JPS61290123A - 地下構造体 - Google Patents
地下構造体Info
- Publication number
- JPS61290123A JPS61290123A JP60132666A JP13266685A JPS61290123A JP S61290123 A JPS61290123 A JP S61290123A JP 60132666 A JP60132666 A JP 60132666A JP 13266685 A JP13266685 A JP 13266685A JP S61290123 A JPS61290123 A JP S61290123A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- underground structure
- bottom wall
- side wall
- ground
- wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Underground Structures, Protecting, Testing And Restoring Foundations (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は、地中に埋設する地下構造体に係り更に詳しく
は錐体に形成した底壁の周辺に側壁を立設してなる地下
構造体に関する。
は錐体に形成した底壁の周辺に側壁を立設してなる地下
構造体に関する。
（従来の技術）
地中に躯体を埋設する、所謂地下構造体は、通常設置す
べき地盤を根切りし、その内部に型枠を設置して現場打
ちコンクリートにより形成されるものや、ＰＣコンクリ
ート板や鋼板によって予め地上に於いて躯体を構築し、
根切りした地盤内に該躯体を埋設するもの等がある。
べき地盤を根切りし、その内部に型枠を設置して現場打
ちコンクリートにより形成されるものや、ＰＣコンクリ
ート板や鋼板によって予め地上に於いて躯体を構築し、
根切りした地盤内に該躯体を埋設するもの等がある。
（従来の技術の問題点）
これら地下構造体の多くは底壁と側壁及び天井壁とによ
って略箱状に形成されるので、根切り地盤内に埋設する
際に底壁のレベルを正確に出すことが難しい、また一旦
狂ったレベルの状態で埋設されるとその修正はほぼ不可
能となり、内部に貼設される床材、壁材によって調整を
行なわざるを得す、極めて煩雑な施工及び内部造作を要
する。
って略箱状に形成されるので、根切り地盤内に埋設する
際に底壁のレベルを正確に出すことが難しい、また一旦
狂ったレベルの状態で埋設されるとその修正はほぼ不可
能となり、内部に貼設される床材、壁材によって調整を
行なわざるを得す、極めて煩雑な施工及び内部造作を要
する。
一方埋設された後は周囲地盤から底壁及び側壁に側圧が
かかる為、耐力的に十分な底、側壁構造としなければな
らない、特に底壁は、不同法下等の際に過大な土庄が局
部的にかかり底壁を波打ち状にしたり、更には亀裂等を
生じさせて湧水車数を起す。
かかる為、耐力的に十分な底、側壁構造としなければな
らない、特に底壁は、不同法下等の際に過大な土庄が局
部的にかかり底壁を波打ち状にしたり、更には亀裂等を
生じさせて湧水車数を起す。
（問題点を解決する為の手段）
そこで地下構造体の底壁を外方に突出した錐体に形成す
ることによって底壁全体が土圧に対抗する断面構成にす
る丈でなく、土圧が錐体の頂点を中心にして均等分布し
、更に根切り地盤内においてレベル調整を容易にするも
のである。
ることによって底壁全体が土圧に対抗する断面構成にす
る丈でなく、土圧が錐体の頂点を中心にして均等分布し
、更に根切り地盤内においてレベル調整を容易にするも
のである。
（実施例）
以下、図面に基づき本発明の地下構造体を詳細に説明す
る。
る。
第１図は、地下構造体ｌの平面図、第２図は同正面図で
ある。
ある。
この地下構造体１は、底壁２とその周辺２１に立設され
た側壁３からなる。底壁２は地下構造体１の外方に突出
した状態で形成され、全体として錐体を為す、又側壁３
はその錐体の周辺に立設されるべく円筒状に形成されて
いる。しかも側壁３の周囲には所要間隔で断面ｌｆｉ鋼
材からなる補強リブ３１，３１が周設されている。また
側壁３の上部には補強梁４が略中心に架は渡されている
。
た側壁３からなる。底壁２は地下構造体１の外方に突出
