JPS61249960A - Ｎ―インドリルエチル―スルホン酸アミド類、その製法及び用途 - Google Patents
Ｎ―インドリルエチル―スルホン酸アミド類、その製法及び用途Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なＮ−インドリルエチルスルホン酸アミド
、その製造法及びその薬剤における活性化合物としての
使用法に関する。
、その製造法及びその薬剤における活性化合物としての
使用法に関する。
今回式
％式％
［式中、Ｒ１は水素、ハロゲン、トリフルオルメチル、
カルボキシル、Ｃ１〜Ｃ，フルコキシ力ルボニル、基 −８（０） −Ｒ” 但しＲ６はＣ，〜Ｃ，フルキル又はＣｓ −ＣＩ ２７
１７−ルを示し、そして ｎは数０．１又は２の１つを示す、 を示し、或いは基 Ｎ Ｒ″ 但し、Ｒ７及びＲ８は同一でも異なってもよく且つ水素
、Ｃ，−Ｃ，アルキル、Ｃｓ −ＣＩ ２７リール、０
７〜Ｃ１，アラルキル又はアセチルを示す、 を示すか、或いは基 −０−Ｒ’ 但し、Ｒ＠は水素、Ｃ６〜Ｃ，フルキル、Ｃ６〜Ｃ１２
アリール、ＣチルＣ１４アラルキル、Ｃ，″−Ｃ＠−８
Ｑ２−フルキル、Ｃ６〜Ｃ３２−５Ｏ２７リール、Ｃ７
〜ＣＩ４ ５Ｏ２−７ラルキル又はトリ７ルオルメチル
を示す、を示すか、或いは随時カルボキシル、低級アル
コキシカルボニル、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコ
キシ及び／又はシアノで置換されていてもよいＣ１〜Ｃ
，アルキル、Ｃ２〜Ｃｓアルケニル又はＣ５−Ｃ，シク
ロアルキルを示し、 Ｒ２は水素を示すか或いは随時ハロゲン、カルボキシル
、低級アルコキンカルボニル、カルボキサミド及ｃ／／
又はシアノで置換されていてもよいＣＩ−Ｃａアルキル
、Ｃ２〜Ｃ＄フルケニル又はＣ１〜Ｃ，シクロアルキル
を示し、Ｒ３はＣ，−Ｃ，アルキル、Ｃ２〜Ｃ，アルケ
ニル、Ｃ１〜Ｃ，シクロアルキルを示すか、随時ハロゲ
ン、シアノ、トリフルオルメチル、ト１７ フルオルメ
トキシ、トリ７ルオルメチルチオ、低級アルキル又は低
級アルケニル（これらはカルボキシル又は低級アルコキ
シカルボニルで置換されていてもよい）低級アルコキシ
、カルボキシル、ヒドロキシル、低級アルコキシカルボ
ニル、フェニル、フェノキシ、ベンジロキシ、ベンシル
チオ又は基 Ｎ Ｒ＠ 但しＲ７及びＲ１は上述の意味を有する、で置換されて
いてもよい０６〜ＣＩ□７リールを示すか、或いは１．
２又は３つの酸素、硫黄及び／又は窒素を環員に含有す
ることがでか且つＩｌ！ｉｍ低級フルキル、低級アルコ
キシ、ハロゲン、トリフルオルメチル、）＋７フルオル
メトキシ、アミノ、ジメチルアミノ及び／又はアセチル
アミノで置換されていてもよい環員数５又は６の飽和も
しくは不飽和の又は芳香族の、ｒａ時ベンゾ融合してい
てもよい複葉環を示し、 Ｒ４は水素、Ｃ１〜Ｃ＠アルキル、Ｃ１〜Ｃ，ヒドロキ
シアルキル、Ｃ２〜Ｃ，アルケニル、Ｃ１〜Ｃ８シクａ
アルキル、シアノを示すか、随時ハロゲン、メチル、メ
トキシ又はトリ７ルオルメチルで置換されていてもよい
０６〜Ｃｌ２７リールを示すか、Ｃ，−Ｃｌアルキルカ
ルボニルを示すか或いは１．２又は３つの酸素、硫黄及
び／又は窒素をｆｌＡ貫に含有することができ且つ随時
低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボ
ニル、カルボキシル、ハロゲン、）１７フルオルメチル
、ＭＪフルオルメト々シ、アミノ、ジメチルアミノ又は
アセチルアミノで置換されていてもよい環員数５又は６
の飽和もしくは不飽和の又は芳香族の複素環を示し、 Ｒ５は水素又はＣ５〜Ｃ，アルキルを示し、Ｘはカルボ
キシル、Ｃ３〜Ｃ８アルコ〜ジカルボニル、シア／又は
カルボキサミドを示し、そして ｌは数２．３又は４の１つを示すｌ の新規なＮ−インドリルエチル−スルホン酸アミド及び
その塩が発見された。
カルボキシル、Ｃ１〜Ｃ，フルコキシ力ルボニル、基 −８（０） −Ｒ” 但しＲ６はＣ，〜Ｃ，フルキル又はＣｓ −ＣＩ ２７
１７−ルを示し、そして ｎは数０．１又は２の１つを示す、 を示し、或いは基 Ｎ Ｒ″ 但し、Ｒ７及びＲ８は同一でも異なってもよく且つ水素
、Ｃ，−Ｃ，アルキル、Ｃｓ −ＣＩ ２７リール、０
７〜Ｃ１，アラルキル又はアセチルを示す、 を示すか、或いは基 −０−Ｒ’ 但し、Ｒ＠は水素、Ｃ６〜Ｃ，フルキル、Ｃ６〜Ｃ１２
アリール、ＣチルＣ１４アラルキル、Ｃ，″−Ｃ＠−８
Ｑ２−フルキル、Ｃ６〜Ｃ３２−５Ｏ２７リール、Ｃ７
〜ＣＩ４ ５Ｏ２−７ラルキル又はトリ７ルオルメチル
を示す、を示すか、或いは随時カルボキシル、低級アル
コキシカルボニル、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコ
キシ及び／又はシアノで置換されていてもよいＣ１〜Ｃ
，アルキル、Ｃ２〜Ｃｓアルケニル又はＣ５−Ｃ，シク
ロアルキルを示し、 Ｒ２は水素を示すか或いは随時ハロゲン、カルボキシル
、低級アルコキンカルボニル、カルボキサミド及ｃ／／
又はシアノで置換されていてもよいＣＩ−Ｃａアルキル
、Ｃ２〜Ｃ＄フルケニル又はＣ１〜Ｃ，シクロアルキル
を示し、Ｒ３はＣ，−Ｃ，アルキル、Ｃ２〜Ｃ，アルケ
ニル、Ｃ１〜Ｃ，シクロアルキルを示すか、随時ハロゲ
ン、シアノ、トリフルオルメチル、ト１７ フルオルメ
トキシ、トリ７ルオルメチルチオ、低級アルキル又は低
級アルケニル（これらはカルボキシル又は低級アルコキ
シカルボニルで置換されていてもよい）低級アルコキシ
、カルボキシル、ヒドロキシル、低級アルコキシカルボ
ニル、フェニル、フェノキシ、ベンジロキシ、ベンシル
チオ又は基 Ｎ Ｒ＠ 但しＲ７及びＲ１は上述の意味を有する、で置換されて
いてもよい０６〜ＣＩ□７リールを示すか、或いは１．
２又は３つの酸素、硫黄及び／又は窒素を環員に含有す
ることがでか且つＩｌ！ｉｍ低級フルキル、低級アルコ
キシ、ハロゲン、トリフルオルメチル、）＋７フルオル
メトキシ、アミノ、ジメチルアミノ及び／又はアセチル
アミノで置換されていてもよい環員数５又は６の飽和も
しくは不飽和の又は芳香族の、ｒａ時ベンゾ融合してい
てもよい複葉環を示し、 Ｒ４は水素、Ｃ１〜Ｃ＠アルキル、Ｃ１〜Ｃ，ヒドロキ
シアルキル、Ｃ２〜Ｃ，アルケニル、Ｃ１〜Ｃ８シクａ
アルキル、シアノを示すか、随時ハロゲン、メチル、メ
トキシ又はトリ７ルオルメチルで置換されていてもよい
０６〜Ｃｌ２７リールを示すか、Ｃ，−Ｃｌアルキルカ
ルボニルを示すか或いは１．２又は３つの酸素、硫黄及
び／又は窒素をｆｌＡ貫に含有することができ且つ随時
低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボ
ニル、カルボキシル、ハロゲン、）１７フルオルメチル
、ＭＪフルオルメト々シ、アミノ、ジメチルアミノ又は
アセチルアミノで置換されていてもよい環員数５又は６
の飽和もしくは不飽和の又は芳香族の複素環を示し、 Ｒ５は水素又はＣ５〜Ｃ，アルキルを示し、Ｘはカルボ
キシル、Ｃ３〜Ｃ８アルコ〜ジカルボニル、シア／又は
カルボキサミドを示し、そして ｌは数２．３又は４の１つを示すｌ の新規なＮ−インドリルエチル−スルホン酸アミド及び
その塩が発見された。
本発明によれば基Ｒ’は次の意味を有する：Ａ：水素、
ハロゲン、トリプルオルメチル、カルボキシル、Ｃ２〜
Ｃ，アルコキンカルボニル、基−８（０）−Ｒ’ 但しＲ６はＣＩ−Ｃａアルキル又はＣ６〜Ｃｌ２７リー
ルを示し、そして ｎは数０．１又は２の１つを示す、 或いは基 Ｎ 但し、Ｒ７及びＲ１は同一でも異なってもよ（且つ水素
、ＣＩ ｌ〜Ｃ８アルキル、Ｃ６〜Ｃ５２アリール、ｃ
ｔ〜Ｃ１４アラルキル又はアセチルを示す、 或いは基 −０−Ｒ会 但し、Ｒ″は水素、Ｃ，−Ｃ，アルキル、Ｃ６〜Ｃ１，
アリール、Ｃ１〜Ｃｌ ４アラル斗ル、Ｃ１〜ＣＩ
５Ｏ２−アルキル、Ｃ７〜ＣＩ４−８Ｏ２−７１７−ル
、Ｃｔ −ＣＩ ４− Ｓ Ｏ！ ７ ？ルキル又は
トリフルオルメチルを示す、或いは随時カルボキシル、
低級アルコキシカルボニル、ハロゲン、ヒトクシキル、
低級アルコキシ及び／又はシアノで置換されたＣ Ｉ−
ＣａアルキルＣ２〜Ｃ，アルケニル又はＣ１〜ＣＩＩジ
クロフルキルＲ１の好適な意味は次の通りである： Ｈ：Ｒ’が水素、弗素、塩素、臭素、トリプルオルメチ
ル、カルボキシル、低級フルコキシ力ルボニル、基 −８（０） −Ｒ’ 但しＲ６は低級アルキル又はフェニルを示し、そして ｎは数０，１又は２の１つを示す、 基 Ｎ 但し、Ｒ７及びＲａは同一でも異なってもよく且つ水素
、低級アルキル、フェニル、ペンシル又はアセチルを示
す、 又は基 −０−Ｒ９ 但し、Ｒ８は水素、低級アルキル、フェニル、Ｃ７〜Ｃ
１゜７ラルキル、−ＳＯ，−低級アルキル、−Ｓ Ｏ２
−フェニル、−８Ｏ□−ベンシル又はトリフルオルメチ
ルを示す、 随時カルボキシル、低級アルコキシカルボニル、弗素、
塩素、臭素及び／又はシアノを含んでなる群からの同一
の又は異なる置換基によって置換されていてもよい低級
アルキル、低級アルケニル、シクロペンチル又はシクロ
ヘキシル。
ハロゲン、トリプルオルメチル、カルボキシル、Ｃ２〜
Ｃ，アルコキンカルボニル、基−８（０）−Ｒ’ 但しＲ６はＣＩ−Ｃａアルキル又はＣ６〜Ｃｌ２７リー
ルを示し、そして ｎは数０．１又は２の１つを示す、 或いは基 Ｎ 但し、Ｒ７及びＲ１は同一でも異なってもよ（且つ水素
、ＣＩ ｌ〜Ｃ８アルキル、Ｃ６〜Ｃ５２アリール、ｃ
ｔ〜Ｃ１４アラルキル又はアセチルを示す、 或いは基 −０−Ｒ会 但し、Ｒ″は水素、Ｃ，−Ｃ，アルキル、Ｃ６〜Ｃ１，
アリール、Ｃ１〜Ｃｌ ４アラル斗ル、Ｃ１〜ＣＩ
５Ｏ２−アルキル、Ｃ７〜ＣＩ４−８Ｏ２−７１７−ル
、Ｃｔ −ＣＩ ４− Ｓ Ｏ！ ７ ？ルキル又は
トリフルオルメチルを示す、或いは随時カルボキシル、
低級アルコキシカルボニル、ハロゲン、ヒトクシキル、
低級アルコキシ及び／又はシアノで置換されたＣ Ｉ−
ＣａアルキルＣ２〜Ｃ，アルケニル又はＣ１〜ＣＩＩジ
クロフルキルＲ１の好適な意味は次の通りである： Ｈ：Ｒ’が水素、弗素、塩素、臭素、トリプルオルメチ
ル、カルボキシル、低級フルコキシ力ルボニル、基 −８（０） −Ｒ’ 但しＲ６は低級アルキル又はフェニルを示し、そして ｎは数０，１又は２の１つを示す、 基 Ｎ 但し、Ｒ７及びＲａは同一でも異なってもよく且つ水素
、低級アルキル、フェニル、ペンシル又はアセチルを示
す、 又は基 −０−Ｒ９ 但し、Ｒ８は水素、低級アルキル、フェニル、Ｃ７〜Ｃ
１゜７ラルキル、−ＳＯ，−低級アルキル、−Ｓ Ｏ２
−フェニル、−８Ｏ□−ベンシル又はトリフルオルメチ
ルを示す、 随時カルボキシル、低級アルコキシカルボニル、弗素、
塩素、臭素及び／又はシアノを含んでなる群からの同一
の又は異なる置換基によって置換されていてもよい低級
アルキル、低級アルケニル、シクロペンチル又はシクロ
ヘキシル。
Ｒ’の特に好適な意味は次の通りである。
０：Ｒ１が水素、弗素、塩素、臭素、トリフルオルメチ
ル、基 −８（０） −Ｒ’ 但しＲ８はメチル、エチル又はフェニルを示し、そして ｎは数Ｏ又は２の１つを示す、 アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アセチチルア
ミ／、基 −０−Ｒ” 但し、Ｒ９は水素、Ｃ１〜Ｃ４フルキル、７エ二ル、又
はベンジル、或いは随時弗素、塩素及び／又はシアノで
置換されたＣ２〜Ｃ４アルキル。
ル、基 −８（０） −Ｒ’ 但しＲ８はメチル、エチル又はフェニルを示し、そして ｎは数Ｏ又は２の１つを示す、 アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アセチチルア
