JPS61200979A - 粗テトラヒドロフランの精製方法 - Google Patents
粗テトラヒドロフランの精製方法Info
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- JPS61200979A JPS61200979A JP3968085A JP3968085A JPS61200979A JP S61200979 A JPS61200979 A JP S61200979A JP 3968085 A JP3968085 A JP 3968085A JP 3968085 A JP3968085 A JP 3968085A JP S61200979 A JPS61200979 A JP S61200979A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発1j1)Fi粗テトラヒドロフラン(以下、粗TH
Fと略す)の精製方法に係る。
Fと略す)の精製方法に係る。
更に詳しくは、THFの精製工程に於て、水素添加処理
することにより高純度テトラヒドロフラン(以下、TH
’Fと略す)を取得する方法に係る。
することにより高純度テトラヒドロフラン(以下、TH
’Fと略す)を取得する方法に係る。
TRIFは、有機溶剤、或はポリテトラメチレングリコ
ール(以下、PTMGと略す)等の高分子化合物製造の
原料として極めて有用な物質である。
ール(以下、PTMGと略す)等の高分子化合物製造の
原料として極めて有用な物質である。
従来、THFの製造方法としては種々提案されておシ、
例えば、フルフラールの脱カルボニル化で得られる7、
7ンを接触水素化する方法。
例えば、フルフラールの脱カルボニル化で得られる7、
7ンを接触水素化する方法。
/、4(−ブタンジオールを脱水環化する方法或いは/
、f−ブタンジオールのジ酢酸エステルを酸触媒の存在
下、水と反応させる方法等がある。
、f−ブタンジオールのジ酢酸エステルを酸触媒の存在
下、水と反応させる方法等がある。
これらの方法で得られたTHFにはその製法にもよるが
、ジヒドロフラン(以下、DEN’と略す)、ブチルア
ルデヒド(以下、NBDと略す)プロピオンアルデヒド
、クロトンアルデヒド等、種々の不純物が含まれる。こ
れら不純物の存在は、微量であってもTHFの主用途で
あるPTMGに使用する場合、酸価の上昇或は着色等に
ょυ樹脂、繊維等の原料として使用不可能となるため、
工業原料としての価値が著しく低下する。
、ジヒドロフラン(以下、DEN’と略す)、ブチルア
ルデヒド(以下、NBDと略す)プロピオンアルデヒド
、クロトンアルデヒド等、種々の不純物が含まれる。こ
れら不純物の存在は、微量であってもTHFの主用途で
あるPTMGに使用する場合、酸価の上昇或は着色等に
ょυ樹脂、繊維等の原料として使用不可能となるため、
工業原料としての価値が著しく低下する。
しかしながら、これらの不純物、特にDBP及びNBD
は沸点がTHFと近接しているため、多量の熱を必要と
し、経済的ではない。
は沸点がTHFと近接しているため、多量の熱を必要と
し、経済的ではない。
本発明者等は上記実情に鑑み蒸留分離の困難な不純物を
含有する粗Tl1Fの精製方法につき鋭意検討した結果
、粗TH’Fを水素添加処理することにより@T HF
中に含まれる不純物を、THy[FiTHPと容易に蒸
留分離可能な化合物に転換することにより高純度のTH
Fを取得しうろことを見い出し、本発明に到達した。
含有する粗Tl1Fの精製方法につき鋭意検討した結果
、粗TH’Fを水素添加処理することにより@T HF
中に含まれる不純物を、THy[FiTHPと容易に蒸
留分離可能な化合物に転換することにより高純度のTH
Fを取得しうろことを見い出し、本発明に到達した。
本発明の要旨は、
(1) ジヒドロフラン及びブチルアルデヒドの少なく
とも1種を含有する粗テトラヒドロフランを水素添加触
媒の存在下、水素添加した後蒸留することを特徴とする
粗テトラヒドロフランの精製方法 (2)水素添加触媒が貴金属触媒であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の方法(3)粗テトラヒド
ロフランを精製するにあたシ(al 貴金属触媒を充
填した反応器に該粗テトラヒドロフランと水素とを供給
