JPS61221157A - ジアミノジフエニルエ−テル類の製造方法 - Google Patents

ジアミノジフエニルエ−テル類の製造方法

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JPS61221157A
JPS61221157A JP60059559A JP5955985A JPS61221157A JP S61221157 A JPS61221157 A JP S61221157A JP 60059559 A JP60059559 A JP 60059559A JP 5955985 A JP5955985 A JP 5955985A JP S61221157 A JPS61221157 A JP S61221157A
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Yoshimitsu Tanabe
良満 田辺
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はジアミノジフェニルエーテル類の改良された製
造方法に関するものである。さらに詳しくは、4−クロ
ロニトロベンゼンとニトロフェノール類を脱塩化水素剤
の存在下、ポリエチレングリコールまたはその低級アル
キルエーテル類を触媒に用いて縮合し、得られたジニト
ロジフェニルエーテル類を単離精製することなく還元す
ることを特徴とするジアミノジフェニルエーテル類の製
造方法に関する。
このジアミノジフェニルエーテル類はポリアミド、ポリ
アミドイミド、ポリイミド等の耐熱性樹脂の原料となる
重要な化合物である。
(従来の技術) ジアミノジフェニルエーテル類は、従来、最も安価で典
型的な方法としてハロゲンニトロベンゼンとニトロフェ
ノールカラジニトロジフェニルエーテルを得、これを還
元することにより製造されている。例えば、ジニトロジ
フェニルエーテルを製造する方法は無溶媒で行なう方法
と非プロトン性極性溶媒を用いて行なう方法があり、前
者の例としては、4−フルオロニトロベンゼンと4−二
トロフェノールカリウム塩のUl 1mann反応によ
シ4、イージニトロジフェニルエーテルが収率85チで
製造(M、J、Rarickら、J、Am、Ohem、
Soc、。
5s 1290(1933) )され、4−ブロモニト
ロベンゼンと2−二トロフェノールカリウム塩から収率
10%f2,4’−ジニトロジフェニルエーテルが製造
されている(弁用ら、薬学雑誌、、79273 (19
59))。
後者の例としては、4−クロロニトロベンゼンと3−二
トロフェノールカリウム塩をN、N−ジメチルホルムア
ミド溶媒中で縮合させて3.4−ジニトロジフェニルエ
ーテルを収率73チで製造している( 、T、、r、R
andallら、  J、Org、chem、、 27
4098〜4101 (1962)  )。
一方、ジニトロジフェニルエーテル類を還元してジアミ
ノジフェニルエーテルを製造する例としてi4.4−ジ
ニトロジフェニルエーテル+7)接触!元(富国ら、薬
学雑誌、、廷1079 (1955)、3,4−ジニト
ロジフェニルエーテルの錫と塩酸による還元(R,Q、
Brewsterら、 J、Am、Ohem、Soc、
56117〜120(1934) )等が知られている
(発明が解決しようとする問題点) 一般に、ジアミノジフェニルエーテル類を製造する場合
、中間体のジニトロジフェニルエーテルを単離精製して
これを溶剤中で還元する方法が通例である。これは不純
物を多量に含んだまま還元すると好ましくない副反応が
起りやすいこと、接触還元反応においては貴金属系触媒
の劣化の原因となること、目的物での単離精製が困難と
なること等の理由による。したがって、従来の方法でジ
ニトロジフェニルエーテルを製造した場合、無溶媒の方
法または非プロトン性極性溶媒を用いる方法とも縮合反
応において副生物が多量に生成するので、還元する場合
、この中間体を精製する必要がある。このため、非プロ
トン性極性溶媒を用いて縮合させた方法では、この溶媒
からの分離、精製および縮合溶媒、再結晶溶媒等の回収
に労力ならびに経費が必要となる。
無溶媒の方法では、前記の操作が不要となるが、一般的
に反応の活性が低いので、弗素置換ニトロベンゼン等の
反応活性は高いが高価な原料を使用器2シて行なう必要
があ1井用ら、薬学雑誌、。
7!273(1959) )、また銅系の触媒を用いた
場合には、精製が煩雑となる等の欠点がある。
したがって、これら従来の方法で中間体を製造し、単離
精製して還元を行ない、目的物を製造する方法は収率が
低くなることを含め、種々の経済的な負担を負わなけれ
ばならない。