ミ／、基 −０−Ｒ” 但し、Ｒ９は水素、Ｃ１〜Ｃ４フルキル、７エ二ル、又
はベンジル、或いは随時弗素、塩素及び／又はシアノで
置換されたＣ２〜Ｃ４アルキル。
インドール系の５−位における基Ｒ１の置換基は特に好
適である。
適である。
本発明によれば基Ｒ２は次の意味を有する二Ｂ二水素を
示し或いは随時ハロゲン、カルボキシル、低級アルコキ
シカルボニル、カルボキサミド及び／又はシアノで置換
された０１〜Ｃ１ｌアルキル、Ｃ２〜Ｃ＠アルケニル又
はＣ１〜Ｃ，シクロアルキル。
示し或いは随時ハロゲン、カルボキシル、低級アルコキ
シカルボニル、カルボキサミド及び／又はシアノで置換
された０１〜Ｃ１ｌアルキル、Ｃ２〜Ｃ＠アルケニル又
はＣ１〜Ｃ，シクロアルキル。
Ｒ２の好適な意味は次の通りである：
に水素、或いは随時弗素、塩素、臭素、カルボキシル、
低級アルコキシカルボニル及び／又はシアノで置換され
ていてよい低級アルキル、低級アルケニル、シクロペン
チル又はシクロヘキシル。
低級アルコキシカルボニル及び／又はシアノで置換され
ていてよい低級アルキル、低級アルケニル、シクロペン
チル又はシクロヘキシル。
Ｒ２の特に好適な意味は次の通りである二Ｐ二水素、或
いは随時カルボキシル、０１〜Ｃ４アルコキシカルボニ
ル及び／又はシアノで置換されたＣ１〜Ｃ４アルキル又
はＣ２〜Ｃ，アルケニル。
いは随時カルボキシル、０１〜Ｃ４アルコキシカルボニ
ル及び／又はシアノで置換されたＣ１〜Ｃ４アルキル又
はＣ２〜Ｃ，アルケニル。
Ｒ２は特に好ましくは水素である■の意味を有する。
本発明によれば、基Ｒ３は次の意味を有する：Ｃ：Ｃ，
〜Ｃ，アルキル、Ｃ２〜Ｃ８アルケニル、０５〜Ｃ，シ
クロアルキル、随時ハロゲン、シアノ、トリフルオルメ
チル、トリフルオルメトキシ、トリフルオルメチルチオ
、低級アルキル又は低級アルケニル、なお順次カルボキ
シル又は低級アルコキシカルボニルで置換されていても
よいそれら、低級アルコキシ、カルボキシル、ヒドロキ
シル、低４１ｔフルコキシ力ルポニル、フェニル、フェ
ノキシ、ベンジロキシ、ベンジルチオ又は基Ｒフ Ｎ 但しＲ′及びＲ１は上述の意味を有する、で置換されて
いてもよいＣ６〜Ｃ１２アリールを示し、或いは１．２
又は３つの酸素、硫黄及び／又は窒素を環員に含有する
ことができ且つ随時低級アルキル、低級アルコキシ、ハ
ロゲン、トリプルオルメチル、トリフルオルメトキシ、
アミノ、ツメチルアミ／及び／又は７セチルアミ／で置
換されていてもよい環員数５又は６の飽和の、不飽和の
又は芳香族の、随時ベンゾ融合した複素環。
〜Ｃ，アルキル、Ｃ２〜Ｃ８アルケニル、０５〜Ｃ，シ
クロアルキル、随時ハロゲン、シアノ、トリフルオルメ
チル、トリフルオルメトキシ、トリフルオルメチルチオ
、低級アルキル又は低級アルケニル、なお順次カルボキ
シル又は低級アルコキシカルボニルで置換されていても
よいそれら、低級アルコキシ、カルボキシル、ヒドロキ
シル、低４１ｔフルコキシ力ルポニル、フェニル、フェ
ノキシ、ベンジロキシ、ベンジルチオ又は基Ｒフ Ｎ 但しＲ′及びＲ１は上述の意味を有する、で置換されて
いてもよいＣ６〜Ｃ１２アリールを示し、或いは１．２
又は３つの酸素、硫黄及び／又は窒素を環員に含有する
ことができ且つ随時低級アルキル、低級アルコキシ、ハ
ロゲン、トリプルオルメチル、トリフルオルメトキシ、
アミノ、ツメチルアミ／及び／又は７セチルアミ／で置
換されていてもよい環員数５又は６の飽和の、不飽和の
又は芳香族の、随時ベンゾ融合した複素環。
Ｒ３の好適な意味は次の通りである：
Ｊ：低級フルキル、低級アルケニル、シクロペンチル又
はシクロヘキシル、随時弗素、塩素、臭素、シア／、ヒ
ドロキシル、トリアルオルメチル、トリフルオルメトキ
シ、順次カルボキシル又はＣＩ〜Ｃ，アルコキシカルボ
ニルで置換されていてもよい低級フルキル又は低級アル
ケニル、低級アルコキシ、カルボキシル％ＣＩ〜Ｃ，ア
ルコキシカルボニル、ベンジロキシ、ベンジルチオフェ
ニル、フェノキシ及Ｖ／又は基 Ｎ ＲＩ′ 但しＲ７及びＲ８は上述の意味を有する、を含んでなる
群からの４つまでの置換基で置換されていてよいフェニ
ル又はす７チル、或いは随時弗素、塩素、臭素、アミ７
、ジメチルアミノ、アセチルアミノ、トリアルオルメチ
ル、）＋７フルオルメトキシ、０１〜Ｃ，アルキル及び
／又はＣ７〜Ｃ４アルコキシを含んでなる群からの４つ
までの置換基で置換されていてよいピリジル、チェニル
、フリル、ピリミジル、ピペリジニル、ピペリジニル、
モル７オリニル、チオモル７オリニル、キノリル、イソ
キノリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル
、チアジアゾリル、ピロリル、ベンズイミダゾリル、ベ
ンゾチアノアゾリル、インドリル、インドロニル、チア
ゾリル、イソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイ
ソチアゾリル又はベンゾイソチアゾロニル。
はシクロヘキシル、随時弗素、塩素、臭素、シア／、ヒ
ドロキシル、トリアルオルメチル、トリフルオルメトキ
シ、順次カルボキシル又はＣＩ〜Ｃ，アルコキシカルボ
ニルで置換されていてもよい低級フルキル又は低級アル
ケニル、低級アルコキシ、カルボキシル％ＣＩ〜Ｃ，ア
ルコキシカルボニル、ベンジロキシ、ベンジルチオフェ
ニル、フェノキシ及Ｖ／又は基 Ｎ ＲＩ′ 但しＲ７及びＲ８は上述の意味を有する、を含んでなる
群からの４つまでの置換基で置換されていてよいフェニ
ル又はす７チル、或いは随時弗素、塩素、臭素、アミ７
、ジメチルアミノ、アセチルアミノ、トリアルオルメチ
ル、）＋７フルオルメトキシ、０１〜Ｃ，アルキル及び
／又はＣ７〜Ｃ４アルコキシを含んでなる群からの４つ
までの置換基で置換されていてよいピリジル、チェニル
、フリル、ピリミジル、ピペリジニル、ピペリジニル、
モル７オリニル、チオモル７オリニル、キノリル、イソ
キノリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル
、チアジアゾリル、ピロリル、ベンズイミダゾリル、ベ
ンゾチアノアゾリル、インドリル、インドロニル、チア
ゾリル、イソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイ
ソチアゾリル又はベンゾイソチアゾロニル。
Ｒ３の特に好適な意味は次の通りである：Ｑ：随時弗素
、塩素、臭素、シア／、ヒドロキシル、トリアルオルメ
チル、カルボキシビニル％Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜
Ｃ，アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ。
、塩素、臭素、シア／、ヒドロキシル、トリアルオルメ
チル、カルボキシビニル％Ｃ１〜Ｃ４アルキル、Ｃ１〜
Ｃ，アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ。
メチル−又はエトキシカルボニルアルキル、７エ二ル、
フェノキシ、アミノ、ジメチルアミノ及び／又はアセチ
ルアミノを含んでなる群からの３つまでの置換基で置換
されていてよいＣ１〜Ｃ，アルキル、フェニル又はす７
チル；或いは随時Ｃ２〜Ｃ。
フェノキシ、アミノ、ジメチルアミノ及び／又はアセチ
ルアミノを含んでなる群からの３つまでの置換基で置換
されていてよいＣ１〜Ｃ，アルキル、フェニル又はす７
チル；或いは随時Ｃ２〜Ｃ。
アルキル、弗素、塩素、臭素、アミノ又はジメチルアミ
ノで置換されていてよいピリジル、チェニル、フリル、
ピリミジル、ピラジニル、ピペリジニル、モル７オリニ
ル又はキノリル、ベンズイソチアゾロニル、ベンゾチア
ゾリル又はインドロニル。
ノで置換されていてよいピリジル、チェニル、フリル、
ピリミジル、ピラジニル、ピペリジニル、モル７オリニ
ル又はキノリル、ベンズイソチアゾロニル、ベンゾチア
ゾリル又はインドロニル。
本発明によれば、基Ｒ４は次の意味を有する：Ｄ：水素
、Ｃ１〜Ｃ，アルキル、Ｃ１〜Ｃ，ヒドロキシアルキル
、０２〜Ｃ８アルケニル％Ｃ５〜Ｃ８シクロアルキル トキシ又はトリフルオルメチルで置換されていてもよい
Ｃ．〜Ｃ１２アリール、Ｃｌ〜Ｃ６アルキルカルボニル
或いは１、２又は３つの酸素、硫黄及び／又は窒素を環
員に含有することができ且つ随時低級アルキル、低級ア
ルコキシ、低級アルコキシカルボニル、カルボキシル、
ハロゲン、トリフルオルメチル、トリプルオルメトキシ
、アミノ、ジメチルアミノ又はアセチルアミノで置換さ
れていてもよい環員数５又は６の飽和、不飽和又は芳香
族の複索環。
、Ｃ１〜Ｃ，アルキル、Ｃ１〜Ｃ，ヒドロキシアルキル
、０２〜Ｃ８アルケニル％Ｃ５〜Ｃ８シクロアルキル トキシ又はトリフルオルメチルで置換されていてもよい
Ｃ．〜Ｃ１２アリール、Ｃｌ〜Ｃ６アルキルカルボニル
或いは１、２又は３つの酸素、硫黄及び／又は窒素を環
員に含有することができ且つ随時低級アルキル、低級ア
ルコキシ、低級アルコキシカルボニル、カルボキシル、
ハロゲン、トリフルオルメチル、トリプルオルメトキシ
、アミノ、ジメチルアミノ又はアセチルアミノで置換さ
れていてもよい環員数５又は６の飽和、不飽和又は芳香
族の複索環。
Ｒ４の好適な意味は次の通りである：
に：水素、低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル、低
級アルケニル、低級アルキルカルボニル、シア／、或い
は随時弗素、塩素、メチル、メトキシ及び／又はトリフ
ルオルメチルを含んでなる群からの３つまでの置換基で
置換されたフェニル、ピリジル、チェニル、フリル、ピ
リミジル、イミダゾリル又はピロリル。
級アルケニル、低級アルキルカルボニル、シア／、或い
は随時弗素、塩素、メチル、メトキシ及び／又はトリフ
ルオルメチルを含んでなる群からの３つまでの置換基で
置換されたフェニル、ピリジル、チェニル、フリル、ピ
リミジル、イミダゾリル又はピロリル。
１（４の特に好適な意味は次の通りである：ｔ＜：水素
、メチル、エチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチ
ル、メチルカルボニル、シアノ又はフェニル。
、メチル、エチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチ
ル、メチルカルボニル、シアノ又はフェニル。
本発明によれば、Ｒ ’は次の意味を有する：Ｅ： Ｃ
＋〜Ｃ，アルキル又は水素。
＋〜Ｃ，アルキル又は水素。
Ｒ５の好適な意味は次の通りである：
Ｌ：低級フルキル又は水素。
Ｒ５の特に好適な意味は次の辿りである：Ｓ：Ｃ，〜Ｃ
４アルキル又は水素。
４アルキル又は水素。
本発明によれば、基Ｘは次の意味を有する：Ｆ：カルポ
キシル、Ｃ，−Ｃ，アルコキンカルボニル、シアノ又は
カルボキサミド。
キシル、Ｃ，−Ｃ，アルコキンカルボニル、シアノ又は
カルボキサミド。
Ｘの好適な意味は次の通りである：
Ｍ：カルボキシル、低級アルコキシカルボニル又はシア
ノ。
ノ。
Ｘの特に好適な意味は次の通りである：Ｔ二カルボキシ
ル、Ｃｌ−Ｃ４アルコキシカルボニル又はシア／。
ル、Ｃｌ−Ｃ４アルコキシカルボニル又はシア／。
Ｘは特に好ましくはカルボニルであるＷを示す。
本発明によれば添字ｍは次の意味を有する二Ｇ二数２．
３又は４の１つ。
３又は４の１つ。
糟の好適な意味は次の通りである：
Ｎ：数２又は３の１つ。
ｍの特に好適な意味は次の通りである：Ｕ：２゜
本発明の関連において、置換基Ｒ’、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４