してジヒドロフラン及び/又はブチルアルデヒドを水素
添加してテトラヒドロフラン及び/又はn−ブタノール
とし、 (b)#反応生成液を第1蒸留塔に供給して、塔頂より
水−テトラヒドロフランの共沸混合物を留出させ、塔底
より高沸物を含むテトラヒドロフランを缶出させ、 (C)#缶出液を第2蒸留塔に供給して、塔底より高沸
物を排出し、塔頂より高純度テトラヒドロフランを取得
する ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法 (4) 粗テトラヒドロ7:7ンな水素添加反応に先
立って強酸性陽イオン交換樹脂よりなる反応域に水及び
/又は酢酸と共に供給して反応させてジヒドロフランを
ヒドロキシテトラヒドロフラン及び/又はアセトキシテ
トラヒドロフランに変換し1反応液を第3蒸留塔に供給
し、塔底よりヒドロキシテトラヒドロフラン及び/又は
アセトキシテトラヒドロフランを含有する液相部を抜き
出し、塔頂より留出する水−テトラヒドロフラン混合物
を貴金属触媒を充填した反応器に供給することを特徴と
する特許請求の範囲第3項記載の方法 に存する。
とも1種を含有する粗テトラヒドロフランを水素添加触
媒の存在下、水素添加した後蒸留することを特徴とする
粗テトラヒドロフランの精製方法 (2)水素添加触媒が貴金属触媒であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の方法(3)粗テトラヒド
ロフランを精製するにあたシ(al 貴金属触媒を充
填した反応器に該粗テトラヒドロフランと水素とを供給
してジヒドロフラン及び/又はブチルアルデヒドを水素
添加してテトラヒドロフラン及び/又はn−ブタノール
とし、 (b)#反応生成液を第1蒸留塔に供給して、塔頂より
水−テトラヒドロフランの共沸混合物を留出させ、塔底
より高沸物を含むテトラヒドロフランを缶出させ、 (C)#缶出液を第2蒸留塔に供給して、塔底より高沸
物を排出し、塔頂より高純度テトラヒドロフランを取得
する ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法 (4) 粗テトラヒドロ7:7ンな水素添加反応に先
立って強酸性陽イオン交換樹脂よりなる反応域に水及び
/又は酢酸と共に供給して反応させてジヒドロフランを
ヒドロキシテトラヒドロフラン及び/又はアセトキシテ
トラヒドロフランに変換し1反応液を第3蒸留塔に供給
し、塔底よりヒドロキシテトラヒドロフラン及び/又は
アセトキシテトラヒドロフランを含有する液相部を抜き
出し、塔頂より留出する水−テトラヒドロフラン混合物
を貴金属触媒を充填した反応器に供給することを特徴と
する特許請求の範囲第3項記載の方法 に存する。
以下、本発明を更に詳細に説明する。
本発明で精製処理される粗THFは、DHF及びNBD
の少くとも1種を含有するものであれば特に限定される
ものではなく、フランを接触水素化する方法、八り−ブ
タンジオールを脱水環化する方法或いは/、クーブタン
ジオールのジ酢酸エステルを酸触媒の存在下、水と反応
させる方法等、いずれの方法で製造されたものでも可能
であるが、以下に/、II−ブタンジオールのジ酢酸エ
ステルを加水分解して生成した/、 II−ブタンジオ
ールを脱水環化する場合について説明する。
の少くとも1種を含有するものであれば特に限定される
ものではなく、フランを接触水素化する方法、八り−ブ
タンジオールを脱水環化する方法或いは/、クーブタン
ジオールのジ酢酸エステルを酸触媒の存在下、水と反応
させる方法等、いずれの方法で製造されたものでも可能
であるが、以下に/、II−ブタンジオールのジ酢酸エ
ステルを加水分解して生成した/、 II−ブタンジオ
ールを脱水環化する場合について説明する。
l、ターブタンジオールのジ酢酸エステルは。
ブタジェン、酢酸をパラジウム系触媒の存在下分子状酸
素と反応させて得られ九へダージアセトキシプテンを、
水素化触媒の存在下、水素添加することにより得られる
。反応生成物は、/、f−ジアセトキシブタンとムコ−
ジアセトキシブタンの混合物であり、更に水、酢酸、酢
酸ブチル、高沸アルデヒド、アセタール類を若干量含ん
でいるが、特に精製する必要はない。該ジアセトキシブ
タン混合物は、水と共に強酸性陽イオン交換樹脂を充填
した反応器に供給し、II。