(問題を解決するための手段) 本発明者らは、これらの欠点のない工業的な製造方法に
ついて鋭意検討した。
(−(7)結L  4−クロロニトロベンゼンとニトロ
フェノール類をポリエチレングリコールまたはその低級
アルキルエーテル類を用いて無溶媒で縮合させると選択
的に高収率でジニトロジフェニルエーテル類が製造でき
、これを単離精製することなく適当な溶剤を加えて還元
せしめれば高収率でジアミノジフェニルエーテル類が製
造できるということを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明の方法は4−クロロニトロベンゼンと
ニトロフェノール類を脱塩化水素剤の存在下、ポリエチ
レングリコールまたはその低級アルキルエーテル類を触
媒に用いて縮合し、得られたジニトロジフェニルエーテ
ル類を単離精製することなく還元することを特徴とする
ジアミノジフェニルエーテル類の製造方法である。
本発明の方法では、例えば、3.4’−ジニトロジフェ
ニルエーテルおよU 4.4’−ジニトロジフェニルエ
ーテルを中間体として、3.4−ジアミノジフェニルエ
ーテル、4.4−ジアミノジフェニルエーテルが製造で
きる。本発明の方法では、原料として4−クロロニトロ
ベンゼンとニトロフェノール類ヲ用い、ニトロフェノー
ル類は3−ニトロフェノールおよび4−ニトロフェノー
ルを用いる。こレラクロロニトロベンゼンとニトロフェ
ノール類の反応は化学量論−量またはいずれかの過剰量
で行なえば良い。
本発明の方法では、ポリエチレングリコールまたはその
低級アルキルエーテルを触媒として用いる。ポリエチレ
ングリコールの場合、平均分子量200以上のものであ
れば使用できるが、工業的には、平均分子量400〜1
000の安価で液状〜低融点のものが好んで用いられる
ポリエチレングリコールの低級アルキルエーテルはエチ
レンオキサイド単位が4〜12のものが一般的であり、
それらはテトラエチレングリコールジメチルエーテル、
テトラエチレングリコールジエチルエーテル、オクタエ
チレングリコールジメチルエーテル等のほか、ポリエチ
レングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコ
ールジエチルエーテル等の混合物も使用される。
これら触媒の使用量は、全原料に対して1wt4以上あ
れば上限は規定されないが、経済性等を考慮すれば5〜
50 wt%の範囲が好ましい。
また、本発明の方法で使用する脱塩化水素剤としては、
アルカリ金属の炭酸塩、炭酸水素塩、水酸化物またはア
ルコキシドなどの塩基であり、具体的には炭酸カリウム
、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カリウム
、水酸化ナトリウム、カリウムインプロポキシド、ナト
リウムメトキシド等が挙げられる。これらの脱塩化水素
剤の使用量はニトロフェノール類に対して当量以上あれ
ば良く、具体的には1〜5当量の範囲で十分である。
本発明の方法における縮合反応は、実質的に無溶媒で行
なうが、系内の水分を除去するために、ml!つてハヘ
ンゼン、トルエンキシレン、クロロベンゼン等の共沸脱
水用の溶媒を少量加えて行なっても良い。
反応温度は、目的物の融点附近〜それ以上の温度で行な
う。すなわち、100〜240℃の範囲であり、好まし
くは130〜200℃の範囲である。
次に、以上の条件による縮合反応により得られ中間体か
ら目的物である6、4′−ジアミノジフェニルエーテル
、4.4−ジアミノジフェニルエーテルを製造する方法
は、一般的な接触還元またはヒドラジン還元による方法
が好ましい。
この還元反応では溶媒および還元触媒を使用する。
溶剤としては、水、メタノール、エタノール、インブタ
ノール、インブタノール、エチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、エチレングリコール、プロピレングリコール
、ジグライム、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のア
ルコール類、グリコール類、エーテル類が好んで用いら
れ、場合によっては、ヘキサン、シクロヘキサン、ベン
ゼン、トルエン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジクロロメ
タン、クロロホルム、1,1.2−トリクロロエタン等
の脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、エステル類、
・・ロゲン化炭化水素類も使用することができる。これ
ら溶媒は単独で附いても2種類以上混合して用いても良
い。
溶媒の使用量は特に限定されないが、通常、被還元物に
対して1〜15重量倍で十分である。
還元触媒としては、一般に使用されている還元触媒、例
えば、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、ラネ
ーニッケル、銅、鉄等が使用できる。
これらの触媒は金属の状態でも使用できるが、通常は、
カーボン、硫酸バリウム、シリカゲル、アルミナ等の担
体表面に付着させて用いられる。工業的には、パラジウ
ム、白金触媒が好ましく、ヒドラジン還元では塩化第二
鉄を活性炭に吸着させて使用することも好ましい。
これら触媒の使用量は被還元物に対して、金属として0
.01〜30重量−の範囲であり、通常、担体に付着さ
せて用いる場合では0.05〜5重量%の範囲である。
反応温度は特に限定はなく、一般的には0〜150℃の
範囲、特に10〜80℃が好ましい。
また、接触還元方法において反応圧力は、通常、常圧〜
soKり/ calでよい。
本発明の一般的な実施態様として、縮合反応で中間体を
製造する行程では所定量のクロロニトロベンゼンとニト
ロフェノールおよび触媒量のポリエチレングリコール等
に塩基を加え、そのまま窒素ガス等の不活性ガスを通気
させながら所定の温度で反応させるか、あらかじめニト
ロフェノールのアルカリ金属塩を得、これをクロロニト
ロベンゼンとポリエチレングリコール等の触媒の存在下
で反応させるかのどちらでも良い。反応の進行は薄層ク
ロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィーによっ
て知ることができる。
縮合反応で中間体が選択的に製造されたならば、次に還
元行程に入る。
還元行程は溶媒中に縮合反応混合物を投入するか、縮合
組成物中に溶媒を加えて溶解または懸独させたのち、還
元反応で使用する触媒を加えて還元を行なう。ヒドラジ
/還元では所定の温度でヒドラジンを滴下させ、反応が
完結するまで一定に保って行なう。
接触還元では、水素ガスの吸収量を定量するか、または
水素ガスの吸収が停止するまで行なう。
反応の進行は薄層クロマトグラフィー、高速液体クロマ
トグラフィーまたはガスクロマトグラフィーにより知る
ことができる。
反応終了後、いずれの場合も溶媒を濃縮するか水等で希
釈するかによって目的物であるジアミノジフェニルエー
テルが単離できる。
(作用および効果) 本発明の方法では、ポリエチレングリコールおよびその
低級アルキルエーテルを触媒に用いて、4−クロロニト
ロベンゼンとニトロフェノール類を無溶媒で縮合させる
と反応は容易に進行し、中間体であるジニトロジフェニ
ルエーテル類が選択的に高収率で得られる。したがって
、この中間体化合物を単離精製することなく、その−!
ま還元行程で目的物であるジアミノジフェニルエーテル
の原料として使用することができる。このため、中間体
での精製、溶媒の回収等の煩雑な操作が不要であり、目
的物の収率が極めて良好である。
また、中間体の製造では溶媒を使用しないため、装置の
容積効率が極めて大きいこと、反応の進行は従来、知ら
れている無溶媒の方法に比べておだやかに進行させるこ
とができる等工業的に実施するうえで好適である。
(実施例) 以下、本発明の方法を実施例により更に詳細に説明する
実施例1゜ 攪拌装置、温度計を備えた反応器に4−クロロニトロベ
ンゼン47.!l g (0,3モル)おヨヒ平均分子
量1000のポリエチレングリコール11.7gを装入
し、温度を80℃に上げた。
内容物は均一溶融状態となったので攪拌し、ついで、窒
素ガスを通気させながら4−二トロフェノールナトIJ
ウム塩2水和物59.1 g (0,!1モル)を徐々
に加えた。次に、温度をゆっくり上げて170〜180
℃に保ち、同温度で15時間反応を行なった。反応終了
後、メタノール200dを装入した還元反応器に排出し
、5%Pd/c触媒1.5gを加えて、水素を導入しな
がら激しく攪拌を行ない接触還元を行なった。
反応温度20〜40℃で75時間つづけたところ約40
tの水素ガスを吸収した。これ以上水素ガスを吸収しな
くなったので反応を終了とした。
反応液を熱r過して触媒を除き、r液をエバポレーター
で濃縮したのち冷却すると淡褐色の結晶が析出した。こ
れは4.!−ジアミノジフェニルエーテルであり、r過
、水洗後乾燥して55.9 g (収率93.1チ)を
得た。
ガスクロマトグラフィーによる純度は97.8%であっ
た。インプロパツールで2回再結晶して微褐色プリズム
晶の純品を得た。融点は191〜192℃であり、元素
分析の結果は次のとおりである。
元素分析(C工2H工2N20) 計算値((転)  71.98 6.04 13.99
測定値(@   71.67 6.24 13.82実