、Ｒ５及びＸｌそして添字ｍが下表の組合せであるＮ−
インドリルエチルスルホン酸アミドは好適である： １（’ Ｒ” ｆ＜Ｊ Ｒ’
Ｒ５Ｘ ｍＡ Ｂ ＣＤ
Ｌ ｌ’ＧＯＰＱＲＬ’［Ｕ Ａ Ｂ ＣＤ Ｅ ＭＧＯＰ
Ｑ ＲＳ Ｍ ｔＪＡ
Ｂ ＣＤ Ｅ ＦＮＯＰ
Ｑ ＲＳ ＴＮＯＢ Ｃ
Ｄ Ｅ ＦＧｏｌＪＫＬＭＮ ＡＰＣＤＥＦ″ Ｇ Ｈ１） Ｊ Ｋ Ｌ Ｍ
ＮＡ Ｂ Ｑ Ｄ
Ｅ ＦＧｌ−Ｉ Ｉ Ｑ
Ｋ Ｌ Ｍ ＮＡ Ｂ
ＣＲＥ ＦＧＨＩ Ｊ
ＲＬ Ｍ ＮＡ Ｂ ＣＤ
Ｓ ＦＧＨＩ Ｊ
Ｋ Ｓ ＭＮＡ Ｂ
ＣＤ Ｅ ＴＧＨＩ Ｊ
Ｋ Ｌ ＴＮＡ Ｂ
ＣＤ Ｅ ＦＵＨＩＪＫＬＭ
Ｕ Ａ Ｖ ＣＤ Ｅ ＦＧＨＶ
Ｊ Ｋ Ｌ ＭＮＯＶ
Ｑ ＲＳ ＴＵＡ Ｂ
ＣＤ Ｅ ＷＧＨＩＪＫＬＷＮ ＯＰ Ｑ ＲＳ Ｗ ＵＡ
Ｖ ＣＤ Ｅ ＷＧＨＶＪＫ
ＬＷＮ ＯＶ Ｑ ＲＳ ＷＵＡ Ｂ
ＣＤ Ｅ ＦＧＨＩＪＫＬＭＮ ＯＰ Ｑ ＲＳ ＴＵＡＩＪＫＬＭ
Ｎ Ａ Ｐ Ｑ ＲＳ ＴＵＨＢ
Ｊ Ｋ Ｌ ＭＮＯＢ
Ｑ ＲＳ ＴＵＨＩ ＣＫ
Ｌ ＭＮＯＰ ＣＲＳ Ｔ
ＵＨＩ Ｊ Ｄ ＬＭ
ＮＯＰ Ｑ Ｄ Ｓ
ＴＵＨＩＪＫＥＭＮ Ｏ丁） Ｑ ＲＥ Ｔ
ＵＨＩ Ｊ Ｋ Ｌ
Ｆ Ｎｏ １） Ｑ ＲＳ
Ｆ ＵＨＩＪＫＬＭＧ ＯＰ Ｑ ＲＳ ＴＧＨＢＪ
ＫＬＭＮ ＨＰ Ｑ Ｋ Ｌ
ＭＮＡＩＣＤＥＦＧ ０ １ Ｑ ＲＳ Ｔ
ＵＨＢ ＣＤ Ｅ ＦＧＨＰ
Ｑ ＲＳ ＴＵＡ
Ｂ Ｊ Ｄ Ｅ
ＦＧＯＰ Ｊ ＲＳ ＴＵＡ
Ｂ ＣＫ Ｅ Ｆ
ＧＯＰ Ｑ Ｋ Ｓ
ＴＵ組合せＨ，Ｉ、Ｊ、に、Ｌ、Ｍ、Ｎ及びＯ，Ｐ、
Ｑ、Ｒ。
、Ｒ５及びＸｌそして添字ｍが下表の組合せであるＮ−
インドリルエチルスルホン酸アミドは好適である： １（’ Ｒ” ｆ＜Ｊ Ｒ’
Ｒ５Ｘ ｍＡ Ｂ ＣＤ
Ｌ ｌ’ＧＯＰＱＲＬ’［Ｕ Ａ Ｂ ＣＤ Ｅ ＭＧＯＰ
Ｑ ＲＳ Ｍ ｔＪＡ
Ｂ ＣＤ Ｅ ＦＮＯＰ
Ｑ ＲＳ ＴＮＯＢ Ｃ
Ｄ Ｅ ＦＧｏｌＪＫＬＭＮ ＡＰＣＤＥＦ″ Ｇ Ｈ１） Ｊ Ｋ Ｌ Ｍ
ＮＡ Ｂ Ｑ Ｄ
Ｅ ＦＧｌ−Ｉ Ｉ Ｑ
Ｋ Ｌ Ｍ ＮＡ Ｂ
ＣＲＥ ＦＧＨＩ Ｊ
ＲＬ Ｍ ＮＡ Ｂ ＣＤ
Ｓ ＦＧＨＩ Ｊ
Ｋ Ｓ ＭＮＡ Ｂ
ＣＤ Ｅ ＴＧＨＩ Ｊ
Ｋ Ｌ ＴＮＡ Ｂ
ＣＤ Ｅ ＦＵＨＩＪＫＬＭ
Ｕ Ａ Ｖ ＣＤ Ｅ ＦＧＨＶ
Ｊ Ｋ Ｌ ＭＮＯＶ
Ｑ ＲＳ ＴＵＡ Ｂ
ＣＤ Ｅ ＷＧＨＩＪＫＬＷＮ ＯＰ Ｑ ＲＳ Ｗ ＵＡ
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ＬＷＮ ＯＶ Ｑ ＲＳ ＷＵＡ Ｂ
ＣＤ Ｅ ＦＧＨＩＪＫＬＭＮ ＯＰ Ｑ ＲＳ ＴＵＡＩＪＫＬＭ
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Ｊ Ｋ Ｌ ＭＮＯＢ
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Ｌ ＭＮＯＰ ＣＲＳ Ｔ
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ＫＬＭＮ ＨＰ Ｑ Ｋ Ｌ
ＭＮＡＩＣＤＥＦＧ ０ １ Ｑ ＲＳ Ｔ
ＵＨＢ ＣＤ Ｅ ＦＧＨＰ
Ｑ ＲＳ ＴＵＡ
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ＦＧＯＰ Ｊ ＲＳ ＴＵＡ
Ｂ ＣＫ Ｅ Ｆ
ＧＯＰ Ｑ Ｋ Ｓ
ＴＵ組合せＨ，Ｉ、Ｊ、に、Ｌ、Ｍ、Ｎ及びＯ，Ｐ、
Ｑ、Ｒ。
Ｓ、Ｔ、Ｕを有するＮ−インドリルエチルスルホン酸ア
ミドは特に好適である。
ミドは特に好適である。
特に好適なものは同様に、Ｒ１が弗素を示し、Ｒ２が水
素を示し、Ｒ３が弗素で置換された７エ二ルな示し、Ｒ
４とＲ５が水素を示し、そしてＸがＣ００Ｈを示すＮ−
ジインドリルエチルスルホン酸アミドである。
素を示し、Ｒ３が弗素で置換された７エ二ルな示し、Ｒ
４とＲ５が水素を示し、そしてＸがＣ００Ｈを示すＮ−
ジインドリルエチルスルホン酸アミドである。
本発明によれば、一般にアルキルは炭素数１〜８の直鎖
又は分岐鎖炭化水素基を表わす。炭素数１〜約６の低級
アルキルは好適である。炭素数１〜４のアルキル基は特
に好適である。次のアルキル基は例として言及すること
がである二メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシ
ル、イソヘキシル、ヘプチル、イソへブチル、オクチル
及びイソオクチル。
又は分岐鎖炭化水素基を表わす。炭素数１〜約６の低級
アルキルは好適である。炭素数１〜４のアルキル基は特
に好適である。次のアルキル基は例として言及すること
がである二メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシ
ル、イソヘキシル、ヘプチル、イソへブチル、オクチル
及びイソオクチル。
一般にアルケニルは炭素数２〜８を゛有し且つ１つ又は
それ以上の、好ましくは１又は２つの二重結合を有する
直鎖又は分岐鎖炭化水素基を表わす。
それ以上の、好ましくは１又は２つの二重結合を有する
直鎖又は分岐鎖炭化水素基を表わす。
炭素数２〜４と１つの二重結合を有するアルケニルは特
に好適である。次のフルケニル基は例として言及しうる
：ビニル、７リル、プロペニル、イソプロペニル、ブテ
ニル、インブテニル、ペンテニル、インペンテニル、ヘ
キセニル、イソへキセニル、ヘプテニル、イソへブテニ
ル、オクテニル及びインオクテニル。
に好適である。次のフルケニル基は例として言及しうる
：ビニル、７リル、プロペニル、イソプロペニル、ブテ
ニル、インブテニル、ペンテニル、インペンテニル、ヘ
キセニル、イソへキセニル、ヘプテニル、イソへブテニ
ル、オクテニル及びインオクテニル。
本発明によれば、一般にアルコキシは炭素数１〜８の酸
素を経て結合する直鎖又は分岐鎖炭化水素を表わす。炭
素数１〜約６の低級アルコキシが好適である。炭素数１
〜４のアルコキシは特に好適である０次のアルコキシ基
は例として言及しうる：メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、インプロポキシ、ブトキシ、インブトキシ、ペント
キシ、イソペントキシ、ヘキソキシ、イソヘキソキシ、
ヘプトキシ、イソへブトキシ、オクトキシ及１イソオク
トキシ。
素を経て結合する直鎖又は分岐鎖炭化水素を表わす。炭
素数１〜約６の低級アルコキシが好適である。炭素数１
〜４のアルコキシは特に好適である０次のアルコキシ基
は例として言及しうる：メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、インプロポキシ、ブトキシ、インブトキシ、ペント
キシ、イソペントキシ、ヘキソキシ、イソヘキソキシ、
ヘプトキシ、イソへブトキシ、オクトキシ及１イソオク
トキシ。
本発明によれば、一般にシクロアルキルは炭素数５〜８
の環式炭化水素基である。シクロペンタン及びシクロヘ
キサン基は好適である０次のシクロアルキル基は例とし
て言及しうるニジクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロペンチル及びシクロオクチル。
の環式炭化水素基である。シクロペンタン及びシクロヘ
キサン基は好適である０次のシクロアルキル基は例とし
て言及しうるニジクロペンチル、シクロヘキシル、シク
ロペンチル及びシクロオクチル。
本発明によれば、一般に７リールは炭素数６〜１２の芳
香族基を表わす、好適なアリール基は７エ二ル、ナフチ
ル及びビフェニルである。
香族基を表わす、好適なアリール基は７エ二ル、ナフチ
ル及びビフェニルである。
本発明によれば、一般にアラルキルは炭素数７〜１４を
有し且つアルキレン頷を通して結合しているアリール基
を表わす。脂肪族部分の炭素数が１〜６及び芳香族部分
の炭素数が６〜１２のアラルキル基は好適である。次の
７ラルキル基は例として言及しうる：ベンクル、ナフチ
ルメチル及び７エネチル。
有し且つアルキレン頷を通して結合しているアリール基
を表わす。脂肪族部分の炭素数が１〜６及び芳香族部分
の炭素数が６〜１２のアラルキル基は好適である。次の
７ラルキル基は例として言及しうる：ベンクル、ナフチ
ルメチル及び７エネチル。
アルコキシカルボニルは例えば式−Ｃ−０−アルキルで
表わすことができる。この式において、アルキルは炭素
数１〜８の直鎖又は分岐鎖炭化水素基を表わす、アルキ
ル部分の炭素数が１〜約６の低級アルコキシカルボニル
が好適である。アルキル部分の炭素数が１〜４のアルコ
キシカルボニルは特に好適である。次の低級アルコキシ
カルボニル基は例として言及しうる：エトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソ
プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル及びインブ
トキシカルボニル。
表わすことができる。この式において、アルキルは炭素
数１〜８の直鎖又は分岐鎖炭化水素基を表わす、アルキ
ル部分の炭素数が１〜約６の低級アルコキシカルボニル
が好適である。アルキル部分の炭素数が１〜４のアルコ
キシカルボニルは特に好適である。次の低級アルコキシ
カルボニル基は例として言及しうる：エトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソ
プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル及びインブ
トキシカルボニル。
本発明によれば一般にハロゲンは弗素、塩素、臭素又は
ヨツ素、好ましくは弗素、塩素又は臭素、及び特に好ま
しくは弗素又は塩素を表わす。
ヨツ素、好ましくは弗素、塩素又は臭素、及び特に好ま
しくは弗素又は塩素を表わす。
基Ｒ’％Ｒ２、ｌ（３、Ｒ４及びＸは随時他の基で置換
されていさもよい。４つまで、好ましくは３つまで、特
に好ましくは２つまでの他の基の置換である。
されていさもよい。４つまで、好ましくは３つまで、特
に好ましくは２つまでの他の基の置換である。
本発明によるＮ−インドリルエチル−スルホン酸アミド
は塩の形であってよい。一般に有機又は無機塩基との塩
を言及することができる。
は塩の形であってよい。一般に有機又は無機塩基との塩
を言及することができる。
生理学的に許容しうる塩は本発明の関連で好適である。
Ｎ−インドリルエチル−スルホン酸アミドの許容しうる
塩は、遊離のカルボキシル基を有する本発明の物質の金
属又はアンモニウム塩であってよい。特に好適な塩は例
えばナトリウム、カリウム、マグネシウム又はカルシウ
ム塩及びアンモニア又は有機アミン例えばエチルアミン
、ジ又はトリエチルアミン、）又はトリエタノールアミ
ン、ノシクロヘキシルアミン、ツメチルアミ／エタノー
ル、アルギニン又はエチレンクアミンに白米するアンモ
ニウム塩である。
塩は、遊離のカルボキシル基を有する本発明の物質の金
属又はアンモニウム塩であってよい。特に好適な塩は例
えばナトリウム、カリウム、マグネシウム又はカルシウ
ム塩及びアンモニア又は有機アミン例えばエチルアミン
、ジ又はトリエチルアミン、）又はトリエタノールアミ
ン、ノシクロヘキシルアミン、ツメチルアミ／エタノー
ル、アルギニン又はエチレンクアミンに白米するアンモ
ニウム塩である。
次のＮ−インドリルエチル・スルホン酸アミドは例とし
て言及しうる：Ｎ−［２−［１−（２−カルボキンエチ
ル）−１８−インドルー３−イル】】エチル−（４〜メ
チル−フェニル）スルホンアミド、Ｎ−［２−（１−（
２・カルボキシエチル）−５−メトキシ・ＩＨ−インド
ルー３−イルｌ】エチル−フェニルスルホンアミドナト
リウム塩、Ｎ−（２−（カルボキシエチル）−５−ヒド
ロキシ−ＩＨ−インドルー３−イル１１エチル−フェニ