素と反応させて得られ九へダージアセトキシプテンを、
水素化触媒の存在下、水素添加することにより得られる
。反応生成物は、/、f−ジアセトキシブタンとムコ−
ジアセトキシブタンの混合物であり、更に水、酢酸、酢
酸ブチル、高沸アルデヒド、アセタール類を若干量含ん
でいるが、特に精製する必要はない。該ジアセトキシブ
タン混合物は、水と共に強酸性陽イオン交換樹脂を充填
した反応器に供給し、II。
〜go”Cで加水分解反応を行なう。反応液は蒸留によ
り、水、酢酸を留去し、l、−一及び/、ターブタンジ
オール、モノ及びジ酢酸エステルよする缶出液を、更に
高沸分離塔に供給し、高沸物を分離することにより粗/
、 4t−ブタンジオールが取得される。該粗/、クー
ブタンジオールは強酸性陽イオン交換樹脂を充填したT
HF化反応器に供給され、1)0〜90℃で反応を行い
。
り、水、酢酸を留去し、l、−一及び/、ターブタンジ
オール、モノ及びジ酢酸エステルよする缶出液を、更に
高沸分離塔に供給し、高沸物を分離することにより粗/
、 4t−ブタンジオールが取得される。該粗/、クー
ブタンジオールは強酸性陽イオン交換樹脂を充填したT
HF化反応器に供給され、1)0〜90℃で反応を行い
。
反応生成液は蒸留により水、酢酸、THPを主成分とす
る軽沸物を留出させ、更に該留出物を更に常圧で操作さ
れる蒸留塔に供給し、水−TiiF共沸混合物を留出さ
せる。該水−THIP共沸混合物は、DH?及びNBD
の少くとも1種を不純物として含有するものであシ、本
発明で精製処理される原料粗TH?の要件を満足するも
のである。
る軽沸物を留出させ、更に該留出物を更に常圧で操作さ
れる蒸留塔に供給し、水−TiiF共沸混合物を留出さ
せる。該水−THIP共沸混合物は、DH?及びNBD
の少くとも1種を不純物として含有するものであシ、本
発明で精製処理される原料粗TH?の要件を満足するも
のである。
精製される粗TIIIFに含有されるDH’?及びNB
Dの量は特に限定されるものではなく、会知の種々の方
法で製造された粗THF中に含まれる程度の量であるが
1通常I)IIIIFFiO〜200ppm%NBDは
0〜1000 ppm程度である。
Dの量は特に限定されるものではなく、会知の種々の方
法で製造された粗THF中に含まれる程度の量であるが
1通常I)IIIIFFiO〜200ppm%NBDは
0〜1000 ppm程度である。
′本発明では、粗THIF’&、担体に担持された水素
添加触媒の存在下、水素添加処理することにより、微量
のDHFl及びNBDを夫々TI?及びn−ブタノール
に変換する。水素添加触媒としては、アルデヒド類をア
ルコール類に還元する能力を有する触媒及び/又は炭素
−炭素不飽和二重結合を水素化する能力を有する触媒が
使用され、具体的には、ニッケル触媒及びルテニウム、
パラジウム、白金等の貴金属触媒が挙げられるが、貴金
属触媒が特に好ましい。これらの水素添加触媒は、単独
でも十分作用を有するが、例えばニッケル触媒は比較的
高温で活性を有する一方、高温ではTl!It’の水添
分解が増加するので適宜温度を選定するのが良い。又、
パラジウム或いは白金触媒とルテニウム触媒を夫々一層
ずつ充填して使用することも可能である。
添加触媒の存在下、水素添加処理することにより、微量
のDHFl及びNBDを夫々TI?及びn−ブタノール
に変換する。水素添加触媒としては、アルデヒド類をア
ルコール類に還元する能力を有する触媒及び/又は炭素
−炭素不飽和二重結合を水素化する能力を有する触媒が
使用され、具体的には、ニッケル触媒及びルテニウム、
パラジウム、白金等の貴金属触媒が挙げられるが、貴金
属触媒が特に好ましい。これらの水素添加触媒は、単独
でも十分作用を有するが、例えばニッケル触媒は比較的
高温で活性を有する一方、高温ではTl!It’の水添
分解が増加するので適宜温度を選定するのが良い。又、
パラジウム或いは白金触媒とルテニウム触媒を夫々一層
ずつ充填して使用することも可能である。
担体としては、活性炭、シリカゲル、シリカアルミナ、
粘土、ボーキサイト、マグネシア、ケイソウ土、軽石等
が挙げられる。水素は必ずしも純粋なものである必要は
なく、不活性ガス、飽和炭化水素等で希釈されたもので
もよい。水素分圧は/に9/d以上であれば実施可能で
あるが、高い圧力の採用は高価な設備が必要であシ又、