した状態で形成され、全体として錐体を為す、又側壁３
はその錐体の周辺に立設されるべく円筒状に形成されて
いる。しかも側壁３の周囲には所要間隔で断面ｌｆｉ鋼
材からなる補強リブ３１，３１が周設されている。また
側壁３の上部には補強梁４が略中心に架は渡されている
。
尚底壁２．側壁３は一般構造用圧延鋼板を溶接及びボル
ト接合より一体形成し、各外面（接地面）はタールエポ
キシ塗装等の防錆処理が行なわれている。
ト接合より一体形成し、各外面（接地面）はタールエポ
キシ塗装等の防錆処理が行なわれている。
第３図は第１図のＡ−Ａ線矢視断面図である。
上述した様に底壁２は地下構造体ｌの外方に突出した状
態の円錐体に形成されており、その周辺２１には円筒状
の側壁３が立設されている。更に又側壁３の内部におい
ては、底壁２の周辺２１間に型鋼材からなる床梁５，５
・・・が適宜間隔で略平行状態に架設されている。この
床梁５，５・・・上にはチャンネル鋼材の根太５１．５
１・・・が配置され、その上面に簀の予成の床材５２が
敷設されている。
態の円錐体に形成されており、その周辺２１には円筒状
の側壁３が立設されている。更に又側壁３の内部におい
ては、底壁２の周辺２１間に型鋼材からなる床梁５，５
・・・が適宜間隔で略平行状態に架設されている。この
床梁５，５・・・上にはチャンネル鋼材の根太５１．５
１・・・が配置され、その上面に簀の予成の床材５２が
敷設されている。
上記構成を有する地下構造体ｌは、側壁３の上部から人
が出入りする様に内周壁３２には下部に向って片持状に
階段６が取付けられている。更に又この階段６の勾配に
沿って手摺７が内周壁３２に固定されている。
が出入りする様に内周壁３２には下部に向って片持状に
階段６が取付けられている。更に又この階段６の勾配に
沿って手摺７が内周壁３２に固定されている。
次に上記の地下構造体ｌを地中に埋設する施工について
詳述する。
詳述する。
第４図は地下構造体１の埋設状態を示す概要図である。
すなわち上記構成を有する地下構造体１は予め地上に於
いて形成される。そして設置すべき掘削地盤Ｇを所要の
深さ及び大きさに根切る。
いて形成される。そして設置すべき掘削地盤Ｇを所要の
深さ及び大きさに根切る。
この根切施工において側地盤Ｇｌは埋戻しを考慮して地
下構造体ｌの外径より幾分大きくしておき、又底地盤Ｇ
２は底壁２の円錐体、を為す勾配とほぼ等しい様に中心
に向って所定の勾配で掘削する。根切施工が終るとクレ
ーン等の揚重機により地下構造体ｌを吊り上げ掘削地盤
Ｇ内に設置する。設置施工において底壁２が円錐体に形
成されているので、該円錐体の頂点を中心にして揺動さ
せることが出来る。よって地下構造体１自体の安定と水
平レベルの確保も容易に成し得る。又必要に応じては、
地下構造体１自体の浮上りを防止する為、地上建物の布
基礎Ｂ、Ｂに設けた地中アンカーＵ、Ｕにターンバック
ルポル）Ｔ、Ｔを張架して浮上がりを阻止する。
下構造体ｌの外径より幾分大きくしておき、又底地盤Ｇ
２は底壁２の円錐体、を為す勾配とほぼ等しい様に中心
に向って所定の勾配で掘削する。根切施工が終るとクレ
ーン等の揚重機により地下構造体ｌを吊り上げ掘削地盤
Ｇ内に設置する。設置施工において底壁２が円錐体に形
成されているので、該円錐体の頂点を中心にして揺動さ
せることが出来る。よって地下構造体１自体の安定と水
平レベルの確保も容易に成し得る。又必要に応じては、
地下構造体１自体の浮上りを防止する為、地上建物の布
基礎Ｂ、Ｂに設けた地中アンカーＵ、Ｕにターンバック
ルポル）Ｔ、Ｔを張架して浮上がりを阻止する。
次いで側地盤Ｇｌと側壁３の空間部に土を投入して埋戻
し地盤Ｇ３を形成する。
し地盤Ｇ３を形成する。
又地下構造体１の上部に地上建物Ｈを建造するので地上
建物Ｈから直接地下綱造体１内に出入出来る様に床８の
開口部にハツチ式の開口扉９を設ける。
建物Ｈから直接地下綱造体１内に出入出来る様に床８の
開口部にハツチ式の開口扉９を設ける。
尚、上記実施例は底壁を円錐体としたが本発明これに限
定されず１例えば角錐体でもよく、その場合側壁も角筒
状に形成する。
定されず１例えば角錐体でもよく、その場合側壁も角筒
状に形成する。
（効果）
以上説明した様に、地下構造体は底壁を外方に突出した
錐体に形成したので、設置施工の容易性と安定性が確保
出来る丈でなく床材自体が直接底地盤に接することがな
いので結露等の防止にも役立つ、しかも外方へ突出した
