JPS61205625A - 酸化錫系電導性微粉末の製造法 - Google Patents
酸化錫系電導性微粉末の製造法Info
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- JPS61205625A JPS61205625A JP4794285A JP4794285A JPS61205625A JP S61205625 A JPS61205625 A JP S61205625A JP 4794285 A JP4794285 A JP 4794285A JP 4794285 A JP4794285 A JP 4794285A JP S61205625 A JPS61205625 A JP S61205625A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は、白色から淡い青色に色調を有すると共に、良
好な電導性を有し、特にプラスチックやシリコンゴムな
ど(以下これらを総称してプラスチックと略記する)に
塗布または混入して、これらに電導性を付与する目的で
使用するのに適した酸化錫系電導性微粉末の製造法に関
する。
好な電導性を有し、特にプラスチックやシリコンゴムな
ど(以下これらを総称してプラスチックと略記する)に
塗布または混入して、これらに電導性を付与する目的で
使用するのに適した酸化錫系電導性微粉末の製造法に関
する。
〈従来技術〉
従来から、金属粉末やカーボン粉末などの電導性粉末を
プラスチックに塗布または混入することによって、これ
に電導性を付与することが行われているが、このように
プラスチックに金属粉末やカーボン粉末を混入すると、
プラスチック自体のもつ色調が損なわれて灰色または黒
色がかった色調をもつようになるため、プラスチックの
色調はかなり制限されたものになり、さらにプラスチッ
クが本来具備する透明性も損なわれるようになることか
ら、その用途は限られたものになる。
プラスチックに塗布または混入することによって、これ
に電導性を付与することが行われているが、このように
プラスチックに金属粉末やカーボン粉末を混入すると、
プラスチック自体のもつ色調が損なわれて灰色または黒
色がかった色調をもつようになるため、プラスチックの
色調はかなり制限されたものになり、さらにプラスチッ
クが本来具備する透明性も損なわれるようになることか
ら、その用途は限られたものになる。
したがって、近年、表示用電極、保護膜、静電防止用フ
ィルム、さらに透明発熱体などとして多く用いられるよ
うになってきた電導性と透明性が要求されるプラスチッ
ク塗膜、シート、板等には、プラスチック中に混入する
ことによってプラスチックのもつ透明性を損なうことな
く、これに良好な電導性を付与することのできる電導性
微粉末について1種々の研究が行われている。
ィルム、さらに透明発熱体などとして多く用いられるよ
うになってきた電導性と透明性が要求されるプラスチッ
ク塗膜、シート、板等には、プラスチック中に混入する
ことによってプラスチックのもつ透明性を損なうことな
く、これに良好な電導性を付与することのできる電導性
微粉末について1種々の研究が行われている。
これらの研究の中で酸化錫に、酸化アンチモン、酸化イ
ンジウム、酸化ガリウム、酸化ビスマス、酸化ニオブ、
酸化タンタル等を固溶させたものは電導性に優れていて
しかも白色から淡い青色の微粉末をうろことができるの
で有用である。
ンジウム、酸化ガリウム、酸化ビスマス、酸化ニオブ、
酸化タンタル等を固溶させたものは電導性に優れていて
しかも白色から淡い青色の微粉末をうろことができるの
で有用である。
酸化錫固溶体の透明性と電導性は主として粉末の焼結性
によって左右されるので、表面エネルギーが高く分散性
に優れた微細粉体を得るために多くの製造法が研究され
てきた。これらの製造法は、大きく1)乾式法と2)湿
式法、すなわちl)酸化スズと酸化アンチモンの粉末を
調製して混和し焼結する方法と、?)塩化スズおよび塩
化アンチモンの溶液を中和あるいは加水分解して酸化ス
ズと酸化アンチモンをコロイド状で共沈させ、このコロ
イド状共沈物を焼成する方法とにわけられる。
によって左右されるので、表面エネルギーが高く分散性
に優れた微細粉体を得るために多くの製造法が研究され
てきた。これらの製造法は、大きく1)乾式法と2)湿
式法、すなわちl)酸化スズと酸化アンチモンの粉末を
調製して混和し焼結する方法と、?)塩化スズおよび塩
化アンチモンの溶液を中和あるいは加水分解して酸化ス
ズと酸化アンチモンをコロイド状で共沈させ、このコロ
イド状共沈物を焼成する方法とにわけられる。
湿式法の中で特に加熱水中に、アルコール、塩酸水溶液
、およびアセトンのうちの1種または2桂以上の混合液