圧力が低すぎる場合には多量の触媒が必要となるため、
!kl//cr/l〜コOkg/cr!lの水素分圧が
好ましい。反応温度は30〜200℃の範囲で実施され
るが、高温側ではTHIFの水添分解が顕著となシ又、
低温側では多量の触媒が必要となるため、30〜120
℃が好ましい。
粘土、ボーキサイト、マグネシア、ケイソウ土、軽石等
が挙げられる。水素は必ずしも純粋なものである必要は
なく、不活性ガス、飽和炭化水素等で希釈されたもので
もよい。水素分圧は/に9/d以上であれば実施可能で
あるが、高い圧力の採用は高価な設備が必要であシ又、
圧力が低すぎる場合には多量の触媒が必要となるため、
!kl//cr/l〜コOkg/cr!lの水素分圧が
好ましい。反応温度は30〜200℃の範囲で実施され
るが、高温側ではTHIFの水添分解が顕著となシ又、
低温側では多量の触媒が必要となるため、30〜120
℃が好ましい。
水素添加反応によって、粗THF中のDH?及び/又は
NBDi夫々T夫々及HF−ブタノール等に変換される
。
NBDi夫々T夫々及HF−ブタノール等に変換される
。
該反応生成物は、常圧に保持された気液分離器に移送さ
れ、気相排ガスを分離後、液相部は脱水塔である第7蒸
留塔に供給され、塔頂よ)水−THF共沸混合物を留出
させ、塔底より高沸物を含む脱水されたTHIPを缶出
させる。
れ、気相排ガスを分離後、液相部は脱水塔である第7蒸
留塔に供給され、塔頂よ)水−THF共沸混合物を留出
させ、塔底より高沸物を含む脱水されたTHIPを缶出
させる。
尚、粗TIIIFがNBDを含有する場合には、水添反
応によって生成したn−ブタノールは、高沸物と共に第
7蒸留塔から缶出される。水−THF混合物は、加圧下
では水モル分率の高まった共沸混合物を形成するので第
1蒸留塔は加圧下で運転するのが好ましい。第7蒸留塔
の操作条件//i、理論段数IO−λQ1圧力s〜1j
kl / di G 、塔底温度lJO〜/ざ0℃、還
流比0、/〜/、0程度である。第1蒸留塔の缶出液は
更に製品基である第2蒸留塔に供給され、塔底よりTH
IPIO〜rots程度及び場合によりn−ブタノール
を含む高沸物を排出し、塔頂より高純度THFを取得す
る。第2蒸留塔/fi、理論段数/j〜、70.圧カク
A O〜/ 000 Torr。
応によって生成したn−ブタノールは、高沸物と共に第
7蒸留塔から缶出される。水−THF混合物は、加圧下
では水モル分率の高まった共沸混合物を形成するので第
1蒸留塔は加圧下で運転するのが好ましい。第7蒸留塔
の操作条件//i、理論段数IO−λQ1圧力s〜1j
kl / di G 、塔底温度lJO〜/ざ0℃、還
流比0、/〜/、0程度である。第1蒸留塔の缶出液は
更に製品基である第2蒸留塔に供給され、塔底よりTH
IPIO〜rots程度及び場合によりn−ブタノール
を含む高沸物を排出し、塔頂より高純度THFを取得す
る。第2蒸留塔/fi、理論段数/j〜、70.圧カク
A O〜/ 000 Torr。
塔底温度60〜/コよ℃、還流比0./〜八へ程度で操
作される。尚、第7蒸留塔の塔頂からの水−THF共沸
混合物は蒸留により水を分離後原料籾THFに循環混合
することも可能である。
作される。尚、第7蒸留塔の塔頂からの水−THF共沸
混合物は蒸留により水を分離後原料籾THFに循環混合
することも可能である。
上述の如く、本発明によれば、粗THFを水素添加処理
することにより粗THFに含有されるDHIFをT H
IF K %N B D y&#n−ブタノールに変換
し、容易に高純度THIPを取得することができるが、
場合によっては、水素添加処理に先立って、本発明の原
料である粗Tl!Fyk水及び/又は酢酸と反応させる
ことにより、不純物であるDHFの少なくとも一部を、
THIFと容易に蒸留分離されるヒドロキシテトラヒド
ロフラン及び/又はアセトキシテトラヒドロフランに変
換することも可能である。本反応は1強酸性陽イオン交
換樹脂等の固体酸触媒、好ましくはスルホン酸型陽イオ
ン交換樹脂の存在下行なわれる。原料粗Tl!1Fと水
及び/又は酢酸とを固体酸触媒と接触反応させる場合の
反応温度は、70〜10℃、LH13V(液体空間速度
)FiO,!r 〜j hr−’程度である。
することにより粗THFに含有されるDHIFをT H
IF K %N B D y&#n−ブタノールに変換