施例2゜ 攪拌装置、温度計、還流冷却器と水分離器を備、tJ反
応器に4−クロロニトロベンゼン52g(・ 033モ
ル)、3−ニトロフェノール41.7 g (0,3モ
ル)、ポリエチレングリコール(600)−ジエチルエ
ーテル(日本特殊化学工業社製)15,6gおよびベン
ゼン20++tJを装入し、窒素ガスを通気させながら
攪拌下で加熱し、還流状態に保った。次に、50チ苛性
カリ水溶液35 g (0,31モル)を滴下しながら
ベンゼ/の還流状態で留出してくる水を水分離器により
除去した。
滴下終了後、完全に水分がなくなったのを確認したのち
、昇温してベンゼンを留去させた。温度を160〜17
5℃に保ち12時間反応させた。
反応終了後、イソブタノール250mA!を加えて溶解
させたのち、これを5%p t /c触媒2gとともに
還元反応器に装入した。還元および後処理とも実施例1
と同様に行なって545 g (収率90.7 % )
の6.4′−ジアミノジフェニルエーテルを得た。
ガスクロマトグラフィーによる純度は98.5 %であ
り、インプロパツールから再結晶したものの融点は73
〜74℃であった。
実施例6゜ 実施例1と同じ反応器に4−クロロニトロベンゼン47
.3 g (0,5モル)、4−ニトロフェノール13
.9 g (0,1モル)、無水炭酸カリウム16g(
0,115モル)および平均分子量600のポリエチレ
ングリコール15gを装入し、窒素ガスを通気させなが
ら温度165〜170℃で攪拌下に16時間反応させた
。反応終了後、熱水50m/を加えて水蒸気蒸留を行な
い、過剰の4−クロロニトロベンゼンを回収した。
次に、インプロパツール100mA’と活性炭2gおよ
び塩化第二鉄0.24 gを加え、還流下でヒドラジン
20g(0,4モル)を4時間で滴下した。還流状態で
16時間反応させたのち、熱r過して触媒等を除いた。
放冷すると結晶が析出した。これは4゜4′−ジアミノ
ジフェニルエーテルであり、r過、水洗後乾燥して17
.3g(収率86.4 % )を得た。
ガスクロマトグラフィーによる純度は98.9 %であ
った。
実施例4゜ 縮合反応において、テトラエチレングリコールジメチル
エーテル(東京化成試薬)19.5gを用い、還元反応
における溶媒をメチルセロソルブにした以外は実施例1
と同様に行ない53.3 g (収率88.7%)の4
.l−ジアミノジフェニルエーテルを得た。
ガスクロマトグラフィによる純度は983チでめった。
実施例5、 実施例2と同じ反応器に3−ニトロフェノール41.7
 g (0,3モル)、平均分子量400のポリエチレ
ングリコール!11.2 gおよびナトリウムメトキシ
ド16.2 g (0,3モル)を装入し、窒素ガスを
通気させながら加熱攪拌して、留出したメタノールを除
去した。ついで4−クロロニトロベンゼン52g(0,
33モル)を加え、温度を160〜175℃に保ち15
時間反応させた。反応終了後、ジオキサン200m1を
加えて溶解させたのち、これをs alb pd/C触
媒1.5gとともに還元反応器に装入した。還元および
後処理とも実施例1と同様に行なって526g(収率8
76チ)の3,4−ジアミノジフェニルエーテルを得た
ガスクロマトグラフィによる純度は、98.4%であっ
た。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)4−クロロニトロベンゼンとニトロフェノール類を
    脱塩化水素剤の存在下、ポリエチレングリコールまたは
    その低級アルキルエーテル類を触媒に用いて縮合し、得
    られたジニトロジフェニルエーテル類を単離精製するこ
    となく還元することを特徴とするジアミノジフェニルエ
    ーテル類の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006206544A (ja) * 2005-01-31 2006-08-10 Jfe Chemical Corp ジアミノジフェニルエーテルの精製方法
CN103086897A (zh) * 2011-10-27 2013-05-08 天津药物研究院 一种水合肼还原邻-硝基二苯醚制备邻-氨基二苯醚的方法
CN112062683A (zh) * 2020-09-24 2020-12-11 青岛科技大学 一种4、4-氨基二苯醚的合成方法

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CN112062683B (zh) * 2020-09-24 2022-07-01 青岛科技大学 一种4、4-氨基二苯醚的合成方法

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