に所定の量の塩化スズと塩化アンチモンとを溶解したも
のからなる溶液を加えて酸化スズ微粉末を析出生成させ
る製造法(特開昭56−156606号)が知られてい
る。
、およびアセトンのうちの1種または2桂以上の混合液
に所定の量の塩化スズと塩化アンチモンとを溶解したも
のからなる溶液を加えて酸化スズ微粉末を析出生成させ
る製造法(特開昭56−156606号)が知られてい
る。
しかしながら、この製造法による場合、塩化錫を多量に
用いるので、原料コストが高くなり、製品価格が高いと
いう問題がある。そのため原料コストが安く、粉体の抵
抗が小さく、粒子径のより小さい製造法の開発が望まれ
ている。
用いるので、原料コストが高くなり、製品価格が高いと
いう問題がある。そのため原料コストが安く、粉体の抵
抗が小さく、粒子径のより小さい製造法の開発が望まれ
ている。
〈発明の目的〉
本発明の目的は、このような点を改善し、塩化錫を用い
ることなく金属錫を原料として用い、原料コストが安く
、電導性が良好で、透明性のよい、酸化錫系電導性微粉
末の湿式法による製造法を提供することにある。
ることなく金属錫を原料として用い、原料コストが安く
、電導性が良好で、透明性のよい、酸化錫系電導性微粉
末の湿式法による製造法を提供することにある。
〈発明の簡単な説明〉
このような目的は、下記の本発明により達成することが
できる。
できる。
すなわち、本発明は金属錫と金属錫に対し2.0〜15
.0重量%の金属アンチモンおよび/またはアンチモン
化合物とを、硝酸および塩酸を含む混酸に溶解して、錫
酸溶液を得、この錫酸溶液を加水分解して錫水和物コロ
イドを生成し、得られたコロイドを分離し、乾燥、焼成
することを特徴とする酸化錫系電導性微粉末の製造法で
ある。
.0重量%の金属アンチモンおよび/またはアンチモン
化合物とを、硝酸および塩酸を含む混酸に溶解して、錫
酸溶液を得、この錫酸溶液を加水分解して錫水和物コロ
イドを生成し、得られたコロイドを分離し、乾燥、焼成
することを特徴とする酸化錫系電導性微粉末の製造法で
ある。
ここで、前記加水分解は、多価カルボン酸および/また
は多価カルボン酸の塩を添加して行うものであることが
好ましい。
は多価カルボン酸の塩を添加して行うものであることが
好ましい。
〈発明の具体的構成〉
本発明の酸化錫系電導性微粉末の製造法について以下に
詳細に説明する。
詳細に説明する。
塗布型透明電導性膜を作るための微細な酸化錫系電導性
微粉末の重要な条件は、透明であることと粉体の抵抗が
低いことである。透明であるためには粒径が可視光の波
長以下、すなわち約0.4〜0.3w厘以下であり、特
定の光吸収がないことが必要となる。アンチモンを含む
二M化錫は、赤外吸収はあるが、この目的に適している
。
微粉末の重要な条件は、透明であることと粉体の抵抗が
低いことである。透明であるためには粒径が可視光の波
長以下、すなわち約0.4〜0.3w厘以下であり、特
定の光吸収がないことが必要となる。アンチモンを含む
二M化錫は、赤外吸収はあるが、この目的に適している
。
(1)まず、金属錫を用いて錫酸液を調製する。
金属Sn粒と金属Snに対し2.0〜15重量%の金属
sbおよび/またはsb化合物とを、 HNO3と。
sbおよび/またはsb化合物とを、 HNO3と。
HNO3に対して10〜50重量%のHClとの混酸水
溶液に、撹拌しながら徐々に加えて溶解し、i@加後さ
らに撹拌を続けると透明な錫酸溶液が得られる0反応温
度は20〜70℃に保つ、 HNO3濃度は20重量
%以上とする。
溶液に、撹拌しながら徐々に加えて溶解し、i@加後さ
らに撹拌を続けると透明な錫酸溶液が得られる0反応温
度は20〜70℃に保つ、 HNO3濃度は20重量
%以上とする。
sbが2.0重量%未満では得られる微粉末の電導性が
小さく、15.0重量%を越えると着色が大となり、透
明膜が得難い。
小さく、15.0重量%を越えると着色が大となり、透
明膜が得難い。
sbは金属sbを用いるが、使用量が少ないので、塩化
アンチモン等のアンチモン化合物を用いてもよいし、金
属sbとsb化合物の混合物を用いてもよい。
アンチモン等のアンチモン化合物を用いてもよいし、金
属sbとsb化合物の混合物を用いてもよい。
HClは金属Sn粒の溶解力を強める作用をする。
HCIと HNO3の混酸とすることによってHNO3
H度が小さくても金属Snを溶解することができる。
H度が小さくても金属Snを溶解することができる。
HCI@混合しないHNO3単独では透明な錫酸液を作
るのは困難であった。HC交は、また生成した錫酸溶液
の粘度を下げ、1錫酸液を可能とする働きをする。HC
l;Lが10重量%より少ないと以上の効果が小となり