し、容易に高純度THIPを取得することができるが、
場合によっては、水素添加処理に先立って、本発明の原
料である粗Tl!Fyk水及び/又は酢酸と反応させる
ことにより、不純物であるDHFの少なくとも一部を、
THIFと容易に蒸留分離されるヒドロキシテトラヒド
ロフラン及び/又はアセトキシテトラヒドロフランに変
換することも可能である。本反応は1強酸性陽イオン交
換樹脂等の固体酸触媒、好ましくはスルホン酸型陽イオ
ン交換樹脂の存在下行なわれる。原料粗Tl!1Fと水
及び/又は酢酸とを固体酸触媒と接触反応させる場合の
反応温度は、70〜10℃、LH13V(液体空間速度
)FiO,!r 〜j hr−’程度である。
反応液は第38留塔に供給され、塔頂より水−T1)F
共沸混合物を留出させ、塔底よりヒドロキシテトラヒド
ロフラン及び/又はアセトキシテトラヒドロフランを含
み、水及び/又は酢酸を主成分とする液相部を缶出液と
して抜き出す。
共沸混合物を留出させ、塔底よりヒドロキシテトラヒド
ロフラン及び/又はアセトキシテトラヒドロフランを含
み、水及び/又は酢酸を主成分とする液相部を缶出液と
して抜き出す。
第3蒸留塔は常圧で操作され、理論段数t S−/1塔
底温度ioo〜/10”Q、還流比0.j〜コ、O程度
である。塔頂より留出量る水−TH?共沸混合物は更に
上述の水素添加及び蒸留工程に供給され、目的とする高
純度THFを取得する。
底温度ioo〜/10”Q、還流比0.j〜コ、O程度
である。塔頂より留出量る水−TH?共沸混合物は更に
上述の水素添加及び蒸留工程に供給され、目的とする高
純度THFを取得する。
かくして得られるTHFFi、純度99.99b以上と
いう極めて高純度のものである。
いう極めて高純度のものである。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本
発明は以下の実施例に限定されるものではない。
発明は以下の実施例に限定されるものではない。
尚、以下の実施例及び比較例で原料として使用した粗T
HIFは、ブタジェンの7セトキシ化で得られた/、I
I−ジアセトキシブテンを水添によl) /、 +1−
ジアセトキシブタンとし、更に加水分解して得たl、ダ
ープタンジオールを環化することにより製造したものを
使用した。又、以下の記載に於て「憾」及び「部」は夫
々「重量部」及び「重量部」を示す。
HIFは、ブタジェンの7セトキシ化で得られた/、I
I−ジアセトキシブテンを水添によl) /、 +1−
ジアセトキシブタンとし、更に加水分解して得たl、ダ
ープタンジオールを環化することにより製造したものを
使用した。又、以下の記載に於て「憾」及び「部」は夫
々「重量部」及び「重量部」を示す。
実施例1
DHF200 ppm 、 N B D 4Ik Op
pmを含有し、水よ、デ係、T HF 91).D俤か
らなる混合物+7j部/hrを、下層にP(Lを、上層
にRuを活性炭に担持した触媒夫々一層ずつを充填した
反応器にO,S部/hrの水素と共に供給した。水添反
応は温度ioo′C,圧カデ、 !r k& / ad
、液の滞留時間/hr(空筒基準)で行なった。反応器
より流出した液はn−ブタノールをダ弘コppm含有し
、DHIP及びNBDは夫々/ Oppm以下であった
。この反応液を脱水塔(第1蒸留塔)へ供給した。脱水
塔は理論段数/41段、圧力t、!に9/rya1%還
流比0.3で運転した。脱水塔の塔頂からは、水13.
/係、T HF ff 6.9係からなる留出液を3?
ダ部/hrで留出させ、留出液は第3蒸留塔に供給し、
水を分離後原料TH1)’に混合し、THIFを回収し
た。第3蒸留塔は。
pmを含有し、水よ、デ係、T HF 91).D俤か
らなる混合物+7j部/hrを、下層にP(Lを、上層
にRuを活性炭に担持した触媒夫々一層ずつを充填した
反応器にO,S部/hrの水素と共に供給した。水添反
応は温度ioo′C,圧カデ、 !r k& / ad
、液の滞留時間/hr(空筒基準)で行なった。反応器
より流出した液はn−ブタノールをダ弘コppm含有し
、DHIP及びNBDは夫々/ Oppm以下であった
。この反応液を脱水塔(第1蒸留塔)へ供給した。脱水
塔は理論段数/41段、圧力t、!に9/rya1%還
流比0.3で運転した。脱水塔の塔頂からは、水13.