錐体を為しているので底地盤からの土庄に十分抵抗出来
る。
錐体に形成したので、設置施工の容易性と安定性が確保
出来る丈でなく床材自体が直接底地盤に接することがな
いので結露等の防止にも役立つ、しかも外方へ突出した
錐体を為しているので底地盤からの土庄に十分抵抗出来
る。
【図面の簡単な説明】
第１図は、地下構造体の平面図、
第２図は、同正面図、
第３図は、第１図のＡ−Ａ線矢視断面図、第４図は、地
下構造体の埋設状態を示す概要図である。 ｌ・・・地下構造体、 ２・・・底壁。 ２１・・・底壁の周辺、 ３・・・側壁。
下構造体の埋設状態を示す概要図である。 ｌ・・・地下構造体、 ２・・・底壁。 ２１・・・底壁の周辺、 ３・・・側壁。
Claims (2)
- （１）底壁の周辺に側壁を立設してなる地下構造体にお
いて、該底壁を外方へ突出した錐体に形成された地下構
造体。 - （２）前記底壁は円錐体に形成され、且つ前記側壁は円
筒体に形成されたことを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の地下構造体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60132666A JPS61290123A (ja) | 1985-06-18 | 1985-06-18 | 地下構造体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60132666A JPS61290123A (ja) | 1985-06-18 | 1985-06-18 | 地下構造体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61290123A true JPS61290123A (ja) | 1986-12-20 |
| JPH0527727B2 JPH0527727B2 (ja) | 1993-04-22 |
Family
ID=15086652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60132666A Granted JPS61290123A (ja) | 1985-06-18 | 1985-06-18 | 地下構造体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61290123A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5120309U (ja) * | 1974-08-01 | 1976-02-14 | ||
| JPS57178034A (en) * | 1981-04-27 | 1982-11-02 | Hitachi Chem Co Ltd | Constructing method for underground structure |
| JPS59106670A (ja) * | 1982-12-09 | 1984-06-20 | 積水化学工業株式会社 | 地下室の据付け方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5120309B2 (ja) * | 1972-03-29 | 1976-06-24 |
-
1985
- 1985-06-18 JP JP60132666A patent/JPS61290123A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5120309U (ja) * | 1974-08-01 | 1976-02-14 | ||
| JPS57178034A (en) * | 1981-04-27 | 1982-11-02 | Hitachi Chem Co Ltd | Constructing method for underground structure |
| JPS59106670A (ja) * | 1982-12-09 | 1984-06-20 | 積水化学工業株式会社 | 地下室の据付け方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0527727B2 (ja) | 1993-04-22 |
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