、50重量%を越えると、最終製品の酸化錫微粉末にH
CIが残留し、二次a集が大となってしまう。
るのは困難であった。HC交は、また生成した錫酸溶液
の粘度を下げ、1錫酸液を可能とする働きをする。HC
l;Lが10重量%より少ないと以上の効果が小となり
、50重量%を越えると、最終製品の酸化錫微粉末にH
CIが残留し、二次a集が大となってしまう。
反応温度が20℃より小であると1反応速度が小さくな
り実際的でない。70℃を越えると可溶性の5n02が
生成し、透明な錫酸溶液が得られない。
り実際的でない。70℃を越えると可溶性の5n02が
生成し、透明な錫酸溶液が得られない。
HNO3濃度が20重量%より小さいと反応速度が小さ
い、上限は特にないが、60重量%を越えるものは特に
利点もなく、実際的でない。このため市販の1.38
(比重) HNO3の使用でよく、1.42)HNO
3は取扱いが危険であるため使用する必要はない。
い、上限は特にないが、60重量%を越えるものは特に
利点もなく、実際的でない。このため市販の1.38
(比重) HNO3の使用でよく、1.42)HNO
3は取扱いが危険であるため使用する必要はない。
)HNO3濃度、HC皇濃度および生成錫酸濃度は上記
の範囲内で適当に組合せればよいが、一般に1錫酸液を
得るには)lNO3濃度を大とし、錫酸液の粘度を下げ
るためにHC立濃度も大とする。この際反応温度は低く
なる。
の範囲内で適当に組合せればよいが、一般に1錫酸液を
得るには)lNO3濃度を大とし、錫酸液の粘度を下げ
るためにHC立濃度も大とする。この際反応温度は低く
なる。
(2)次に上記の錫酸溶液を加水分解する。
錫酸溶液を、生成する酸化錫コロイド100g当り1交
以北の加水分解液量となるに必要な70℃以上に熱した
水中に撹拌を行いつつ注入して加水分解を行う、温度、
水量共にこれより小では加水分解が進行しない。
以北の加水分解液量となるに必要な70℃以上に熱した
水中に撹拌を行いつつ注入して加水分解を行う、温度、
水量共にこれより小では加水分解が進行しない。
温度、水量がこの条件を満たしていれば、それらの条件
、錫酸の注入速度、撹拌条件等は生成コロイド液の濾過
性、最終製品性能に大きな差は与えない。
、錫酸の注入速度、撹拌条件等は生成コロイド液の濾過
性、最終製品性能に大きな差は与えない。
加水分解時にシュウ酸(ncoo) 2 。
HCCCQOFiH4) 3等の多価カルボン酸および
/または多価カルボン酸の塩等を5n02当り5〜15
重量%加えることにより濾過性を改善すると共に。
/または多価カルボン酸の塩等を5n02当り5〜15
重量%加えることにより濾過性を改善すると共に。
5n02の分散性も良くすることができる。添加量がこ
の範囲外では効果がない。
の範囲外では効果がない。
(3)加水分解によって生成したコロイドを洗浄し固液
分離を行う、洗浄、固液分離は通常の方法が使われる。
分離を行う、洗浄、固液分離は通常の方法が使われる。
i[!過分離、遠心分離等いずれでも良い。
(4)次いで、(3)で得られた酸化錫系微粉末を乾燥
後、結晶性を向上させる目的で空気中で焼成する。
後、結晶性を向上させる目的で空気中で焼成する。
乾燥は、熱風乾燥等の通常の方法が用いられる。乾燥温
度は通常150〜300℃を用いるが、150℃未満で
は乾燥が遅く、300℃を越えると乾燥品の飛散が多い
などの工程上の制約がある。乾燥時間は用いる方法温度
により異なるが、2〜3時間が好ましい。
度は通常150〜300℃を用いるが、150℃未満で
は乾燥が遅く、300℃を越えると乾燥品の飛散が多い
などの工程上の制約がある。乾燥時間は用いる方法温度
により異なるが、2〜3時間が好ましい。
焼成は通常の焼成炉を用い、温度500℃〜1000℃
、時間5m1n 〜40 hrとする。低温では長時間
焼成が必要である。
、時間5m1n 〜40 hrとする。低温では長時間
焼成が必要である。
500℃より低いと、不純物(C12,NOx等)の揮
発不充分で二次凝集が多くなり、1ooo℃を越えると
、−次粒子の成長が起こり、粒子の径大化が起こる。
発不充分で二次凝集が多くなり、1ooo℃を越えると
、−次粒子の成長が起こり、粒子の径大化が起こる。
好ましくは、800℃X1hr、600℃×20hrが
良い。
良い。
く実 施 例〉
実施例1
60%HNO3110s文と35%)Ic文25m愛と
H20H2O20Oの混合酸液を撹拌しながら80gの
Sn粒、9.0 g(7)Sb粉末を約2hrかけて溶
解した。溶解は発熱反応であり、50℃に保った水槽中
に反応容器を入れて行った。金属を加え終った後、さら
に50℃に保って3hrの撹拌を行い、透明な錫酸溶液
を得た。
H20H2O20Oの混合酸液を撹拌しながら80gの