/係、T HF ff 6.9係からなる留出液を3?
ダ部/hrで留出させ、留出液は第3蒸留塔に供給し、
水を分離後原料TH1)’に混合し、THIFを回収し
た。第3蒸留塔は。
理論段数/1段、圧力りA Otorr、還流比/、/
で運転した。
で運転した。
一方、第1蒸留塔塔底からは、水!r Oppm 。
n−ブタノールI / Oppmを含む粗THI?’を
lll1部/hrで抜き出し、製品基(第2蒸留塔〕へ
供給した。製品基は理論段数l?段、圧力? 60 t
orr、還流比0.4で運転し、塔底からはn−ブタノ
ール?、 ff%%及び高沸物を含むTHFをS部/h
rで抜き出し、塔頂からけ製品THPをグク! @y’
h rで留出させた。製品は純度99.9憾以上であり
、DHIP及びNBDの含有量は/ Oppm以下であ
った。
lll1部/hrで抜き出し、製品基(第2蒸留塔〕へ
供給した。製品基は理論段数l?段、圧力? 60 t
orr、還流比0.4で運転し、塔底からはn−ブタノ
ール?、 ff%%及び高沸物を含むTHFをS部/h
rで抜き出し、塔頂からけ製品THPをグク! @y’
h rで留出させた。製品は純度99.9憾以上であり
、DHIP及びNBDの含有量は/ Oppm以下であ
った。
実施例コ
DHF、、2jOppm、NBDjjOppmを含有し
、水?、 9 % 、酢酸2 j、 0%、T1)1F
67.7mからなる混合物をスルホン酸型強酸性陽イオ
ン交換樹脂ダイヤイオンSK/B(三菱化成工業■製ン
を充填した反応塔にt°/ z 1h rで導入し、反
応させた。反応塔は30℃、コkliF/cdGで運転
した。反応塔を流出した液はヒドロキシテトラヒドロン
ラン/f&ppm、アセトキシテトラヒドロフラン/?
Oppm、 NBDj41Oppmを含有し、DHFは
/ Oppm以下であった。
、水?、 9 % 、酢酸2 j、 0%、T1)1F
67.7mからなる混合物をスルホン酸型強酸性陽イオ
ン交換樹脂ダイヤイオンSK/B(三菱化成工業■製ン
を充填した反応塔にt°/ z 1h rで導入し、反
応させた。反応塔は30℃、コkliF/cdGで運転
した。反応塔を流出した液はヒドロキシテトラヒドロン
ラン/f&ppm、アセトキシテトラヒドロフラン/?
Oppm、 NBDj41Oppmを含有し、DHFは
/ Oppm以下であった。
反応塔流出液は第1蒸留塔留出液3941部/hrと共
に水、酢酸分離塔(第3蒸留塔)へ供給し、塔底より水
及び酢酸を主成分とする缶出液をコj !r WA/h
rで抜き出し、塔頂より水5.9係、テトラヒドロフラ
ンqI1.o%からなる留出液をt7ダ部/ h rで
留出させた。
に水、酢酸分離塔(第3蒸留塔)へ供給し、塔底より水
及び酢酸を主成分とする缶出液をコj !r WA/h
rで抜き出し、塔頂より水5.9係、テトラヒドロフラ
ンqI1.o%からなる留出液をt7ダ部/ h rで
留出させた。
留出液中のDHF’、ヒドロキシテトラヒドロンラン、
アセトキシテトラヒドロフランの含有量はいずれも/
Oppm以下であシ、NBDけ1)10ppmであった
。留出液はRu を活性炭に担持した触媒を充填した反
応器に、O,、を部/ h rの水素と共に供給した。
アセトキシテトラヒドロフランの含有量はいずれも/
Oppm以下であシ、NBDけ1)10ppmであった
。留出液はRu を活性炭に担持した触媒を充填した反
応器に、O,、を部/ h rの水素と共に供給した。
水添反応は温度100℃、圧力?、 j ky / d
i%滞留時間O,jhr(空筒基準〕で行なった。
i%滞留時間O,jhr(空筒基準〕で行なった。
反応器より流出し友液中のn−ブタノールはダクj p
pm、 N B DFi/ Oppm以下であった。
pm、 N B DFi/ Oppm以下であった。
この反応液!実施例1と同じ条件で操作される脱水塔(
第1蒸留塔)へ供給し、塔頂からは水/ 、7.7憾、