ル−スルホンアミドナトリウム塩、Ｎ−［２−［５−ベ
ンジロキシ−１−（２−カルボキシエチル）−１Ｈ−イ
ンドルー３−イル】】エチル−フェニル−スルホンアミ
ド。
て言及しうる：Ｎ−［２−［１−（２−カルボキンエチ
ル）−１８−インドルー３−イル】】エチル−（４〜メ
チル−フェニル）スルホンアミド、Ｎ−［２−（１−（
２・カルボキシエチル）−５−メトキシ・ＩＨ−インド
ルー３−イルｌ】エチル−フェニルスルホンアミドナト
リウム塩、Ｎ−（２−（カルボキシエチル）−５−ヒド
ロキシ−ＩＨ−インドルー３−イル１１エチル−フェニ
ル−スルホンアミドナトリウム塩、Ｎ−［２−［５−ベ
ンジロキシ−１−（２−カルボキシエチル）−１Ｈ−イ
ンドルー３−イル】】エチル−フェニル−スルホンアミ
ド。
Ｎ−［２−（１−（２−カルボキシエチル）−ＩＨ−イ
ンドルー３−イル月エチル−（４−クロルフェニル）ス
ルホンアミドトリエチルアミン塩、Ｎ−［２−［１−（
２−カルボキシエチル）−１８−インドルー３−イル１
１エチル−（２，５−９クロル７エエル）スルホンアミ
ド、Ｎ−［２−［１−（２−カルボキシエチル）−２−
メチル−ＩＨ−インドル−３−イル１】エチル−フェニ
ルスルホンアミド、Ｎ−［２−（１−（２−カルボキシ
エチル）−１Ｈ・インドルー３−イル１】エチル−（２
，４−ジクロルフェニル）−スルホンアミド、Ｎ−［２
−（１−（２−カルボキシエチル）−１Ｈ−インドルー
３−４７１月エチル−２−チェニルスルホンアミド、Ｎ
−［２−（１−（２−カルボキシエチル）−５−メチル
−ＩＨ−インドルー３−イル】】エチル−７二二ルスル
ホンアミＦ、Ｎ−（２−［１−（２−カルボキシエチル
）−ＩＨ−インドルー３−イル１１エチｌレ−（４−７
二／キシフエニル）スルホンアミド及びＮ−［２−［１
−（２−カルボキシエチル）−１夏（−インドル−３−
イルＪ］エチルー３−ビリジルースルホンアミド。
ンドルー３−イル月エチル−（４−クロルフェニル）ス
ルホンアミドトリエチルアミン塩、Ｎ−［２−［１−（
２−カルボキシエチル）−１８−インドルー３−イル１
１エチル−（２，５−９クロル７エエル）スルホンアミ
ド、Ｎ−［２−［１−（２−カルボキシエチル）−２−
メチル−ＩＨ−インドル−３−イル１】エチル−フェニ
ルスルホンアミド、Ｎ−［２−（１−（２−カルボキシ
エチル）−１Ｈ・インドルー３−イル１】エチル−（２
，４−ジクロルフェニル）−スルホンアミド、Ｎ−［２
−（１−（２−カルボキシエチル）−１Ｈ−インドルー
３−４７１月エチル−２−チェニルスルホンアミド、Ｎ
−［２−（１−（２−カルボキシエチル）−５−メチル
−ＩＨ−インドルー３−イル】】エチル−７二二ルスル
ホンアミＦ、Ｎ−（２−［１−（２−カルボキシエチル
）−ＩＨ−インドルー３−イル１１エチｌレ−（４−７
二／キシフエニル）スルホンアミド及びＮ−［２−［１
−（２−カルボキシエチル）−１夏（−インドル−３−
イルＪ］エチルー３−ビリジルースルホンアミド。
更に本発明は、式
〔式中、Ｒ’は水素、ハロゲン、トリプルオルメチル、
カルボキシル、Ｃ１〜Ｃ・アルコキシカルボニル、基 −８（０）ｎ−Ｒ’ 但ＬＲ＠ｌｔＣ，−Ｃ，７に’Ｆｋ又Ｊ！ Ｃｓ −Ｃ
Ｉｚ ７リールを示し、そし、で ｎは敗０．１又は２の１つを示す、 を示し、或いは基 Ｒテ Ｎ Ｒ＠ 但し、Ｒ’及びＲ１は同一でも異なってもよく且つ水素
、Ｃ２〜Ｃ，アルキル、Ｃ６〜Ｃ目７リール、Ｃ１〜Ｃ
２，７ラルキル又は７セチルを示す、 を示し、或いは基 ０−Ｒ１ 但し、Ｒ１は水素、Ｃ１〜Ｃ，アルキル、Ｃ１〜Ｃ１１
アリール・Ｃテ〜Ｃｚ７ラルキル、Ｃ，〜Ｃｍ−Ｃｍ−
８ｏル＋ｓ、、Ｃｇ−Ｃ１ｚ ５Ｏ２−７リール、Ｃ
７〜ＣＩ ４− Ｓ Ｏｔ−７ラルキル又はトリオルオ
ルメチルを示す、 ｔｆ＝ ｒ−ｍイｔ＋ｍｔｔａａ １１−７４ ｐ−ｎ
−ｔａ、ｍ−ｓ ｕ −キシカルボニル、ハロゲン、ヒ
ドロ斗シル、低級アルコキシ及び／又はシアノで置換さ
れたＣ８〜Ｃ，フルキル、Ｃ２〜Ｃ，アルケニル又はＣ
５−Ｃ・ジクロフルキルを示し、 Ｒ２は水素を示し或いは随時ハロゲン、カルボキシル、
低級アルコキシカルボニル、カルボキサミド及Ｖ／又は
シアノで置換されたＣ１〜Ｃ。
カルボキシル、Ｃ１〜Ｃ・アルコキシカルボニル、基 −８（０）ｎ−Ｒ’ 但ＬＲ＠ｌｔＣ，−Ｃ，７に’Ｆｋ又Ｊ！ Ｃｓ −Ｃ
Ｉｚ ７リールを示し、そし、で ｎは敗０．１又は２の１つを示す、 を示し、或いは基 Ｒテ Ｎ Ｒ＠ 但し、Ｒ’及びＲ１は同一でも異なってもよく且つ水素
、Ｃ２〜Ｃ，アルキル、Ｃ６〜Ｃ目７リール、Ｃ１〜Ｃ
２，７ラルキル又は７セチルを示す、 を示し、或いは基 ０−Ｒ１ 但し、Ｒ１は水素、Ｃ１〜Ｃ，アルキル、Ｃ１〜Ｃ１１
アリール・Ｃテ〜Ｃｚ７ラルキル、Ｃ，〜Ｃｍ−Ｃｍ−
８ｏル＋ｓ、、Ｃｇ−Ｃ１ｚ ５Ｏ２−７リール、Ｃ
７〜ＣＩ ４− Ｓ Ｏｔ−７ラルキル又はトリオルオ
ルメチルを示す、 ｔｆ＝ ｒ−ｍイｔ＋ｍｔｔａａ １１−７４ ｐ−ｎ
−ｔａ、ｍ−ｓ ｕ −キシカルボニル、ハロゲン、ヒ
ドロ斗シル、低級アルコキシ及び／又はシアノで置換さ
れたＣ８〜Ｃ，フルキル、Ｃ２〜Ｃ，アルケニル又はＣ
５−Ｃ・ジクロフルキルを示し、 Ｒ２は水素を示し或いは随時ハロゲン、カルボキシル、
低級アルコキシカルボニル、カルボキサミド及Ｖ／又は
シアノで置換されたＣ１〜Ｃ。
フルキル、Ｃ２〜Ｃ，アルケニル又はＣｓ〜Ｃｍシクａ
フルキルを示し、 Ｒ４は水素、０１〜Ｃ，アルキル、Ｃ５〜Ｃ，ヒドロキ
シフルキル、Ｃ２〜Ｃ，アルケニル、Ｃ１〜Ｃｓシクロ
アルキル、シアノ、随時ハロゲン、メチル、メトキシ又
はトリオルオルメチルで置換されていてもよい０６〜Ｃ
Ｉ！アリール、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル或いは１
．２又は３つの酸素、硫黄及び／又は窒素を環員に含有
することができ且つ随時低級アルキル、低級アルコキシ
、低級アルコキシカルボニル、カルボキシル、ハロゲン
、トリフルオルメチル、）＋７フルオルメトキシ、７ミ
ノ、ジメチルアミノ又は７セチルアミノで置換さ扛てい
てもよい環員数５又は６の飽和、不飽和又は芳香族の複
素環を示し、そして −は２．３又は４を示す〕 のインドリルアルキルアミンを、不活性な溶媒の存在下
及び適当ならば塩基の存在下に、式％式％（） 〔式中、ＲコはＣ５〜Ｃ，アルキル、Ｃ２〜Ｃ。
フルキルを示し、 Ｒ４は水素、０１〜Ｃ，アルキル、Ｃ５〜Ｃ，ヒドロキ
シフルキル、Ｃ２〜Ｃ，アルケニル、Ｃ１〜Ｃｓシクロ
アルキル、シアノ、随時ハロゲン、メチル、メトキシ又
はトリオルオルメチルで置換されていてもよい０６〜Ｃ
Ｉ！アリール、Ｃ１〜Ｃ６アルキルカルボニル或いは１
．２又は３つの酸素、硫黄及び／又は窒素を環員に含有
することができ且つ随時低級アルキル、低級アルコキシ
、低級アルコキシカルボニル、カルボキシル、ハロゲン
、トリフルオルメチル、）＋７フルオルメトキシ、７ミ
ノ、ジメチルアミノ又は７セチルアミノで置換さ扛てい
てもよい環員数５又は６の飽和、不飽和又は芳香族の複
素環を示し、そして −は２．３又は４を示す〕 のインドリルアルキルアミンを、不活性な溶媒の存在下
及び適当ならば塩基の存在下に、式％式％（） 〔式中、ＲコはＣ５〜Ｃ，アルキル、Ｃ２〜Ｃ。
アルケニル、０５〜Ｃ，シクロアルキル、随時ハロゲン
、シフ）、）＋７フルオルメチル、トルフルオルメトキ
シ、トルフルオルメチルチオ、低級アルキル又は低級ア
ルケニル、なお順次カルボキシル又は低級アルコキシカ
ルボニルで置換されていてもよいそれら、低級アルコキ
シ、カルボキシル、ヒドロキシル、低級アルコキシカル
ボニル、フェニル、フェノキシ、ベンジロキシ、ペンシ
ルチオ又は基Ｒフ Ｎ ａ 但しＲ７及びＲ８は上述の意味を有する、で置換されて
いてもよい０６〜ＣＩ２７リールを示し、或いは１．２
又は３つの酸素、硫黄及び／又は窒素を環員に含有する
ことができ且つ随時低級アルキル、低級アルコキシ、ハ
ロゲン、ト１Ｊフルオルメチル、１７フルオルメトキシ
、７ミノ、ジメチルアミノ及び／又はアセチルアミノで
置換されていてもよい環員数５又は６の飽和の、不飽和
の又は芳香族の、随時ベンゾ融合した複素環を示し、そ
して Ｙはハロゲンを表わす〕 のスルホン酸ハライドと反応させ、そしてこの生成物を
不活性な溶媒の存在下且つ適当ならば塩基の存在下に式 （式中、Ｘ′はＣ１〜Ｃ６アルコキンカルポニル、シア
ノ又はカルボキサミドを示し、そして Ｒ５は水素又はＣ１〜Ｃ，アルキルを示す〕のオレフィ
ン性化合物でアルキル化し、そして４−１５−１６−又
は７−位がヒドロキシルで置換された化合物を製造する
場合には対応するペンノロキシ化合物を不活性溶媒中触
媒の存在下に且つ適当ならば酸の存在下に水素化し、ま
たＮ−シンドリルエチルカルボキシル化合物のｇｌ造の
場合には対応するニトリル又はアルコキシカルボニルを
加水分解し、また塩を製造する場合には生成物を対応す
る塩基と反応させる、Ｎ−インドリルエチルスルホン酸
及びその塩の製造法にも関する。
、シフ）、）＋７フルオルメチル、トルフルオルメトキ
シ、トルフルオルメチルチオ、低級アルキル又は低級ア
ルケニル、なお順次カルボキシル又は低級アルコキシカ
ルボニルで置換されていてもよいそれら、低級アルコキ
シ、カルボキシル、ヒドロキシル、低級アルコキシカル
ボニル、フェニル、フェノキシ、ベンジロキシ、ペンシ
ルチオ又は基Ｒフ Ｎ ａ 但しＲ７及びＲ８は上述の意味を有する、で置換されて
いてもよい０６〜ＣＩ２７リールを示し、或いは１．２
又は３つの酸素、硫黄及び／又は窒素を環員に含有する
ことができ且つ随時低級アルキル、低級アルコキシ、ハ
ロゲン、ト１Ｊフルオルメチル、１７フルオルメトキシ
、７ミノ、ジメチルアミノ及び／又はアセチルアミノで
置換されていてもよい環員数５又は６の飽和の、不飽和
の又は芳香族の、随時ベンゾ融合した複素環を示し、そ
して Ｙはハロゲンを表わす〕 のスルホン酸ハライドと反応させ、そしてこの生成物を
不活性な溶媒の存在下且つ適当ならば塩基の存在下に式 （式中、Ｘ′はＣ１〜Ｃ６アルコキンカルポニル、シア
ノ又はカルボキサミドを示し、そして Ｒ５は水素又はＣ１〜Ｃ，アルキルを示す〕のオレフィ
ン性化合物でアルキル化し、そして４−１５−１６−又
は７−位がヒドロキシルで置換された化合物を製造する
場合には対応するペンノロキシ化合物を不活性溶媒中触
媒の存在下に且つ適当ならば酸の存在下に水素化し、ま
たＮ−シンドリルエチルカルボキシル化合物のｇｌ造の
場合には対応するニトリル又はアルコキシカルボニルを
加水分解し、また塩を製造する場合には生成物を対応す
る塩基と反応させる、Ｎ−インドリルエチルスルホン酸
及びその塩の製造法にも関する。
本発明に方法は例えば次の方程式で例示することができ
る： ＣＨ２ さＮ ＣＨ。
る： ＣＨ２ さＮ ＣＨ。
ＣＨ２
ＯＯＨ
中間体は一般に本発明による方法を行なう時に生成し、
分離することがでトる。即ち本発明の方法はい（つかの
工程段階で行なうことが可能である。しかしながら種々
の工程段階を組合せ、ワンポット法として行なうことも
可能である。
分離することがでトる。即ち本発明の方法はい（つかの
工程段階で行なうことが可能である。しかしながら種々
の工程段階を組合せ、ワンポット法として行なうことも
可能である。
インドリルアルキルアミン（式■）、スルホン酸ハライ
ド（式■）及びオレフィン性化合物（式■）は公知であ
り、或いは公知の方法で製造することができる〔７−ペ
ン（Ｈｏｕｂｅｎ）−ワイル（Ｗｅｙｌ）、メソ−テン
・デア・オーがニツシエン・ヘミ−（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ
ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍ
ｉｅ）、 第９８、４０７〜及び５４７〜（１９５９）
；ザ・ケミストリー・オプ・インドールズ（Ｔｈｅ Ｃ
ｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｉｎｄｏｌｅｓ）、アカデミ
ツク・プレス（Ａ ｃａｄｅｍｉｅ Ｐ ｒｅｓｓ）；
Ｗ、 Ｊ 、 ７−リハン（Ｈｏｕｉｉｈａｎ）、イン
ドールズ（Ｉ ｎｄｏｌｅｓ）第２部、ジ薯ン・ウィリ
ー・アンド・サンズ（Ｊ ｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ
Ｓ ｏｎｓ）（１９７２）］。
ド（式■）及びオレフィン性化合物（式■）は公知であ
り、或いは公知の方法で製造することができる〔７−ペ
ン（Ｈｏｕｂｅｎ）−ワイル（Ｗｅｙｌ）、メソ−テン
・デア・オーがニツシエン・ヘミ−（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ
ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍ
ｉｅ）、 第９８、４０７〜及び５４７〜（１９５９）
；ザ・ケミストリー・オプ・インドールズ（Ｔｈｅ Ｃ
ｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｉｎｄｏｌｅｓ）、アカデミ
ツク・プレス（Ａ ｃａｄｅｍｉｅ Ｐ ｒｅｓｓ）；
Ｗ、 Ｊ 、 ７−リハン（Ｈｏｕｉｉｈａｎ）、イン
ドールズ（Ｉ ｎｄｏｌｅｓ）第２部、ジ薯ン・ウィリ
ー・アンド・サンズ（Ｊ ｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ
Ｓ ｏｎｓ）（１９７２）］。
本発明による方法に対する溶媒は、反応条件下に変化し
ない不活性な有機溶媒であってよい。これらは好ましく
はアルコール例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロ
パツール及びイソプロパツール、エーテル例えばジエチ
ルエーテル、ジオキサン、及びテトラヒドロ７ラン、ハ
ロデフ炭化水素例えば塩化メチレン、クロロホルム又は
四塩化炭素、ジクロルエチレン及びトリクロルエチレン
、酢酸エチル、トルエン、アセトニトリル、ニトロメタ
ン、ツメチル７ルムアミド 酸トリアミド、ビリノン及”びアセトンを含む．勿論溶
媒の混合物を用いることも可能である。
ない不活性な有機溶媒であってよい。これらは好ましく
はアルコール例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロ
パツール及びイソプロパツール、エーテル例えばジエチ
ルエーテル、ジオキサン、及びテトラヒドロ７ラン、ハ
ロデフ炭化水素例えば塩化メチレン、クロロホルム又は
四塩化炭素、ジクロルエチレン及びトリクロルエチレン
、酢酸エチル、トルエン、アセトニトリル、ニトロメタ
ン、ツメチル７ルムアミド 酸トリアミド、ビリノン及”びアセトンを含む．勿論溶
媒の混合物を用いることも可能である。
本発明の方法に可能な塩基は塩基の反応に通常の塩基化
合物である．これらは好ましくはアルカリ金属及びアル
カリ土類金属の水酸化物又は炭酸塩例えばリチウム、ナ
トリウム、カリウム、カルシウム又はバリウムの水酸化
物及びナトリウム又はカリウムの炭酸塩、アルカリ金属
アルコレート例えばナトリやム／チレート又はメチレー
ト及びカリウムメチレート及びメチレート、或いは有機
塩基例えばトリエチルアミン、ピリジン又は１−メチル
ビベリノン、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキ
シド又はテトラブチルアンモニウムヒドロキシドを含む
。
合物である．これらは好ましくはアルカリ金属及びアル
カリ土類金属の水酸化物又は炭酸塩例えばリチウム、ナ
トリウム、カリウム、カルシウム又はバリウムの水酸化
物及びナトリウム又はカリウムの炭酸塩、アルカリ金属
アルコレート例えばナトリやム／チレート又はメチレー
ト及びカリウムメチレート及びメチレート、或いは有機
塩基例えばトリエチルアミン、ピリジン又は１−メチル
ビベリノン、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキ
シド又はテトラブチルアンモニウムヒドロキシドを含む
。
本発明の方法は一般に常圧下に行なわれる。しかしなが
ら本方法を減圧又は外圧（例えば１〜１０バールの圧力
範囲）下に行なうことも可能である。
ら本方法を減圧又は外圧（例えば１〜１０バールの圧力
範囲）下に行なうことも可能である。
一般に、インドリルアルキルアミ２１モル当り１〜５モ
ル、好ましくは１〜２モル、特に好ましくは１モルのス
ルホン酸アミドが使用される。オレフィン化合物は一般
にインドリルアルキルアミン１モル当り１〜１０モル、
好ましくは１〜５モル、特に好ましくは３モルの量で用
いられる。
ル、好ましくは１〜２モル、特に好ましくは１モルのス
ルホン酸アミドが使用される。オレフィン化合物は一般
にインドリルアルキルアミン１モル当り１〜１０モル、
好ましくは１〜５モル、特に好ましくは３モルの量で用
いられる。
４−、５−、６−又は７−位がヒドロキシルで置換され
たＮ−インドリルエチル−スルホン酸アミドの製造にお
いては、対応するペンノロキシ化合物を触媒と不活性な
有機溶媒の存在下に、適当ならば酸の存在下に水素化す
る。
たＮ−インドリルエチル−スルホン酸アミドの製造にお
いては、対応するペンノロキシ化合物を触媒と不活性な
有機溶媒の存在下に、適当ならば酸の存在下に水素化す
る。
言及しうる溶媒は、水素化条件下に変化しない不活性な
有機溶媒である．これらは好ましくはアルコール例えば
メタノール、エタノール、プロパツール又はイソプロパ
ツール、エーテル例えばジエチルエーテル、ジオキサン
又はテトラヒドロ７ラン、塩素化炭化水素例えば塩化メ
チレン、クロロホルム又は四塩化炭素或いは１，２−ジ
クロルエタン、トルエン又は酢酸エチルを含む。
有機溶媒である．これらは好ましくはアルコール例えば
メタノール、エタノール、プロパツール又はイソプロパ
ツール、エーテル例えばジエチルエーテル、ジオキサン
又はテトラヒドロ７ラン、塩素化炭化水素例えば塩化メ
チレン、クロロホルム又は四塩化炭素或いは１，２−ジ
クロルエタン、トルエン又は酢酸エチルを含む。
水素化は好ましくは貴金属触媒の存在下に行なわれる。
白金、パラジウム又はパラジウム／動物炭触媒は特に好
適である。この触媒はベンジロキシインドリル化合物に
基づいて一般に１〜１００モル％、好ましくは５〜１０
０モル％の量で使用される。
適である。この触媒はベンジロキシインドリル化合物に
基づいて一般に１〜１００モル％、好ましくは５〜１０
０モル％の量で使用される。
本発明で使用しうる酸は強鉱酸であるが、有機酸であっ
てもよい。ハロゲン化水素酸例えば塩酸又は臭化水素酸
、硫酸、燐酸、過塩素酸、酢酸及びトリフルオル酢酸は
好適である。一般にペンノロキシ化合物に基づいて１〜
１００重量部、好ましくは１〜５０重量部を使用する。
てもよい。ハロゲン化水素酸例えば塩酸又は臭化水素酸
、硫酸、燐酸、過塩素酸、酢酸及びトリフルオル酢酸は
好適である。一般にペンノロキシ化合物に基づいて１〜
１００重量部、好ましくは１〜５０重量部を使用する。
水素化は一般に常圧下に行なわれる．しかしながらこれ
は昇圧下又は減圧下に行なってもよい（例えば０．５〜
５０パールの圧力範囲）。
は昇圧下又は減圧下に行なってもよい（例えば０．５〜
５０パールの圧力範囲）。
Ｎ−インドリルエチル−カルボニル化合物の場合には、
対応するニトリル又はフルコキシカルボニル化合物を加
水分解する。加水分解は塩基好ましくはアルカリ金属又
はアルカリ土類金属水酸化物又はアルコレートの存在下
に行なわれる。塩基例えばアルカリ金属又はアルカリ土
類金属水酸化物或いはアルカリ金属アルコレート、好ま
しくはリチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム又
はバリウム水酸化物或いはナトリウム又はカリウムメチ
レート又はメチレートは好ましくは使用される。
対応するニトリル又はフルコキシカルボニル化合物を加
水分解する。加水分解は塩基好ましくはアルカリ金属又
はアルカリ土類金属水酸化物又はアルコレートの存在下
に行なわれる。塩基例えばアルカリ金属又はアルカリ土
類金属水酸化物或いはアルカリ金属アルコレート、好ま
しくはリチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム又
はバリウム水酸化物或いはナトリウム又はカリウムメチ
レート又はメチレートは好ましくは使用される。
一般にはニトリル又はフルコキシ力ルボニル化合物のモ
ル当９１〜１００モル、好ましくは２〜５０モルの塩基
が用いられる。
ル当９１〜１００モル、好ましくは２〜５０モルの塩基
が用いられる。
本発明の方法に対するインドリルアルキルアミンで言及
しうるちのは以下の通りである：２−（５−メチル−Ｉ
Ｈ−インドルー３−イル）エチルアミン、２−（２−メ
チル−ＩＨ−インドルー３−イル）エチルアミン、２−
（５−メトキシ−ＩＨ−イントルー３〜イル）エチルア
ミン、２−（５−ベンジロキシ−ＩＨ−インドルー３−
イル）エチルアミン、トリプタミン、２−（２−インプ
ロピル−ＩＨ−インドルー３−イル）エチルアミン及び
２−（２−ｔｅｒｔ−ブチル−ＩＨ−インドルー３−イ
ル）エチルアミン。
しうるちのは以下の通りである：２−（５−メチル−Ｉ
Ｈ−インドルー３−イル）エチルアミン、２−（２−メ
チル−ＩＨ−インドルー３−イル）エチルアミン、２−
（５−メトキシ−ＩＨ−イントルー３〜イル）エチルア
ミン、２−（５−ベンジロキシ−ＩＨ−インドルー３−
イル）エチルアミン、トリプタミン、２−（２−インプ
ロピル−ＩＨ−インドルー３−イル）エチルアミン及び
２−（２−ｔｅｒｔ−ブチル−ＩＨ−インドルー３−イ
ル）エチルアミン。
本発明の方法に対するスルホン酸ハライドで言及し得る
例は次の通りである：４−トルエンスルホニ１ｋｇロラ
イド、４−クロルフェニルスルホニルクロライｌ’、２
，５−ジクロルフェニルスルホニルクロライド、３−ト
ルフルオルメチルフェニルスルホニルクロライ）’、２
．４−ジクロルフェニルスルホニルクロライド、４−メ
トキシフェニルスルホニルクロライド、１−す７チルス
ルホニルクロライド、２，４，６−）リメチルフェニル
スルホニルクロライド、キノリル−８−スルホニルクロ
ライド、チェニル−２−スルホニルクロライド、２．６
−ジクロルフェニルスルホニルクロライド及び２゜３．
４−トリクロルフェニルスルホニルクロライド。
例は次の通りである：４−トルエンスルホニ１ｋｇロラ
イド、４−クロルフェニルスルホニルクロライｌ’、２
，５−ジクロルフェニルスルホニルクロライド、３−ト
ルフルオルメチルフェニルスルホニルクロライ）’、２
．４−ジクロルフェニルスルホニルクロライド、４−メ
トキシフェニルスルホニルクロライド、１−す７チルス
ルホニルクロライド、２，４，６−）リメチルフェニル
スルホニルクロライド、キノリル−８−スルホニルクロ
ライド、チェニル−２−スルホニルクロライド、２．６
−ジクロルフェニルスルホニルクロライド及び２゜３．
４−トリクロルフェニルスルホニルクロライド。
本発明の方法に対するオレフィン性化合物で言及しうる
例は次の通りである：７クリロニトリル、アクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル及びメタクリロニＦリル。