Sn粒、9.0 g(7)Sb粉末を約2hrかけて溶
解した。溶解は発熱反応であり、50℃に保った水槽中
に反応容器を入れて行った。金属を加え終った後、さら
に50℃に保って3hrの撹拌を行い、透明な錫酸溶液
を得た。
得られた溶液を90℃に熱した1420800 ■文
中に撹拌しながら、30分間で注入し、加水分解を行っ
た。
中に撹拌しながら、30分間で注入し、加水分解を行っ
た。
スラリーは吸引濾過で濾過した。濾過性はあまりよくな
く、約4hrを要した。得られたケークは180℃で3
hr乾燥した後、電気炉中でaOO℃X1hrで焼成を
行い、電導性5n02微粉末を得た。
く、約4hrを要した。得られたケークは180℃で3
hr乾燥した後、電気炉中でaOO℃X1hrで焼成を
行い、電導性5n02微粉末を得た。
得られた微粉末は比抵抗0.8Ω*cm、BET法で測
定した比表面積47m’/g、電子svA鏡で見た一次
粒径は約0.03u−一であった0分散性を見るため、
一定の条件で水に分散した後、 0.37℃m以上の
二次粒径を持った粒子を遠心分離し、残った液中に分散
している粒子の%を求めると63%であった。この分散
性は、2次粒子をつくって結合していた酸化錫系微粉末
が1次粒子に再びばらばらになる「なりやすさ」を示す
と考えられる。
定した比表面積47m’/g、電子svA鏡で見た一次
粒径は約0.03u−一であった0分散性を見るため、
一定の条件で水に分散した後、 0.37℃m以上の
二次粒径を持った粒子を遠心分離し、残った液中に分散
している粒子の%を求めると63%であった。この分散
性は、2次粒子をつくって結合していた酸化錫系微粉末
が1次粒子に再びばらばらになる「なりやすさ」を示す
と考えられる。
実施例2
実施例1と同様にして錫酸溶液を得、この加水分解時に
加熱H2O中に8gのシュウ酸を加えた。
加熱H2O中に8gのシュウ酸を加えた。
濾過性はかなり改善され、濾過時間は約1.5hrであ
った。以下、実施例1と同様にして電導性S++02微
粉末を得た。
った。以下、実施例1と同様にして電導性S++02微
粉末を得た。
得られた微粉末の比抵抗、比表面積、−次粒径は実施例
1と大差ないが、分散性は68%でシュウ酸添加の効果
が認められた。
1と大差ないが、分散性は68%でシュウ酸添加の効果
が認められた。
実施例3
60%HNO380腸文と35%HC交60m文の混合
酸液を撹拌しながら80gのSn粒、7.0 gのsb
粒粉末約1hrかけて加え溶解した。25℃に保った水
槽中で反応を行った。金属を加え終った後、水槽温度を
40℃に上昇し、30分の撹拌を行って錫酸溶液を得た
。
酸液を撹拌しながら80gのSn粒、7.0 gのsb
粒粉末約1hrかけて加え溶解した。25℃に保った水
槽中で反応を行った。金属を加え終った後、水槽温度を
40℃に上昇し、30分の撹拌を行って錫酸溶液を得た
。
加水分解は80℃に熱したH2O16001文中に撹拌
しながら30分で注入することにより行った。
しながら30分で注入することにより行った。
分離、乾燥、焼成は実施例1と同様に行った。
得られた微粉末は比抵抗IL8Ω・cm、比表面積42
rn′/g、−次粒径約0.03ル■、分散性62%で
あった。
rn′/g、−次粒径約0.03ル■、分散性62%で
あった。
〈発明の効果〉
本発明の製造法は、塩化錫等の錫化合物を用いずに、金
属錫を直接HNO3とHCfLの混酸に溶解する。その
ため安価に酸化錫系電導性微粉末を製造することができ
る。
属錫を直接HNO3とHCfLの混酸に溶解する。その
ため安価に酸化錫系電導性微粉末を製造することができ
る。
また、HCfLとの混酸とすることにより、 HNO
3の溶解力を強め、結果として使用するHNO3濃度を
下げることができるので、耐酸設備上の経費が少なくて
すみ安全面でも有利であり、HNO3使用量が少なくな
るので製品価格が安価となる。
3の溶解力を強め、結果として使用するHNO3濃度を
下げることができるので、耐酸設備上の経費が少なくて
すみ安全面でも有利であり、HNO3使用量が少なくな
るので製品価格が安価となる。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社代 理
人 弁理士 渡 辺 望 稔4、コ・、
)’!:’ 、i、鵜゛
人 弁理士 渡 辺 望 稔4、コ・、
)’!:’ 、i、鵜゛
Claims (2)
- (1)金属錫と金属錫に対し2.0〜15.0重量%金
属アンチモンおよび/またはアンチモン化合物とを、硝
酸および塩酸を含む混酸に溶解して、錫酸溶液を得、こ
の錫酸溶液を加水分解して錫水和物コロイドを生成し、
得られたコロイドを分離し、乾燥、焼成することを特徴
とする酸化錫系電導性微粉末の製造法。 - (2)前記加水分解は、多価カルボン酸および/または
多価カルボン酸の塩を添加して行うものである特許請求
の範囲第1項に記載の酸化錫系電導性微粉末の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4794285A JPS61205625A (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | 酸化錫系電導性微粉末の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4794285A JPS61205625A (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | 酸化錫系電導性微粉末の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61205625A true JPS61205625A (ja) | 1986-09-11 |
Family
ID=12789417
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4794285A Pending JPS61205625A (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | 酸化錫系電導性微粉末の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61205625A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4937148A (en) * | 1986-03-06 | 1990-06-26 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Process for preparing conductive fine particles |
US5401441A (en) * | 1992-06-09 | 1995-03-28 | Eastman Kodak Company | Preparation of metal oxide conductive powders |
US7799312B2 (en) | 2002-03-22 | 2010-09-21 | Samsung Corning Precision Glass Co., Ltd. | Method for manufacturing high-density indium tin oxide target, methods for preparing tin oxide powder and indium oxide powder used therefor |
CN102285683A (zh) * | 2011-06-16 | 2011-12-21 | 广西师范大学 | 一种锑掺杂二氧化锡导电粉体材料的合成方法 |
-
1985
- 1985-03-11 JP JP4794285A patent/JPS61205625A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4937148A (en) * | 1986-03-06 | 1990-06-26 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Process for preparing conductive fine particles |
US5401441A (en) * | 1992-06-09 | 1995-03-28 | Eastman Kodak Company | Preparation of metal oxide conductive powders |
US7799312B2 (en) | 2002-03-22 | 2010-09-21 | Samsung Corning Precision Glass Co., Ltd. | Method for manufacturing high-density indium tin oxide target, methods for preparing tin oxide powder and indium oxide powder used therefor |
CN102285683A (zh) * | 2011-06-16 | 2011-12-21 | 广西师范大学 | 一种锑掺杂二氧化锡导电粉体材料的合成方法 |
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