 | 1993-04-13 | グルタコン酸エステル誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6153272A true JPS6153272A (ja) | 1986-03-17 |
| JPH0577670B2 JPH0577670B2 (ja) | 1993-10-27 |
Family
ID=16022621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59176954A Granted JPS6153272A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | グルタル酸誘導体の製法 |
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|---|---|
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| EP (1) | EP0172463B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6153272A (ja) |
| KR (1) | KR920003897B1 (ja) |
| DE (1) | DE3577555D1 (ja) |
| GB (1) | GB2163431B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JPS6124580A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-02-03 | Shionogi & Co Ltd | アミノチアゾリルグルタル酸誘導体の製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
| JPS5793982A (en) * | 1980-10-08 | 1982-06-11 | Bayer Ag | Beta-lactam compounds, manufacture and use as antibiotics |
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| DE3145727A1 (de) * | 1981-11-19 | 1983-05-26 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Zwischenprodukte, verfahren zu deren herstellung und verfahren zur herstellung von cephalosporinen |
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-
1984
- 1984-08-24 JP JP59176954A patent/JPS6153272A/ja active Granted
-
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- 1985-07-31 EP EP85109618A patent/EP0172463B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-08-08 US US06/763,784 patent/US4713461A/en not_active Expired - Lifetime
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- 1985-08-22 GB GB08521035A patent/GB2163431B/en not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5793982A (en) * | 1980-10-08 | 1982-06-11 | Bayer Ag | Beta-lactam compounds, manufacture and use as antibiotics |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2163431B (en) | 1988-06-29 |
| GB2163431A (en) | 1986-02-26 |
| DE3577555D1 (de) | 1990-06-13 |
| KR920003897B1 (ko) | 1992-05-18 |
| GB8521035D0 (en) | 1985-09-25 |
| EP0172463A1 (en) | 1986-02-26 |
| KR870002111A (ko) | 1987-03-30 |
| US4713461A (en) | 1987-12-15 |
| JPH0577670B2 (ja) | 1993-10-27 |
| EP0172463B1 (en) | 1990-05-09 |
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