例は次の通りである：７クリロニトリル、アクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル及びメタクリロニＦリル。
本発明の方法は例えば次のように行なうことができる：
インドリルフルキルアミンを溶解し、スルホン酸ハライ
ドを滴々に添加する。この反応で生成する中間体生成物
は単離してもよい。
インドリルフルキルアミンを溶解し、スルホン酸ハライ
ドを滴々に添加する。この反応で生成する中間体生成物
は単離してもよい。
この中間体生成物のオレフィン性化合物との反応は室温
で攪拌しながら行なわれる。処理は常法で行なわれる。
で攪拌しながら行なわれる。処理は常法で行なわれる。
本発明の方法によれば、高純度のＮ−インドリルエチル
−スルホン酸アミドが高収率で得られる。
−スルホン酸アミドが高収率で得られる。
新規なＮ−インドリルエチル−スルホン酸アミＹ及びそ
の塩は薬剤の活性化合物として使用することができる。
の塩は薬剤の活性化合物として使用することができる。
活性化合物は血小板の凝固を禁止する及びトロンボキサ
ン拮抗作用を有する。それらは好ましくは血栓症、血小
板代謝症及び虚血症の処置に対して、抗喘息剤として及
び抗アレルギー剤として使用できる。新規な活性化合物
は不活性な無毒性の製薬学的に適当な賦形剤又は溶媒を
用いる公知の方法により、通常の処方物例えば錠剤、カ
プセル、糖衣錠、丸薬、顆粒剤、エーロゾル、シロップ
、乳剤、ｌＩ＆濁剤及びｓｉａ剤に変えることができる
。治療学的に活性な化合物はそれぞれの場合的０．５〜
９０重量％、好ましくは１０〜７０重量％の濃度で、即
ち記述する投薬量範囲を達成するのに十分な量で全混合
物中に存在すべきである。
ン拮抗作用を有する。それらは好ましくは血栓症、血小
板代謝症及び虚血症の処置に対して、抗喘息剤として及
び抗アレルギー剤として使用できる。新規な活性化合物
は不活性な無毒性の製薬学的に適当な賦形剤又は溶媒を
用いる公知の方法により、通常の処方物例えば錠剤、カ
プセル、糖衣錠、丸薬、顆粒剤、エーロゾル、シロップ
、乳剤、ｌＩ＆濁剤及びｓｉａ剤に変えることができる
。治療学的に活性な化合物はそれぞれの場合的０．５〜
９０重量％、好ましくは１０〜７０重量％の濃度で、即
ち記述する投薬量範囲を達成するのに十分な量で全混合
物中に存在すべきである。
処方物は適当ならば乳化剤及び／又は分散剤を用いるこ
とにより活性化合物を溶媒及び／又は賦形剤で増量して
製造される。水を希釈剤として用いる場合には、適当な
らば有機溶媒を補助溶媒として使用することができる。
とにより活性化合物を溶媒及び／又は賦形剤で増量して
製造される。水を希釈剤として用いる場合には、適当な
らば有機溶媒を補助溶媒として使用することができる。
言及しうる補助物質の例は次の通りである：水、無毒性
の有機溶媒例えばパラフィン（例えば石油留分）、植物
油（例えば南京豆／ゴマ油）、アルコール（例えばエチ
ルアルコール及びグリセロール）及びグリコール（例え
ばプロピレングリコール及びポリエチレングリコール）
、固体賦形剤例えば天然岩石粉末（例えばカオリン、ア
ルミナ、滑石及びチａ−り）、合成岩石粉末（例えば高
分散珪酸及び珪酸塩）及び砂糖（例えばスクロース、ラ
クトース及びグルコース）、乳化剤（例えばポリオキシ
エチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチャン脂肪族ア
ルコールエーテル、アルキルスルホネート及びアリール
スルホネート）、分散剤（例えばリグニン、サル７アイ
） 廃Ｌ メチルセルロース、澱粉及びポリビニルピロ
リドン）及び潤滑剤（例えばステアリン酸マグネシウム
、滑石、ステアリン酸及１ラウリル硫酸ナトリウム）。
の有機溶媒例えばパラフィン（例えば石油留分）、植物
油（例えば南京豆／ゴマ油）、アルコール（例えばエチ
ルアルコール及びグリセロール）及びグリコール（例え
ばプロピレングリコール及びポリエチレングリコール）
、固体賦形剤例えば天然岩石粉末（例えばカオリン、ア
ルミナ、滑石及びチａ−り）、合成岩石粉末（例えば高
分散珪酸及び珪酸塩）及び砂糖（例えばスクロース、ラ
クトース及びグルコース）、乳化剤（例えばポリオキシ
エチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチャン脂肪族ア
ルコールエーテル、アルキルスルホネート及びアリール
スルホネート）、分散剤（例えばリグニン、サル７アイ
） 廃Ｌ メチルセルロース、澱粉及びポリビニルピロ
リドン）及び潤滑剤（例えばステアリン酸マグネシウム
、滑石、ステアリン酸及１ラウリル硫酸ナトリウム）。
投薬は常法で、好ましくは経口的に又は非経口的に、特
に舌下的に又は静脈内に行なうことができる。経口的使
用の場合、錠剤は勿論言及される賦形剤のほかに、添加
剤例えばクエン酸ナトリウム、炭酸カルシウム及び燐酸
二カルシウムを種々の助剤例えば澱粉、好ましくはジャ
がイモ澱粉、ゼラチンなどと一緒に含有する。更に錠剤
の生成のために、潤滑剤例えばステアリン酸マグネシウ
ム、ラウリル硫酸ナトリウム及びタルクも共用しうる。
に舌下的に又は静脈内に行なうことができる。経口的使
用の場合、錠剤は勿論言及される賦形剤のほかに、添加
剤例えばクエン酸ナトリウム、炭酸カルシウム及び燐酸
二カルシウムを種々の助剤例えば澱粉、好ましくはジャ
がイモ澱粉、ゼラチンなどと一緒に含有する。更に錠剤
の生成のために、潤滑剤例えばステアリン酸マグネシウ
ム、ラウリル硫酸ナトリウム及びタルクも共用しうる。
経口投与の意図される水性患濁液及び／又はエリキサ−
剤の場合、種々の風味改良剤又は着色剤を上述の補助物
質のほかに活性化合物に添加しうる。
剤の場合、種々の風味改良剤又は着色剤を上述の補助物
質のほかに活性化合物に添加しうる。
非経口使用の場合、活性化合物の溶液剤は適当な液体賦
形剤を用いて使用することができる。
形剤を用いて使用することができる。
一般に静脈内投与の場合、有効な結果を達成するために
は体重１に、当り約０．００１〜１ ｋｇ、好ましくは
約０．０１〜０ 、５ ｍｇの量を投与することが有利
であるとわかった。経口投与の場合には、投与量は一般
に約０．０１〜２０−ｇ／体重ｋｇ、好ましくは０．１
〜１０輸ｇ／ｋｇである。
は体重１に、当り約０．００１〜１ ｋｇ、好ましくは
約０．０１〜０ 、５ ｍｇの量を投与することが有利
であるとわかった。経口投与の場合には、投与量は一般
に約０．０１〜２０−ｇ／体重ｋｇ、好ましくは０．１
〜１０輸ｇ／ｋｇである。
それにも拘らず、上述の量から逸脱すること、特に体重
又は投与法の種類、個々の薬剤に対する反応、薬剤の処
方物の種類、及び投与を行なう時間と間隔の関数として
そうすることが時に必要である。斯くしていくつかの場
合には上述の最小量以下で処置することが十分であり、
−力値の場合には上述の上限を越えなければならない。
又は投与法の種類、個々の薬剤に対する反応、薬剤の処
方物の種類、及び投与を行なう時間と間隔の関数として
そうすることが時に必要である。斯くしていくつかの場
合には上述の最小量以下で処置することが十分であり、
−力値の場合には上述の上限を越えなければならない。
比較的多量を投与する場合には、これを−日にわたりい
くつかの個々の当薬量に分割することが得策である。
くつかの個々の当薬量に分割することが得策である。
本発明によるＮ−インドリルエチル−スルホン酸アミド
は人間の医薬及び獣医薬の両方において使用することが
できる。
は人間の医薬及び獣医薬の両方において使用することが
できる。
聚−ｊＬＪＬ
Ｎ−［２−［１−（２−カルボキシエチル）−１Ｈ−イ
ンドルー３−イル］】エチル−（４−メチルフェニル）
スルホンアミド ０ＯＨ ａ）Ｎ−［２−（ＩＨ−インドルー３−イル）１エチル
−（４−メチルフェニル）スルホンアミド トリプトアミン１７．５ｇ（１１０ミリモル）及び酢酸
ナトリウム１８．Ｏｇ（２２０ミリモル）をエタノール
２５０論ｌに溶解した０次いでエタノール１００ｍｊに
Ｗｊ％Ｉ、たｐ−トルエンスルホニルクロライド２０．
９７ｇ（１１０ミリモル）を０℃で滴々に添加した。こ
の混合物を最初に室温で１時間攪拌し、次いで還流下に
１時間攪拌した。茨いで水を透明な溶液が生成するよう
な量で添加した。そしてエタノールのいくらかを留去し
た。生成物が晶出し、これを吸引炉別し、インプロパツ
ールが再結晶させた。
ンドルー３−イル］】エチル−（４−メチルフェニル）
スルホンアミド ０ＯＨ ａ）Ｎ−［２−（ＩＨ−インドルー３−イル）１エチル
−（４−メチルフェニル）スルホンアミド トリプトアミン１７．５ｇ（１１０ミリモル）及び酢酸
ナトリウム１８．Ｏｇ（２２０ミリモル）をエタノール
２５０論ｌに溶解した０次いでエタノール１００ｍｊに
Ｗｊ％Ｉ、たｐ−トルエンスルホニルクロライド２０．
９７ｇ（１１０ミリモル）を０℃で滴々に添加した。こ
の混合物を最初に室温で１時間攪拌し、次いで還流下に
１時間攪拌した。茨いで水を透明な溶液が生成するよう
な量で添加した。そしてエタノールのいくらかを留去し
た。生成物が晶出し、これを吸引炉別し、インプロパツ
ールが再結晶させた。
収量：２０．７ｇ（！Ｉ！論量の６０％）融点＝１１８
℃ Ｒｆ値（トルエン：エタノール＝３：１）：０．６ｂ）
Ｎ−［２−シアノエチル］−Ｎ−（２−［１−（２
−シアノエチル）−１Ｈ−インドルー３−イル］−エチ
ル−（４−メチルフェニル）スルホンアミド（ＣＨ２）
２ Ｎ １ａ）の１０ｇをノオキサン１５０＋ｅｆに溶解した。
℃ Ｒｆ値（トルエン：エタノール＝３：１）：０．６ｂ）
Ｎ−［２−シアノエチル］−Ｎ−（２−［１−（２
−シアノエチル）−１Ｈ−インドルー３−イル］−エチ
ル−（４−メチルフェニル）スルホンアミド（ＣＨ２）
２ Ｎ １ａ）の１０ｇをノオキサン１５０＋ｅｆに溶解した。
次いで７クリロニトリル１０ｖａｌを添加した。この溶
液にメタノール４ｔａｌに溶解したベンジルトリメチル
アンモニウムヒドロキシド溶！（４０％）１１１１を添
加した。この混合物を室温で５時間攪袢し、次いで水中
に注いだ、これを酢酸エチルで３回抽出した。有機相を
水洗し、Ｍ、Ｓ Ｏ、で乾燥し、吸引濾過し、炉液を回
転蒸発機で濃縮した。
液にメタノール４ｔａｌに溶解したベンジルトリメチル
アンモニウムヒドロキシド溶！（４０％）１１１１を添
加した。この混合物を室温で５時間攪袢し、次いで水中
に注いだ、これを酢酸エチルで３回抽出した。有機相を
水洗し、Ｍ、Ｓ Ｏ、で乾燥し、吸引濾過し、炉液を回
転蒸発機で濃縮した。
生成書を少量のエーテルで晶出させた。これをエタノー
ル／アセトニトリル（１：１ ）から再結晶させた。
ル／アセトニトリル（１：１ ）から再結晶させた。
収量：ｉｏ、１ｇ（理ｌ！ｒ量の７５．５％）融点二８
８％ Ｒｆ値（トルエン：エタノール＝３：１）：０，５ｃ）
Ｎ−［２−［１−＜２−カルボキシエチル）−１８
−インドル−３−イル］エチル−（４−メチルフェニル
）スルホンアミド ｌｂ）の１０ｇを１０％水酸化ナトリウム溶液３００ｍ
ｊ！中において還流下に３時間攪拌した０次いで混合物
を６モル濃度ＨＣ１で酸性し、クロロホルムで３回抽出
した。有機相を２回水洗し、Ｍｇ５Ｏ４で乾燥し、回転
蒸発機で濃縮した。生成物を少量の酢酸エチルで晶出さ
せ、吸引炉別した。
８％ Ｒｆ値（トルエン：エタノール＝３：１）：０，５ｃ）
Ｎ−［２−［１−＜２−カルボキシエチル）−１８
−インドル−３−イル］エチル−（４−メチルフェニル
）スルホンアミド ｌｂ）の１０ｇを１０％水酸化ナトリウム溶液３００ｍ
ｊ！中において還流下に３時間攪拌した０次いで混合物
を６モル濃度ＨＣ１で酸性し、クロロホルムで３回抽出
した。有機相を２回水洗し、Ｍｇ５Ｏ４で乾燥し、回転
蒸発機で濃縮した。生成物を少量の酢酸エチルで晶出さ
せ、吸引炉別した。
収量：４．７ｇ（理論量の５１．１％）融点：１２６℃
犬Ｕ−ζ
Ｎ−［２−（１−（２−カルボキシエチル）−５−メト
キシ−ＩＨ−インドルー３−イル］１エチルフェニルス
ルホンアミドのナトリウム塩 （ＣＨ２）２ Ｃｏｏ−Ｎａ” Ｎ・［２−［１−（２−カルボキシエチル）−５−メト
キシ−ＩＨ−インドルー３−イル１］エチル−フェニル
スルホンアミド（実施例１と同様）９．４ｇをメタノー
ル２００■ｌに溶解し、ナトリウムメチレート１゜２６
ｇを添加した０次いでメタノールを回転蒸発機で留去し
、固体残渣をエーテルと共に攪拌した。
キシ−ＩＨ−インドルー３−イル］１エチルフェニルス
ルホンアミドのナトリウム塩 （ＣＨ２）２ Ｃｏｏ−Ｎａ” Ｎ・［２−［１−（２−カルボキシエチル）−５−メト
キシ−ＩＨ−インドルー３−イル１］エチル−フェニル
スルホンアミド（実施例１と同様）９．４ｇをメタノー
ル２００■ｌに溶解し、ナトリウムメチレート１゜２６
ｇを添加した０次いでメタノールを回転蒸発機で留去し
、固体残渣をエーテルと共に攪拌した。
収量ニア、８５ｇ（理論量の７７％）
融点：２２５℃
Ｒｆ値（ＣＩ−（ｚｃｌｚ：メタノール＝９：１）：０
．５１夾１１１−」ユ Ｎ−［２−［１−（２−カルボキシエチル）−５−ヒド
ロキシ−ＩＨ−インドルー３−イル］］エチル−７二二
ルスルホンアミドのナトリウム塩 （ＣＨ２ｈ Ｃｏｏ−Ｎａ十 Ｎ−［２−［５−ベンジロキシ−１−（２−カルボキシ
エチル）−１８−インドル−３−イル】】エチル−７二
二ルスルホンアミド（実施例１と同様に製造）３ｇをエ
タノール５０鴎！及び酢酸エチル１５論ｌの混合物に溶
解し、１０％パラジウム担持活性炭２００−ｇを添加し
た。水素の吸収が終るまで常圧下に水素化を行なった０
次いで触媒を炉別し、炉液を蒸発させ、残渣を塩化メチ
レンに溶解した。この塩素メチレン溶液を飽和炭酸水素
塩溶液で２回洗浄し、−緒にした炭素水素塩相を１モル
濃度硫酸で酸性にし、そして酢酸エチルで抽出した。こ
の酢酸エチル相をＭｇＳＯ４で乾燥し、蒸発させた。こ
のようにして実施例２と同様に遊離酸のナトリウム塩に
転化される油１．５８を得た。
．５１夾１１１−」ユ Ｎ−［２−［１−（２−カルボキシエチル）−５−ヒド
ロキシ−ＩＨ−インドルー３−イル］］エチル−７二二
ルスルホンアミドのナトリウム塩 （ＣＨ２ｈ Ｃｏｏ−Ｎａ十 Ｎ−［２−［５−ベンジロキシ−１−（２−カルボキシ
エチル）−１８−インドル−３−イル】】エチル−７二
二ルスルホンアミド（実施例１と同様に製造）３ｇをエ
タノール５０鴎！及び酢酸エチル１５論ｌの混合物に溶
解し、１０％パラジウム担持活性炭２００−ｇを添加し
た。水素の吸収が終るまで常圧下に水素化を行なった０
次いで触媒を炉別し、炉液を蒸発させ、残渣を塩化メチ
レンに溶解した。この塩素メチレン溶液を飽和炭酸水素
塩溶液で２回洗浄し、−緒にした炭素水素塩相を１モル
濃度硫酸で酸性にし、そして酢酸エチルで抽出した。こ
の酢酸エチル相をＭｇＳＯ４で乾燥し、蒸発させた。こ
のようにして実施例２と同様に遊離酸のナトリウム塩に
転化される油１．５８を得た。
収量：１，７６ｇ（理論量の６２．４％）融点１００℃
（分解） −２４〜１９ 下表に示す化合物を実施例の手順に従って製造した： 使−ｔＪ号 血小板の凝固を禁止する作用を決定するために、両方の
性の健康な献血者の血を使用した。血液９部を、抗凝固
剤としての３．８％水性クエン酸ナトリウム溶液１部に
添加した。この血液から遠心分離によって血小板に富む
クエン酸処理した血漿（ＰＲＰ）を、得た［ニルデンス
（Ｊ ｕｒｇｅｎｓ）／ベラー（Ｂｅｌｌｅｒ）、クリ
ニツシェ・メソーゲン・デア・ブルートゲリンヌングス
アナリーゼ（Ｋ ｌ１ｎｉｓｃｈｅ Ｍｅｔｈｏｄｅｎ
ｄｅｒ Ｂ Ｉｕｔｇｅｒｉｎｎｕｎｇｓａｎａｌｙ
ｓｅ）、シーメ出版社（Ｔ ｈｉｅｍｅ Ｖ ｅｒｌａ
ｇ、 Ｓ ｔｕｔｔ［ｒａｒｔ）、１９５９］。
（分解） −２４〜１９ 下表に示す化合物を実施例の手順に従って製造した： 使−ｔＪ号 血小板の凝固を禁止する作用を決定するために、両方の
性の健康な献血者の血を使用した。血液９部を、抗凝固
剤としての３．８％水性クエン酸ナトリウム溶液１部に
添加した。この血液から遠心分離によって血小板に富む
クエン酸処理した血漿（ＰＲＰ）を、得た［ニルデンス
（Ｊ ｕｒｇｅｎｓ）／ベラー（Ｂｅｌｌｅｒ）、クリ
ニツシェ・メソーゲン・デア・ブルートゲリンヌングス
アナリーゼ（Ｋ ｌ１ｎｉｓｃｈｅ Ｍｅｔｈｏｄｅｎ
ｄｅｒ Ｂ Ｉｕｔｇｅｒｉｎｎｕｎｇｓａｎａｌｙ
ｓｅ）、シーメ出版社（Ｔ ｈｉｅｍｅ Ｖ ｅｒｌａ
ｇ、 Ｓ ｔｕｔｔ［ｒａｒｔ）、１９５９］。
これらの研究に対して、ＰＲＰｏ、８ｍｊ！及び活性化
合物溶液０，１ｍｊ！を水浴中３７℃で予備培養した１
次いで凝固針［セラビューティッシェ・ベリヒテ（Ｔｈ
ｅｒａｐｅｕｔｉｓｃｈｅ Ｂｅｒｉｃｂｔｅ）土Ｌ１
８０〜８６（１９７５）］中において３７℃下に、血小
板の凝固を濁度法［ボーン（Ｂｏｒｎ）、Ｂ、Ｖ、Ｒ，
、Ｊ、フィシオル（Ｐ ｈｙｓｉｏｌ、 ）（Ｌ ｏｎ
ｄｏｎ）、１６２．６７（１９６２）］によって決定し
た。これに対し凝固を誘導する薬剤のコラーゲン０ 、
１ ｍｌを予備培養した試料に添加した。ＰＲＰの試料
における吸光度の変化を６分間にわたって記録し、６分
後に屈折率を決定した。これに対し、対照と比較して禁
止のパーセントを計算した。
合物溶液０，１ｍｊ！を水浴中３７℃で予備培養した１
次いで凝固針［セラビューティッシェ・ベリヒテ（Ｔｈ
ｅｒａｐｅｕｔｉｓｃｈｅ Ｂｅｒｉｃｂｔｅ）土Ｌ１
８０〜８６（１９７５）］中において３７℃下に、血小
板の凝固を濁度法［ボーン（Ｂｏｒｎ）、Ｂ、Ｖ、Ｒ，
、Ｊ、フィシオル（Ｐ ｈｙｓｉｏｌ、 ）（Ｌ ｏｎ
ｄｏｎ）、１６２．６７（１９６２）］によって決定し
た。これに対し凝固を誘導する薬剤のコラーゲン０ 、
１ ｍｌを予備培養した試料に添加した。ＰＲＰの試料
における吸光度の変化を６分間にわたって記録し、６分
後に屈折率を決定した。これに対し、対照と比較して禁
止のパーセントを計算した。
１ ｃ Ｏ，３−０，０３４
ｂ Ｏ，３−０，０３ｓ ｂ
ｏ、ａ−ｔ、。
ｂ Ｏ，３−０，０３ｓ ｂ
ｏ、ａ−ｔ、。
７ ｃ Ｏ，３−０，０３９
６１Ｏ−３ １４ｃ １Ｏ−３１９ｃ
１０−３特許出願人 バイエル・ア
クチェンゲゼルシャ７ト
６１Ｏ−３ １４ｃ １Ｏ−３１９ｃ
１０−３特許出願人 バイエル・ア
クチェンゲゼルシャ７ト
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｒ＾１は水素、ハロゲン、トリフルオルメチル
、カルボキシル、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシカルボニル
、基 −Ｓ（Ｏ）＿６−Ｒ＾６ 但しＲ＾６はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキル又はＣ＿６〜Ｃ＿
１＿２アリールを示し、そして ｎは数０、１又は２の１つを示す、 を示し、或いは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、Ｒ＾７及びＲ＾８は同一でも異なってもよく且つ
水素、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル、Ｃ＿６〜Ｃ＿１＿２ア
リール、Ｃ＿７−Ｃ＿１＿４アラルキル又はアセチルを
示す、 を示すか、或いは基 −Ｏ−Ｒ＾９ 但し、Ｒ＾９は水素、Ｃ＿１〜Ｃ＿３アルキル、Ｃ＿６
〜Ｃ＿１＿２アリール、Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿４アラルキル
、Ｃ＿１〜Ｃ＿３−ＳＯ＿２−アルキル、Ｃ＿６〜Ｃ＿
１＿２−ＳＯ＿２−アリール、Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿４−Ｓ
Ｏ＿２−アラルキル又はトリフルオルメチルを示す、 を示すか、或いは随時カルボキシル、低級アルコキシカ
ルボニル、ハロゲン、ヒドロシキル、低級アルコキシ及
び／又はシアノで置換されていてもよいＣ＿１〜Ｃ＿６
アルキル、Ｃ＿２〜Ｃ＿８アルケニル又はＣ＿５〜Ｃ＿
８シクロアルキルを示し、 Ｒ＾２は水素を示すか或いは随時ハロゲン、カルボキシ
ル、低級アルコキシカルボニル、カルボキサミド及び／
又はシアノで置換されていてもよいＣ＿１〜Ｃ＿■アル
キル、Ｃ＿２〜Ｃ＿■アルケニル又はＣ＿５〜Ｃ＿８シ
クロアルキルを示し、Ｒ＾３はＣ＿１〜Ｃ＿■アルキル
、Ｃ＿２〜Ｃ＿■アルケニル、Ｃ＿５〜Ｃ＿■シクロア
ルキルを示すか、随時ハロゲン、シアノ、トリフルオル
メチル、トリフルオルメトキシ、トリフルオルメチルチ
オ、低級アルキル又は低級アルケニル（これらはカルボ
キシル又は低級アルコキシカルボニルで置換されていて
もよい）低級アルコキシ、カルボキシル、ヒドロキシル
、低級アルコキシカルボニル、フェニル、フェノキシ、
ベンジロキシ、ベンジルチオ又は基 但しＲ＾７及びＲ＾８は上述の意味を有する、で置換さ
れていてもよいＣ＿６〜Ｃ＿１＿２アリールを示すか、
或いは１、２又は３つの酸素、硫黄及び／又は窒素を環
員に含有することができ且つ随時低級アルキル、低級ア
ルコキシ、ハロゲン、トリフルオルメチル、トリフルオ
ルメトキシ、アミノ、ジメチルアミノ及び／又はアセチ
ルアミノで置換されていてもよい環員数５又は６の飽和
もしくは不飽和の又は芳香族の、随時ベンゾ融合してい
てもよい複素環を示し、 Ｒ＾４は水素、Ｃ＿１〜Ｃ＿■アルキル、Ｃ＿１〜Ｃ＿
■ヒドロキシアルキル、Ｃ＿２〜Ｃ＿■アルケニル、Ｃ
＿５〜Ｃ＿■シクロアルキル、シアノを示すか、随時ハ
ロゲン、メチル、メトキシ又はトリフルオルメチルで置
換されていてもよいＣ＿６〜Ｃ＿１＿２アリールを示す
か、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキルカルボニルを示すか或いは
１、２又は３つの酸素、硫黄及び／又は窒素を環員に含
有することができ且つ随時低級アルキル、低級アルコキ
シ、低級アルコキシカルボニル、カルボキシル、ハロゲ
ン、トリフルオルメチル、トリフルオルメトキシ、アミ
ノ、ジメチルアミノ又はアセチルアミノで置換されてい
でもよい環員数５又は６の飽和もしくは不飽和の又は芳
香族の複素環を示し、 Ｒ＾５は水素又はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキルを示し、Ｘは
カルボキシル、Ｃ＿１〜Ｃ＿■アルコキシカルボニル、
シアノ又はカルボキサミドを示し、そしてｍは数２、３
又は４の１つを示す］ のＮ−インドリルエチル−スルホン酸アミド及びその塩
。 ２、Ｒ＾１が水素、弗素、塩素、臭素、トリフルオルメ
チル、カルボキシル、低級アルコキシカルボニル、基 −Ｓ（Ｏ）＿６−Ｒ＾６ 但しＲ＾５はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキル又はフェニルを示
し、そして ｎは数０、１又は２の１つを示す、 基 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、Ｒ＾７及びＲ＾８は同一でも異なってもよく且つ
水素、低級アルキル、フェニル、ベ ンジル又はアセチルを示す、 又は基 −Ｏ−Ｒ＾９ 但し、Ｒ＾９は水素、低級アルキル、フェニル、Ｃ＿７
〜Ｃ＿１＿０アラルキル、−ＳＯ＿２低級アルキル、−
ＳＯ＿２−フェニル、−ＳＯ＿２−ベンジル又はトリフ
ルオルメチルを示すか、或いは随時カルボキシル、低級
アルコキシ カルボニル、弗素、塩素、臭素及び／又は シアノより成る群からの同一もしくは異な る置換基によつて置換されていてもよい低 級アルキル、低級アルケニル、シクロペン チル又はシクロヘキシルを示し、 Ｒ＾２が水素を示すか或いは随時弗素、塩素、臭素、カ
ルボキシル、低級アルコキシカルボニル及び／又はシア
ノで置換されていでもよい低級アルキル、低級アルケニ
ル、シクロペンチル又はシクロヘキシルを示し、 Ｒ＾３が低級アルキル、低級アルケニル、シクロペンチ
ル又はシクロヘキシルを示すか、随時弗素、塩素、臭素
、シアノ、ヒドロキシルトリフルオルメチル、トリフル
オルメトキシ低級アルキル又は低級アルケニル（これら
はカルボキシル又はＣ＿１〜Ｃ＿４アルコキシカルボニ
ルで置換されていてもよい）低級アルコキシ、カルボキ
シル、Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルコキシカルボニル、ベンジロ
キシ、ベンジルチオフェニル、フェノキシ及び／又は基 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、Ｒ＾７及びＲ＾８は上述の意味を有する、より成
る群からの４つまでの置換基によつて置換されていても
よいフェニル又はナフチルを示すか、或いは随時弗素、
塩素、臭素、アミノ、ジメチルアミノ、アセチルアミノ
、トリフルオルメチル、トリフルオルメトキシ、Ｃ＿１
〜Ｃ＿４アルキル及び／又はＣ＿１〜Ｃ＿４アルコキシ
より成る群からの４つまでの置換基によつて置換されて
いてもよいピリジル、チェニル、フリル、ピリミジル、
ピペラジニル、ピペリジニル、モルフォリニル、チオモ
ルフォリニル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル
、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピロ
リル、ベンズイミダゾリル、ベンゾチアジゾリル、イン
ドリル、インドロニル、チアゾリル、イソチアゾリル、
ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル又はベンゾイ
ソチアゾロニルを示し、 Ｒ＾４が水素、低級アルキル、低級ヒドロキシアルキル
、低級アルケニル、低級アルキルカルボニル、シアノを
示すか、或いは随時弗素、塩素、メチル、メトキシ及び
／又はトリフルオルメチルより成る群からの３つまでの
置換基によつて置換されていてもよいフェニル、ピリジ
ル、チェニル、フリル、ピリミジル、イミダゾリル又は
ピロリルを示し、 Ｒ＾５が水素又は低級アルキルを示し、 Ｘがカルボキシル、低級アルコキシカルボニル又はシア
ノを示し、そして ｍが数２又は３の１つを示す、 特許請求の範囲第１項記載のＮ−インドリルエチル−ス
ルホン酸アミド及びその塩。 ３、Ｒ＾１が水素、弗素、塩素、臭素、トリフルオルメ
チル、基 −Ｓ（Ｏ）＿ｎ−Ｒ＾６ 但しＲ＾６はメチル、エチル又はフェニルを示し、そし
て ｎは数０又は２の１つを示す、 アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アセチルアミ
ノ、基 −Ｏ−Ｒ＾９ 但し、Ｒ＾９は水素、Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルキル、フェニ
ル、又はベンジルを示すか、或いは随 時弗素、塩素、及び／又はシアノで置換さ れていてもよいＣ＿１〜Ｃ＿４アルキルを示す、を示し
、 Ｒ＾２が水素を示すか或いは随時カルボキシル、Ｃ＿１
〜Ｃ＿４アルコキシカルボニル及び／又はシアノで置換
されていてもよいＣ＿１〜Ｃ＿４アルキル又はＣ＿２〜
Ｃ＿４アルケニルを示し、 Ｒ＾３が随時弗素、塩素、臭素、シアノ、ヒドロキシル
、トリフルオルメチル、カルボキシビニル、Ｃ＿１〜Ｃ
＿４アルキル、Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルコキシ、Ｃ＿１〜Ｃ
＿４メチル−又はエトキシカルボニルアルキル、フェニ
ル、フェノキシ、アミノ、ジメチルアミノ及び／又はア
セチルアミノより成る群からの３つまでの置換基によつ
て置換されていてもよいＣ＿１〜Ｃ＿４アルキル、フェ
ニル又はナフチルを示すか、或いは随時Ｃ＿１〜Ｃ＿４
アルキル、弗素、塩素、臭素、アミノ又はジメチルアミ
ノで置換されていてもよいピリジル、チェニル、フリル
、ピリミジル、ピラジニル、ピペリジニル、モルフォリ
ニル又はキノリル、ベンズイソチアゾロニル、ベンゾチ
アゾリル又はインドロニルを示し、 Ｒ＾４が水素、メチル、エチル、ヒドロキシメチル、ヒ
ドロキシエチル、メチルカルボニル、シアノ又はフェニ
ルを示し、 Ｒ＾５が水素又はＣ＿〜Ｃ＿４アルキルを示し、Ｘがカ
ルボキシル、Ｃ＿１〜Ｃ＿４アルコキシカルボニル又は
シアノを示し、そして ｍが２を表わす、 特許請求の範囲第１又は２項記載のＮ−インドリルエチ
ル−スルホン酸アミド及びその塩。 ４、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ［式中、Ｒ＾１は水素、ハロゲン、トリフルオルメチル
、カルボキシル、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシエルボニル
、基 −Ｓ（Ｏ）＿ｎ−Ｒ＾６ 但しＲ＾６はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキル又はＣ＿６〜Ｃ＿
１＿２アリールを示し、そして ｎは数０、１又は２の１つを示す、 を示すか、或いは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、Ｒ＾７及びＲ＾８は同一でも異なってもよく且つ
水素、Ｃ＿１〜Ｃ＿８アルキル、Ｃ＿６〜Ｃ＿１＿２ア
リール、Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿４アラルキル又はアセチルを
示す、 を示すか、或いは基 −Ｏ−Ｒ＾９ 但し、Ｒ＾９は、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル、Ｃ＿６〜Ｃ
＿１＿２アリール、Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿４アラルキル、Ｃ
＿１〜Ｃ＿６−ＳＯ＿２−アルキル、Ｃ＿６−Ｃ＿１＿
２−ＳＯ＿２−アリール、Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿４−ＳＯ＿
２−アラルキル又はトリフルオルメチルを示す、 を示すか、或いは随時カルボキシル、低級アルコキシカ
ルボニル、ハロゲン、ヒドロシキル、低級アルコキシ及
び／又はシアノで置換されていてもよいＣ＿１〜Ｃ＿６
アルキル、Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルケニル又はＣ＿５〜Ｃ＿
８シクロアルキルを示し、Ｒ＾２は水素を示すか或いは
随時ハロゲン、カルボキシル、低級アルコキシカルボニ
ル、カルボキサミド及び／又はシアノで置換されていて
もよいＣ＿１〜Ｃ＿６アルキル、Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルケ
ニル又はＣ＿５〜Ｃ＿８シクロアルキルを示し、Ｒ＾４
は水素、Ｃ＿１〜Ｃ＿８アルキル、Ｃ＿１〜Ｃ＿８ヒド
ロキシアルキル、Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルケニル、Ｃ＿５〜
Ｃ＿５シクロアルキル、シアノを示すか、隨時ハロゲン
、メチル、メトキシ又はトリフルオルメチルで置換され
ていてもよいＣ＿６〜Ｃ＿１＿２アリールを示すか、Ｃ
＿１〜Ｃ＿６アルキルカルボニルを示すか、或いは１、
２又は３つの酸素、硫黄及び／又は窒素を環員に含有す
ることができ且つ随時低級アルキル、低級アルコキシ、
低級アルコキシカルボニル、カルボキシル、ハロゲン、
トリフルオルメチル、トリフルオルメトキシ、アミノ、
ジメチルアミノ又はアセチルアミノで置換されていても
よい環員数５又は６の飽和、不飽和の又は芳香族の複素
環を示し、そして ｍは数２、３又は４を示す］ のインドリルアルキルアミンを、不活性な溶媒の存在下
及び適当ならば塩基の存在下に、式 Ｒ＾３−ＳＯ＿２−Ｙ（III） ［式中、 Ｒ＾３はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキル、Ｃ＿２〜Ｃ＿８アル
ケニル、Ｃ＿５〜Ｃ＿６シクロアルキルを示すか、随時
ハロゲン、シアノ、ヒドロキシル、トリフルオルメチル
、トリフルオルメトキシ、トリフルオルメチルチオ、低
級アルキル又は低級アルケニル（これらはカルボキシル
又は低級アルコキシカルボニルで置換されていてもよ い）、低級アルコキシ、カルボキシル、低級アルコキシ
カルボニル、ベンジロキシ、ベンジルチオ、フェニル、
フェノキシ又は基 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しＲ＾７及びＲ＾８は上述の意味を有する、で置換さ
れていてもよいＣ６〜Ｃ＿１＿２アリールを示すか、或
いは１、２又は３つの酸素、硫黄及び／又は窒素を環員
に含有することができ且つ随時低級アルキル、低級アル
コキシ、ハロゲン、トリフルオルメチル、トリフルオル
メトキシ、アミノ、ジメチルアミノ及び／又はアセチル
アミノで置換されていてもよい環員数５又は６の飽和の
、不飽和の又は芳香族の、随時ベンゾ融合していでもよ
い複素環を示し、そして Ｙはハロゲンを表わす］ のスルホン酸ハライドと反応させ、そしてこの生成物を
不活性溶媒の存在下、且つ適当ならば塩基の存在下に、
式 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） ［式中、Ｘ′はＣ＿１〜Ｃ＿６アルコキシカルボニル、
シアノ又はカルボキサミドを示し、そして Ｒ＾５は水素又はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキルを示す］のオ
レフィン性化合物でアルキル化し、そして４−、５−、
６−又は７−位がヒドロキシルで置換された化合物を製
造する場合には対応するベンジロキシ化合物を不活性溶
媒中触媒の存在下に且つ、適当ならば酸の存在下に、水
素化し、またＮ−インドリルエチルカルボキシル化合物
の製造の場合には対応するニトリル類又はアルコキシカ
ルボニル類を加水分解し、また塩を製造する場合には生
成物を対応する塩基と反応させることを特徴とするＮ−
インドリルエチルスルホン酸アミド及びその塩の製造法
。 ５、−２０°〜１００℃の温度範囲で行なう特許請求の
範囲第４項記載の方法。 ６、ヒドロキシ化合物の製造において、水素化を貴金属
触媒の存在下に行なう特許請求の範囲第４又は５項記載
の方法。 ７、カルボキシル化合物の製造において、加水分解をア
ルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物又はアルコ
レートの存在下に行なう特許請求の範囲第４又は５項記
載の方法。 ８、特許請求の範囲第１項記載の４−インドリルエチル
スルホン酸アミド類を１種又はそれ以上含有する薬剤。 ９、特許請求の範囲第１項記載のＮ−インドリルエチル
−スルホン酸アミド類を薬剤の製造に用いること。 １０、血栓症、塞栓性血栓症、虚血症、アレルギー及び
喘息を治癒し且つ処置するための特許請求の範囲第１項
記載のＮ−インドリル−エチル−スルホン酸アミド類の
使用法。
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