THFf&、?憾からなる留出液をj91部/hrで留
出させ、留出液は第3蒸留塔ヘリサイクルした。塔底か
らは水k Oppm 、ブタノ−A−t !r Opp
mを含む粗THIFをIIt o*’hrで抜き出し、
実施例1と同じ条件で運転される製品基(第2蒸留塔)
へ供給し良。
第1蒸留塔)へ供給し、塔頂からは水/ 、7.7憾、
THFf&、?憾からなる留出液をj91部/hrで留
出させ、留出液は第3蒸留塔ヘリサイクルした。塔底か
らは水k Oppm 、ブタノ−A−t !r Opp
mを含む粗THIFをIIt o*’hrで抜き出し、
実施例1と同じ条件で運転される製品基(第2蒸留塔)
へ供給し良。
離後原料粗THFに混合し、TRIPを回収した。
塔頂からは製品THINを弘り!部/h rで留出させ
念。製品は純度テタ、?傷以上であシ、DH?及びNB
D含有量はいずれも/θppm以下であった。
念。製品は純度テタ、?傷以上であシ、DH?及びNB
D含有量はいずれも/θppm以下であった。
比較例1
実施例λと同一組成の粗THFり/!部/ h rと第
1蒸留塔留出液3デダ部/hrを同時に実施例−と同一
条件で操作される第3蒸留塔に供給し塔頂より水3.9
チ、THFタダ、Qチからなる留出液をrye部/hr
で留出させ、塔底より、水及び酢酸を主成分とする缶出
液をコJに@/bxで抜き出した。留出液はHB D
II ! Oppm 。
1蒸留塔留出液3デダ部/hrを同時に実施例−と同一
条件で操作される第3蒸留塔に供給し塔頂より水3.9
チ、THFタダ、Qチからなる留出液をrye部/hr
で留出させ、塔底より、水及び酢酸を主成分とする缶出
液をコJに@/bxで抜き出した。留出液はHB D
II ! Oppm 。
DHF−〇 〇 ppmを含んでいた。留出液を実施例
−と同一条件で操作される脱水塔(第7蒸留塔)K供給
し、塔頂より水/3./llb、THPt4.9’4よ
り成シ、N B D j Oppm %D H?−〇
〇 ppmを含む留出液39ダ部、/hr’Q留出させ
、留出液は第3蒸留塔にリサイクルした。
−と同一条件で操作される脱水塔(第7蒸留塔)K供給
し、塔頂より水/3./llb、THPt4.9’4よ
り成シ、N B D j Oppm %D H?−〇
〇 ppmを含む留出液39ダ部、/hr’Q留出させ
、留出液は第3蒸留塔にリサイクルした。
第1蒸留塔塔底からは、DHF’jA□ppm%M B
D t 20 ppm h ’Ha O!r (7
pplnを含む缶出液llIr0W5//hrを抜き出
し、実施例−と同一条件で操作される製品基(第2蒸留
塔)に供給した。
D t 20 ppm h ’Ha O!r (7
pplnを含む缶出液llIr0W5//hrを抜き出
し、実施例−と同一条件で操作される製品基(第2蒸留
塔)に供給した。
第2蒸留塔の塔頂からは製品T HP <4)0 WV
hrを抜き出し、塔底からはNBDIm1度八〇係のT
へH’It / OVhrを抜き出した。製品中のNB
D濃度け6コOppm、DHFはj !; Oppmで
あった。
hrを抜き出し、塔底からはNBDIm1度八〇係のT
へH’It / OVhrを抜き出した。製品中のNB
D濃度け6コOppm、DHFはj !; Oppmで
あった。
本発明によれば、粗TRIFの精製工程に於て水素添加
処理することにより、 TIIIIFと蒸留分離困難な
りH?及びNBD等の不純物を、TRIPと容易に分離
可能な化合物に変換することが可能であシ、従って蒸留
等の通常の手段で、THFの損失を抑制しつつ、高純度
のTHFを取得することができる。
処理することにより、 TIIIIFと蒸留分離困難な
りH?及びNBD等の不純物を、TRIPと容易に分離
可能な化合物に変換することが可能であシ、従って蒸留
等の通常の手段で、THFの損失を抑制しつつ、高純度
のTHFを取得することができる。
本発明方法で得られたTHIFは、好適には純度99.
91以上という極めて高純度であるため樹脂及び繊維等
の原料として高い製品価値を有する。
91以上という極めて高純度であるため樹脂及び繊維等
の原料として高い製品価値を有する。
出 願 人 三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士 長谷用 −
(ほか/名〕
Claims (4)
- (1)ジヒドロフラン及びブチルアルデヒドの少なくと
も1種を含有する粗テトラヒドロフランを水素添加触媒
の存在下水素添加した後、蒸留することを特徴とする粗
テトラヒドロフランの精製方法。 - (2)水素添加触媒が貴金属触媒であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (3)粗テトラヒドロフランを精製するにあたり、(a
)貴金属触媒を充填した反応器に、該粗テトラヒドロフ
ランと水素とを供給してジヒドロフラン及び/又はブチ
ルアルデヒドを水素添加してテトラヒドロフラン及び/
又はn−ブタノールとし、 (b)該反応生成液を第1蒸留塔に供給して、塔頂より
、水−テトラヒドロフランの共沸混合物を留出させ、塔
底より高沸物を含むテトラヒドロフランを缶出させ、 (c)該缶出液を第2蒸留塔に供給して塔底より高沸物
を排出し、塔頂より高純度テトラヒドロフランを取得す
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (4)粗テトラヒドロフランを水素添加反応に先立つて
、強酸性陽イオン交換樹脂よりなる反応域に水及び/又
は酢酸と共に供給して反応させてジヒドロフランをヒド
ロキシテトラヒドロフラン及び/又はアセトキシテトラ
ヒドロフランに変換し、反応液を第3蒸留塔に供給し、
塔底よりヒドロキシテトラヒドロフラン及び/又はアセ
トキシテトラヒドロフランを含有する液相部を抜き出し
、塔頂より留出する水−テトラヒドロフラン混合物を貴
金属触媒を充填した反応器に供給することを特徴とする
特許請求の範囲第3項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60039680A JPH0629280B2 (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 粗テトラヒドロフランの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60039680A JPH0629280B2 (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 粗テトラヒドロフランの精製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61200979A true JPS61200979A (ja) | 1986-09-05 |
JPH0629280B2 JPH0629280B2 (ja) | 1994-04-20 |
Family
ID=12559803
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60039680A Expired - Lifetime JPH0629280B2 (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 | 粗テトラヒドロフランの精製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0629280B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999016762A1 (fr) * | 1997-09-30 | 1999-04-08 | Hodogaya Chemical Co., Ltd. | Procede de purification de tetrahydrofurannes utilises comme matiere premiere pour des polyols de polyether |
CN1059889C (zh) * | 1994-12-01 | 2000-12-27 | 三菱化学株式会社 | 丁醛类的制备方法 |
WO2003099905A1 (de) * | 2002-05-24 | 2003-12-04 | Basf Aktiengesellschaft | Verfahren zur herstellung von polytetrahydrofuran mit niedrigen farbzahlen |
WO2011052065A1 (ja) * | 2009-10-30 | 2011-05-05 | 株式会社日立プラントテクノロジー | テトラヒドロフランの精製方法及び精製システム |
JP2013060429A (ja) * | 2011-08-23 | 2013-04-04 | Mitsubishi Chemicals Corp | 1,4−ブタンジオールの精製方法及びテトラヒドロフランの製造方法 |
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CN116496237A (zh) * | 2023-03-21 | 2023-07-28 | 重庆建峰新材料有限责任公司 | 一种高纯四氢呋喃精馏制备工艺 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52111557A (en) * | 1976-03-16 | 1977-09-19 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Production of cyclic ether |
JPS5728076A (en) * | 1980-06-11 | 1982-02-15 | Du Pont | Purification of tetrahydrofuran |
-
1985
- 1985-02-28 JP JP60039680A patent/JPH0629280B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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CN1059889C (zh) * | 1994-12-01 | 2000-12-27 | 三菱化学株式会社 | 丁醛类的制备方法 |
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DE19881631B4 (de) * | 1997-09-30 | 2009-02-05 | Hodogaya Chemical Co. Ltd. | Verfahren zur Reinigung von Tetrahydrofuranen, die als Ausgangsmaterial für Polyetherpolyole verwendet werden |
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JP2013060429A (ja) * | 2011-08-23 | 2013-04-04 | Mitsubishi Chemicals Corp | 1,4−ブタンジオールの精製方法及びテトラヒドロフランの製造方法 |
JP2016172712A (ja) * | 2014-06-17 | 2016-09-29 | 三菱化学株式会社 | テトラヒドロフラン化合物の製造方法 |
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JP2016017041A (ja) * | 2014-07-07 | 2016-02-01 | 三菱化学株式会社 | テトラヒドロフランの精製方法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0629280B2 (ja) | 1994-04-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |