JP4431397B2 - テトラヒドロフランとピロリドンとを同時に製造する方法 - Google Patents

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Description

本発明は、C−ジカルボン酸及び/又はその誘導体;有利にマレイン酸及びその誘導体を、銅含有触媒の存在で水素化して、THF及びガンマ−ブチロラクトン(GBL)からなる混合物にし、この混合物を蒸留によりTHF/水混合物とGBL含有混合物とに分離し、更に蒸留により純粋なTHFとGBLとを獲得し、引き続きGBLとアンモニア又は第1級アミンとの(1種又は複数の)反応によりピロリドンにすることにより、純粋なテトラヒドロフラン(THF)と、ピロリドンとを同時に製造する方法に関する。
JP-B 2.639.464から、無水マレイン酸(MSA)を気相中で、銅及び酸化アルミニウムを含有する触媒の存在で水素化して、ブタンジオールとテトラヒドロフランとからなる混合物にすることは公知である。水素化のための装入物として、この場合に、実施例1〜4及び7中ではMSAとGBLとからなる混合物が使用される。それに対して実施例5は、銅含有率及びアルミニウム含有率36.7%もしくは17.7%の触媒の存在で、210℃/15barで、MSAをジオキサンと一緒に水素化して、ブタンジオール3.8%、THF81.6%及びGBL14.1%からなる混合物にすることが記載されている。実施例6は、銅含有率及びアルミニウム含有率28.5%もしくは24.5%を有する触媒の存在で、220℃/60barでMSAを水素化することが具体的に説明している。実施例5の結果の欠点は、THF及びGBLの他に、なお少量であるが、無視できない量のブタンジオールが生じ、このブタンジオールは有用な生成物THF及びGBLから更に分離しかつ後処理しなければならないことである。
JP-B 2.639.463は、銅、酸化亜鉛及び酸化アルミニウムを含有する触媒の存在でのMSAの気相水素化の際に、同様にブタンジオール及びTHFからなる混合物が得られることが示されている。この場合にも、実施例1〜6及び10ではMSA及びGBLからなる混合物を装入物として使用している。実施例8は、MSAをジオキサンと一緒に210℃/15barで、銅16%、亜鉛35%及びアルミニウム9.6%を含有する触媒の存在で、収率94.1%でテトラヒドロフランに水素化することが記載されている。ブタンジオール及びGBLは見出されていなかった。それに対して、実施例9の場合には、MSAから出発し、220℃/60barで、銅18.3%、亜鉛36%及びアルミニウム8.6%を含有する触媒の存在で、ブタンジオール15.3%及びTHF83.4%の水素化収率が達成された。この記載は、JP2.639.463による方法が、GBL及びTHFの製造のために適していないことを示している。
WO 97/24.346は、銅、酸化アルミニウム及び結合剤を含有する触媒の存在でのMSAのGBLへの気相水素化を記載している。THFは観察されていない。酸化銅84.6%、酸化アルミニウム9.9%及び結合剤としての黒鉛5.5%を含有する触媒の存在で、275℃でかつ常圧で、98.2%のGBL収率が達成される。1600時間の試験期間にわたりGBL収率は92〜93%であった。この出願は、更に、酸化クロムを含有する銅触媒が低いGBL収率もしくは悪い触媒耐用時間を提供することが示されている。更に、工業的な問題の原因となる、かなりの量のコハク酸無水物が生じる。
WO 97/24.346の実施例2により得られた水素化流出液は、後処理を実施しない実施例5によるとメチルアミンと反応させてN−メチルピロリドンにしている。このために、水を含有する水素化流出液が290℃でメチルアミンと一緒に加熱される。このガスクロマトグラフィーにより測定されたN−メチルピロリドン収率は99.1%である。得られた反応流出液から、NMPを蒸留により水、n−ブタノール及び場合により他の副生成物と除去しなければならない。
水素化流出液をメチルアミンと直接反応させることは、GBL及びTHFを製造する方法にとっては不利である。この反応は、生成したTHFを窒素含有副生成物により汚染させてしまいかねない。繊維品質を有するTHFの純度に関して、高い純度の要求が課せられる、それというのも、THFの大部分はスパンデックス(Spandex)繊維の前駆体のポリテトラヒドロフラン(ポリTHF)に更に加工されるためである。GBLとアンモニア及びアミンとの反応によりピロリドンにすることは、それ自体公知であり、かつUllmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 第5改訂版、A22巻、457〜459頁に記載されている。
本発明の課題は、純粋なTHF及びピロリドンを同時に経済的に製造することができる方法を提供することにある。このために、まず最初に、所望の生成物比の及びTHF及びGBLの高い総収率のTHFとGBLとの混合物を、C−ジカルボン酸及び/又はその誘導体の適当な触媒の存在での水素化により製造できる必要がある。THFとGBLとからなるこの混合物は、GBL 5〜95Mol%及びTHF 95〜5Mol%、有利にGBL 40〜90Mol%及びTHF 60〜10Mol%、特に有利にGBL 65〜90Mol%及びTHF35〜10Mol%を含有する。更に、この触媒は、費用をかけて予備精製されていないMSAで運転することができ、それにもかかわらず長い耐用時間を有し、同様に頻繁に再生する必要がないのが好ましい。THFとGBLとからなる得られた混合物は、純粋なTHF及びピロリドンの製造を可能にするために、本発明による方法によって有効にかつ経済的に分離できるのが好ましい。
前記の課題は、気相中で銅含有触媒の存在でC4−ジカルボン酸及び/又はその誘導体を接触水素化させかつGBLをアンモニア又は第1級アミンと反応させてピロリドンにすることにより、場合によりアルキル置換されたTHF及びピロリドンを同時に製造する方法において、
a) C4−ジカルボン酸及び/又はその誘導体を、気相中で、200〜300℃で、0.1〜100barで、0.01〜1kg出発材料/l触媒*時間の触媒負荷で、かつ20〜800の出発材料/水素モル比で、銅、アルミニウム及び/又は亜鉛を含有する触媒の存在で、THFとGBLとからなる混合物に水素化し、
b) 得られた水素化流出液を蒸留により、塔頂生成物としてのTHF/水−混合物と、GBLを含有する塔底生成物とに分離し、
c) このTHF/水−混合物を3つの塔からなる蒸留装置中で分離し、前記の蒸留装置中で水を第1の塔の塔底から取り出し、水含有THFを第2の塔から第1の塔へ返送し、第1の塔の測流を第2の塔へ導入し、第3の塔の塔底生成物を第1の塔へ返送し、第1の塔の塔頂で留出物を取り出し、その際、第2の塔の側面排出を第3の塔へ導入し、純粋なTHFを第3の塔の塔頂生成物として得て、
d) 工程b)からのGBL含有の塔底生成物から蒸留によりGBLを得て、かつ
e) こうして得られたGBLをアンモニア又はアミンと反応させて相応するピロリドンにすることを特徴とする方法により解決される。
−ジカルボン酸及びその誘導体の概念は、本願明細書の関連で、場合により1つ又は複数のC〜C−アルキル置換基を有するマレイン酸及びコハク酸並びにこの場合によりアルキル置換された酸のエステル及び無水物であると解釈される。このような酸の例はシトラコン酸である。所定の酸のそれぞれの無水物が有利に使用される。マレイン酸及び/又はその誘導体が有利である。特に使用される出発材料は無水マレイン酸(MSA)である。本発明による方法の場合に、有利に、ベンゼン、C−オレフィン又はn−ブタンの酸化により製造され、酸化により得られた粗製−MSAを溶剤でこの粗製生成物混合物から抽出し、引き続きこの溶剤から水素を用いてストリッピングしたMSAが使用される。
本発明による方法は、低コストに運転することができ、95%及びそれ以上の高いTHF+GBL総収率が達成され、かつ簡単な後処理により規格にあったTHFが得られ、かつGBLとアンモニア又はアミンとの反応により規格にあったピロリドンが得られることを特徴とする。THFとピロリドンとを同時に製造することにより、大きく従って特に経済的な製造装置("economy of scale")の構築が可能である。
この方法はバッチ式又は連続式で、有利に連続式で実施することができる。
−ジカルボン酸及びその誘導体のこの水素化は、本発明の場合には、C−ジカルボン酸及び/又はその誘導体に関して、5〜95Mol%、有利に40〜90Mol%、特に有利に65〜90Mol%のGBL含有率を有する、THFとGBLとからなる混合物が得られるように実施される。100%にまで不足する値は、それぞれのTHF含有率である。
本発明による方法の工程a)の重要な構成は、触媒活性主成分として酸化銅を有する触媒の選択である。この主成分は、適当な数の酸性中心を有しなければならない酸化物担体上に塗布される。必要な量の酸化物担体は、その中に含まれる酸性中心の量に依存する。十分な数の酸性中心を有する適当な担体材料は、酸化アルミニウムであり、この使用は本発明の実施態様の場合に有利である。本発明による他の実施態様の場合には、酸性の担体材料として、重量比において20:1〜1:20、有利に5:1〜1:5の酸化アルミニウムと酸化亜鉛との組み合わせが有利である。このような酸性中心を大量に有する材料に対して、このような材料からなる担体の量の下限は20質量%である。酸化銅の量は<80質量%の値である。有利な触媒組成物は、酸化銅<70質量%及び担体>30質量%を有し、特に有利な触媒は、酸化銅10〜65質量%及び担体35〜90質量%を有する。
低い酸化銅−含有量は、これにより達成されるコストの利点に基づいても有利である。酸性の担体材料により高い収率が達成される。本発明により使用された触媒は、クロムを含有することができるが、しかしながらクロム不含であるのが有利である。
使用した触媒は、更に助剤を0〜10質量%含有することができる。助剤とは、触媒の製造の間の改善された加工性及び/又は触媒成形体の機械的強度の向上に寄与する有機及び無機の物質であると解釈される。この種の助剤は、当業者には公知であり、例えば黒鉛、ステアリン酸、シリカゲル及び銅粉末である。
この触媒は、当業者に公知の方法により製造される。酸化銅が微細に分散しかつ他の成分と十分に混合されて生じる方法が有利であり、特に沈殿反応が有利である。この場合に、溶剤中に溶解した前駆化合物は、他の可溶性の又は溶剤中に懸濁した金属化合物の存在で沈殿剤を用いて沈殿され、濾別され、洗浄され、乾燥され、及び場合によりか焼される。
この出発材料は、公知の方法、例えば押出成形、打錠成形又は凝集法により、場合により助剤を添加しながら、成形体に加工される。
他に、本発明による触媒は例えば、含浸又は蒸着により活性成分を担体に塗布することによっても製造できる。更に、本発明による触媒は、活性成分又はその前駆化合物と担体成分又はその前駆化合物との異種混合物の成形により得ることもできる。
MSAの他に、他の前記に定義されたC−ジカルボン酸又はその誘導体を出発物質として使用することができる本発明による水素化の場合に、この触媒は還元された活性の形で使用される。この活性化は、還元性ガス、有利に水素又は水素/不活性ガス−混合物を用いて、本発明による方法が実施される反応器内へ導入する前に又は導入した後に行う。この触媒を酸化物の形で反応器内へ導入した場合に、この活性化は本発明による水素化を行う装置の運転の前でも、運転の間でも、つまりin situで実施することができる。装置を始動する前のこの別個の活性化は、一般に還元性のガス、有利に水素又は水素/不活性ガス−混合物を用いて、高温で、有利に100〜300℃で行う。いわゆるin situ活性化の場合には、この活性化は装置の始動時に高温で水素と接触させることにより行われる。
この触媒は、成形体として使用される。例えば、ストランド、リブ付きストランド、他の押出成形品、タブレット、リング、球及び砕片である。
この銅触媒のBET表面積は、酸化物の状態で10〜400m/g、有利に15〜200m/g、特に20〜150m/gである。この還元された触媒の銅表面積(NO−分解)は、使用状態で>0.2m/g、有利に>1m/g、特に>2m/gである。
本発明の実施態様の場合には、定義された多孔率を有する触媒が使用される。この触媒は、成形体として、>50nmの細孔径について≧0.01ml/gの細孔容量、>100nmの細孔径について≧0.025ml/gの細孔容量、>200nmの細孔径について≧0.05ml/gの細孔容量を示す。更に、>50nmの直径を有するマクロ孔の割合は、>4nmの直径を有する孔の全細孔容量に対して、>10%、有利に>20%、特に>30%の値にある。しばしば、この触媒の使用により高いTHF+GBL収率が達成される。前記の多孔率は、DIN 66133による水銀侵入法により決定することができた。このデータは4nm〜300μmの細孔径測定領域で評価された。
本発明により使用される触媒は、一般に十分な耐用時間を有する。この触媒の活性及び/又は選択性が、しかしながら稼働時間の経過において低下する場合には、この触媒は当業者に公知の方法により再生することができる。これには、有利に触媒の水素流中で高めた温度での還元処理が挙げられる。場合により、この還元処理の前に酸化処理を先行することができる。この場合に、この触媒バルクに分子状酸素を含むガス混合物、例えば空気を高温で貫流させる。更に、この触媒を適当な溶剤、例えばエタノール、THF又はGBLで洗浄し、引き続きガス流中で乾燥させることもできる。
本発明によるTHF+GBL収率を達成するために、更に所定の反応パラメータの維持が必要である。
重要なパラメータは、適当な反応温度の維持である。これは、一方で出発物質の十分に高い投入温度により達成される。これは、>200〜300℃、有利に235〜280℃の値である。許容可能なもしくは高いTHF+GBL−選択性及び−収率を維持するために、この反応は、本来の反応が行われる触媒層で適当な高い反応温度が生じるように実施される。
この水素/出発材料−モル比も、同様に生成物分布及び本発明による方法の経済性に重要な影響を及ぼすパラメータである。経済的な理由から、低い水素/出発物質−比が望ましい。この下限は、約5の値であるが、その際に、しかしながら、20〜800の一般により高い水素/出発物質−モル比が適用される。
本発明により使用される水素/出発物質−モル比を調節するために、水素の一部、有利に主要量を循環させる。このために、一般に当業者に公知の循環ガス圧縮機が使用される。水素化により化学的に消費された水素量は補充される。有利な実施態様の場合には、循環ガスの一部は取り出され、不活性化合物、例えばn−ブタンが除去される。循環された水素は、場合により予備加熱の後で、出発物質流の蒸発のために利用することもできる。
反応ガスの体積流(一般にはGHSV(Gas Hourly Space Velocity)として表される)は、本発明による方法の重大なパラメータである。本発明による方法のこのGHSV値は、100〜10000Nm/mh、有利に1000〜3000Nm/mh、特に1100〜2500Nm/mhの値である。
本発明による水素化を実施する圧力は、0.1〜100bar、有利に2〜30bar、特に3〜20barの値である。
水素−循環ガスと一緒に、全ての生成物が循環され、この生成物は水素化反応器から排出されるガス流の冷却時には凝縮されないか又は完全には凝縮されない。この生成物は特にTHF、水及び副生成物、例えばメタン及びブタンである。この冷却温度は0〜60℃、有利に20〜45℃である。循環ガスのTHF含有量は、0.1〜5体積%、特に1〜3体積%である。
MSAをTHFに水素化する場合に、順番に中間生成物のコハク酸無水物(BSA)及びGBLが流出する。本発明による方法は、MSA及び誘導体を、THF5〜95Mol%及び相応するGBL95〜5Mol%(MSAに対して)を含有する反応混合物に水素化することができる。このGBL/THF−比は、特に水素化触媒の選択、触媒負荷、水素化温度、反応圧力及び出発物質/水素−モル比により影響される。GBL/THF−混合物のTHF−含有量は、酸性触媒中心の数が増大すると共に、触媒負荷が減少すると共に、温度が上昇すると共に及び反応圧力が上昇すると共に増加する。わずかな数の予備試験により、それぞれ所望のGBL/THF−モル比に対する反応条件を調節することができる。
文献からは、THF及びGBLが、銅触媒の存在で、水素で水素化されてn−ブタノールになることは公知である。この場合、本発明による方法は、循環ガスにおいて、一般にn−ブタノールへと簡単に水素化されるTHF−割合が高いにもかかわらず、90%を上回る、部分的には95%をも上回るTHF+GBL−収率が達成されることを特徴とする。この反応器タイプとして、ガス状の出発物質フロー及び生成物フローとの不均一触媒反応のために適した全ての装置を挙げることができる。管状反応器、シャフト型反応器又は内部排熱装置を備えた反応器、例えば管束型反応器が有利であり、流動層の使用も可能である。管束型反応器を使用するのが特に有利である。複数の反応器を並列に又は直列に接続して使用することもできる。原則として、触媒層の間に中間供給を行うことができる。触媒層の間又は触媒層中での中間冷却も可能である。固定層触媒を使用する場合には、不活性材料による触媒の希釈が可能である。
反応器から流出するガス流は10〜60℃に冷却される。この場合に、この反応生成物は凝縮され、分離器に送られる。凝縮されないガス流は凝縮器から取り出され、循環ガス濃縮器に供給される。わずかな循環ガス量は排出される。凝縮された反応生成物は、この系から連続的に取り出され、後処理に供給される。副生成物として、凝縮された液相中に主要な水及びn−ブタノールが、少量のプロパノール、メタノール、エタノール、n−ブチルアルデヒド、ブチルメチルエーテル及び他の酸素含有化合物の他に見られる。
本発明による方法は、多様な純度の水素化すべき出発物質を水素化反応において使用することができることを特徴とする。もちろん、高い純度の出発物質、特にMSAを水素化において使用することができる。本発明により使用された触媒並びにその他の本発明により選択された反応条件は、ベンゼン、ブテン又はn−ブタンの酸化の際に生じる通常の化合物並びに場合による他の成分で汚染されている出発物質、特にMSAの使用も可能である。従って、本発明による水素化方法は他の実施態様において、適当な炭化水素の部分酸化による水素化すべき出発物質の製造並びにこうして得られた生成物フローからのこの水素化すべき出発物質の分離を有する前工程を有することができる。
特に、この水素化すべき出発物質はMSAである。この場合に、有利に炭化水素の部分酸化から由来するMSAが使用される。適当な炭化水素フローは、ベンゼン、C−オレフィン(例えば、n−ブテン、C−ラフィネートフロー)又はn−ブタンである。n−ブタンはコストの低い、経済的な装入物質であるため、n−ブタンを使用するのが特に有利である。n−ブタンの部分酸化方法は、例えばUllmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, 6thEdition, Electronic Release, Maleic及びFumaric Acids - Maleic Anhydrideに記載されている。
こうして得られた反応流出物を、次いで、大気圧でMSAよりも少なくとも30℃高い沸点を有する適当な有機溶剤又は有機溶剤混合物中に収容する。
この溶剤(吸収剤)を、20〜160℃、有利に30〜80℃の範囲内の温度にもたらす。部分酸化からの無水マレイン酸を含有するガスフローを、多様な手段で溶剤と接触させることができる:(i)溶剤中へガスフローを導通(例えばガス導入ノズル又は通気リングを介して)、(ii)ガスフロー内への溶剤の吹き付け及び(iii)下から上へ流動するガスフロート上から下へ流動する溶剤との間の段塔又は充填塔中での向流接触。全ての3つの方法は、当業者に公知の、ガス吸収のための装置を使用することができる。使用すべき溶剤の選択の際に、この溶剤は出発物質と、例えば有利に使用されるMSAと反応しないように留意すべきである。適当な溶剤は:トリクレシルホスフェート、ジブチルマレエート、高分子量のワックス、150〜400の間の分子量及び140℃を上回る沸点を有する芳香族炭化水素、例えばジベンジルベンゼン;C〜C−アルキル基を有するジアルキルフタレート、例えばジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−n−プロピル−及びジ−イソ−プロピル−フタレート;他の芳香族、脂肪族及び環式脂肪族ジカルボン酸のジ−C〜C−アルキルエステル、例えばジメチル−2,3−ナフタレン−ジカルボン酸、ジメチル−1,4−シクロヘキサン−ジカルボン酸、例えば14〜30個の炭素原子を有する長鎖脂肪酸のメチルエステル、高沸点エーテル、例えばポリエチレングリコールのジメチルエーテル、例えばテトラエチレングリコールジメチルエーテルである。
吸収剤で処理した後に得られた溶液は、一般に1リットル当たり約5〜400グラムのMSA含有量を有する。
吸収剤で処理した後に残留する排ガスフローは、主に先行する部分酸化の副生成物、例えば水、一酸化炭素、二酸化炭素、未反応のブタン、酢酸及びアクリル酸を含有する。この排ガスフローは、実際にMSA不含である。
引き続き、溶解したMSAをこの吸収剤からストリッピングする。ストリッピング塔中では、それぞれの塔の圧力で、かつキャリアガスでの調節された希釈の場合に、塔頂でのMSA及び塔底でのほぼMSA不含の吸収剤の沸点から生じる温度プロフィールが観察される。
溶剤の損失を避けるために、粗製−MSA−フローの供給の上方に、精留構造部が存在してもよい。塔底から取り出され、ほとんどMSA不含の吸収剤は、再び吸収区域に返送される。水素を用いた直接ストリッピングの場合には、水素中のMSAのほとんど飽和したガスフローが塔頂から取り出される。他の場合には、凝縮したMSAは蒸発器中へ圧送され、そこで循環ガスフロー中へ蒸発させる。
このMSA−水素−フローは、なおn−ブタン、ブテン又はベンゼンを酸素含有ガスで部分酸化させる際に生じる副生成物並びに未分離の吸収剤を含有している。これは特に副生成物として酢酸及びアクリル酸、水、マレイン酸並びに吸収剤として使用した化合物である。このMSAは、MSAに対して、酢酸を0.01〜1質量%、有利に0.1〜0.8質量%、アクリル酸を0.01〜1質量%、有利に0.1〜0.8質量%含有する。水素化工程において、酢酸及びアクリル酸は完全に又は部分的にエタノールもしくはプロパノールに水素化される。このマレイン酸−含有率は、MSAに対して、0.01〜1質量%、特に0.05〜0.3質量%である。
ジアルキルフタレートを吸収剤として使用する場合には、MSA中のこの含有量はストリッピング塔、特に濃縮部の正確な運転に著しく依存する。10質量%、特に0.5質量%までのフタレート含有量は、適当な運転法の場合には上回るべきではない、そうではないと吸収剤の消耗が高くなりすぎるためである。
こうして得られた水素/マレイン酸無水物−フローは、水素化区域に供給され、前記のように水素化される。触媒活性及び触媒耐用時間は、この場合に、例えば蒸留により著しく予備精製されたMSAの使用と比較して、実際に変化がない。本発明による方法は、約90%、望ましい場合に95%の値のTHF+GBL−収率を可能にする。この場合に、高い生成物選択性も達成される。
凝縮された水素化流出物は、工程b)において蒸留により、塔頂液としてのTHF/水−混合物と、GBLを含有する塔底生成物とに分離される。この場合に、1つの蒸留塔中では1.3 absolutの圧力で、70〜80℃の塔頂温度及び200〜220℃の塔底温度が設定される。
純粋なTHFを3つの塔中での蒸留により得ることは、DE 3.726.805から公知である。最初の2つの塔中では、2種の圧力での蒸留により、THF/水−共沸物が破壊され、第3の塔中でTHF−精留が行われる。第1の塔のこの塔底生成物は、THFと比べて高沸点の他の副生成物の他に、全残留GBLを含有する。含水のTHF−粗製生成物、特にMSAの気相水素化のTHF−水−共沸物は、しかしながらDE37 26805から公知の方法では、特にTHFの、例えばPTHFへの継続加工の際に設定される純度要求を満たすために十分に精製できない。
本出願人の並行するドイツ出願(発明の名称"THFの蒸留による精製方法(Verfahren zur destillativen Reinigung von THF)")の対象の新規の方法に従って、粗製の含水のTHF−水−共沸物の蒸留による精製を、本発明による方法の工程c)において、図から明らかにされているように3つの直列接続された蒸留塔中で実施する。この場合に、この塔は通常のように運転される、つまり、第1の塔(1)は1.3barの圧力で、少なくとも10、有利に30〜70、特に有利に45〜55段の理論段で、側面排出(6)に関して0.5〜5の還流比であり、第2の塔(2)は少なくとも10、有利に30〜70、特に有利に55〜45段の理論段で、5〜10bar、有利に7〜9bar、特に有利に8barの圧力であり、第3の塔(3)は少なくとも10段の理論段、有利に30〜70の理論段、特に有利に45〜55の理論段で、0.9〜2bar、有利に1〜1.5bar、特に有利に1.3barの圧力で、約3.8の還流比である。
3つの塔(1)、(2)及び(3)のそれぞれは、少なくとも1つの理論段を有し、この理論段は、生じる蒸気流及び段の液状の還流が向流の原則で相互に接して通過することを特徴とする。塔(1)、(2)及び(3)の内部構造は、充填体、織物充填物又は板状充填物又は棚段、例えばバルブトレー、トンネルトレー又はシーブトレーである。理論段に対する定義は、例えばE.-U. Schlunder, F. Thurner, Destillation, Absorption, Extraktion, Thieme Verlag 1986, 第66頁及び第131 - 132頁に記載されている。
MSAの気相水素化によるa)の後に引き続きb)によるGBLの分離により得られた、工程b)からの粗製のTHF/水−混合物は、一般に、主成分として変化する量のTHF、n−ブタノール(n−BuOH)10〜20質量%、メタノール(MeOH)、エタノール(EtOH)及びプロパノール(ProOH)0.1〜1質量%、ガンマ−ブチロラクトン(GBL)100〜500ppm、ブチルアルデヒド(BA)及びブチルメチルエーテル(BME)約100ppm、<200ppmの濃度の他の酸素官能化CH化合物、並びに水からなる。
これは、導管(4)を介して側面で第1の塔内へ導入される。この導管(4)は、有利にこの塔の、塔底の上方の下側半分に存在する。本発明の場合には、この供給は第1〜第30の理論段、有利に第1〜第20の理論段、特に有利に第1〜第10の理論段にあるのが好ましいことが認識された。この塔の塔底からは水及びTHFよりも高い沸点を有する高沸点成分、例えばGBL、エタノール、プロパノール、ブタノールが水と一緒に排出される(5)。THFよりも高い沸点を有する低沸点成分、例えばメタノールは、導管(12)を介してTHFと共に塔頂から取り出され、部分的に熱交換器によって凝縮され、還流(13)として塔(1)に返送される。この塔(1)は、導管(4)の上方に取り付けられた側面排出(6)を有し、この側面排出(6)を通して有利に液状の、しかしながらガス状の又は液状/ガス混合物の形で存在することもできるTHF/水−混合物が取り出され、ポンプにより圧力上昇させながら側面で中圧塔(2)へ導入される。
この側面排出(6)は塔(1)の第20〜第70の理論段、有利に第30〜第55の理論段、特に有利に第30〜第40の理論段に配置されている。
この側面排出(6)中では、THF対水は13:1〜25:1の重量比、有利に15:1〜22:1の比にある。
側面排出混合物(6)の供給は、中圧塔(2)の上部で、第30〜70の理論段、有利に第40〜第60の理論段、特に有利に第50〜第60の理論段に行われる。THF/水混合物の共沸点を移動させながら、中圧塔(2)中でこの混合物を改めて分離する。この中圧塔の塔頂から、水富有のTHFは熱交換器で凝縮され、側面排出(6)と塔底との間で第1の塔に返送させる(7)。この中圧塔(2)の塔底生成物は主に水不含でありかつTHF及び高沸点物、例えばブチルアルデヒド、ブチルメチルエーテル及び他の高沸点の酸素官能化CH化合物からなり、この塔底生成物は導管(8)を介して返送され、粗製の含水THFと混合され、新たに塔(1)に導管(4)を介して供給物として送られる。
中圧塔(2)の回収部では、THFは99質量%を上回るまで濃縮される。水蒸気成分を塔(3)中へ連行させないために、THF富有の高いフローは、有利に液状の形で(しかしながらこのフローはガス状又は液体/ガス混合物としても存在することができる)、塔底の蒸気相と理論段数の半分との間で、中圧塔(2)の塔底のすぐ上の液状の側面排出(9)で取り出される。
この塔(2)から取り出された側面排出(9)は、THF50〜100質量%、有利にTHF80〜100質量%、特に有利に95〜100質量%を含有する。
この側面排出(9)は塔(3)の塔底の上方に供給される。この供給箇所は、第1〜第30の理論段、有利に第1〜第15の理論段、特に有利に第5〜第10の理論段にある。純粋なTHFはこの塔の塔頂(10)で液状又はガス状の形で又は液体/ガス混合物として、有利に液状で取り出され、液状の塔底生成物(11)はポンプを介して塔(1)中へ返送される。得られた純粋なTHFは、特にポリTHF及びスパンデックス繊維への継続加工のために適している。
工程b)で塔底生成物として生じたGBL含有生成物は、水、n−ブタノール及びGBLの混合物として生じ、かつ公知のように触媒の存在又は不在で直接、つまり更に後処理することなしに、アンモニア又はアミンと反応させてピロリドンにし、このピロリドンは再び蒸留により精製することができる。しかしながら、GBL含有塔底生成物を、まず蒸留により精製するのが有利である。GBLとアンモニア又はアミンとの反応は、例えばWO97/24346又はDE1795007又はドイツ国出願DE10156885.1に記載された方法により行うことができる。
本発明による方法を次の実施例で詳細に説明する。
実施例
a) 触媒製造(触媒C)
加熱可能でかつ攪拌機を備えた沈殿容器中に水1.5リットルを装入し、80℃に加熱した。この沈殿容器中で、1時間の経過で、Cu(NO・2.5HO 731g及びAl(NO・9HO 1840gからなる水2000ml中の金属塩溶液を、同時にソーダ溶液20質量%と撹拌しながら、沈殿容器中でpH値8に達するまで添加し、更に15分間このpH値で撹拌した。ソーダ溶液の全消費量は5.6kgであった。生成された懸濁物を濾別し、流出する洗浄水がもはや硝酸塩(<25ppm)を含有しなくなるまで水で洗浄した。この濾過ケークをまず120℃で乾燥し、引き続き600℃でか焼した。こうして製造された触媒は、CuO 50質量%及びAl 50質量%を含有していた。この触媒粉末400gを、<1mmの粒径に粉砕し、黒鉛粉末12gを添加し、十分に混合し、かつ直径3mm及び高さ3mmのタブレットにプレス成形した。
この触媒A及びBを同様に硝酸亜鉛を使用して製造した。
触媒A: CuO 70質量%、ZnO 25質量%、Al 5質量%
触媒B: CuO 40質量%、ZnO 40質量%、Al 20質量%。
b) 触媒A〜Cの活性化
反応を開始する前に、この触媒を水素化装置内で水素処理した。
水素化装置の水素化反応は、異なる量の触媒を充填し、N 500NL/hを常圧で導通させた。引き続き、この触媒層を表1に記載した温度に加熱し、水素及び窒素の混合物で異なる時間処理した。この順序、還元時間、温度及び混合比は次の表1から推知することができる。
Figure 0004431397
c) 水素化装置
水素化のために使用した加圧装置は、蒸発器、反応器、急冷供給装置を備えた冷却器、水素供給装置、排ガス導管及び循環ガス送風機からなる。装置中の圧力は一定に保持される。
溶融したMSAを、並流で水素と一緒に予熱された(245℃)蒸発器中へ圧送し、蒸発させた。この蒸発器には、同様に上方から新たな水素及び循環ガスからなる混合物が達する。水素及びMSAは下方から熱処理した反応器に達する。この反応器内容物は、ガラスリング及び触媒からなる混合物からなる。水素化の後に、生じた反応生成物を水素と一緒に反応器から排出し、冷却器中で沈殿させた。循環ガスの一部を排出し、その後にこの残りを新規の水素と混合し、再び蒸発器中に導入した。
凝縮された液状の反応流出物、排ガス及び循環ガスをガスクロマトグラフィーにより定量分析した。
d) n−ブタンから製造された無水マレイン酸の水素化
実施例1
1cに記載された水素化装置の反応器に、触媒Cと同様に製造された触媒A220ml及びラッシッヒリング126mlを充填した。この活性化を1bに記載したと同様に行った。
出発物質として、n−ブタンから製造された無水マレイン酸を使用し、この無水マレイン酸はアクリル酸500ppm、酢酸1500ppm及びジブチルフタレート100ppmを含有していた。この反応を1000h実施した。この場合に、全時間にわたり、触媒の失活、つまり無水マレイン酸−転化率の低下及び/又はGBL−収率及びテトラヒドロフラン−収率の低下は観察されなかった。表2中では、この水素化の反応パラメータ及びこの結果をまとめた。
実施例2a)及び2b)
触媒Cと同様に製造した触媒B(これは酸化銅40%、酸化亜鉛40%及び酸化アルミニウム20%からなる)を、上記の水素化装置中に装填し、1bに記載したと同様に水素で前処理した。この反応器の充填物は、触媒B220ml及びラッシッヒリング126mlからなっていた。出発物質として、n−ブタンから製造された純粋な無水マレイン酸を使用した。この反応パラメータ及び結果を表2に記載した。
実施例3
1cに記載した水素化装置の反応器に、触媒C 80mlとラッシッヒリング80mlとからなる混合物を充填した。残りの容量はラッシッヒリングで充填した。この活性化を1bに記載したと同様に行った。出発物質として、n−ブタンから製造された無水マレイン酸を使用し、この無水マレイン酸はアクリル酸1000ppm、酢酸1500ppm及びジブチルフタレート100ppmを含有していた。この反応を1000h実施した。この場合に、全時間にわたり、触媒の失活、つまり無水マレイン酸−転化率の低下及び/又はGBL−収率及びテトラヒドロフラン−収率の低下は観察されなかった。表2中では、この水素化の反応パラメータ及びこの結果をまとめた。
Figure 0004431397
実施例4
a) THF及びGBLの分離
表2に記載した組成を有する実施例2a)による水素化流出物を、本発明によるTHF/水−混合物とGBLとの分離のために、15の理論段を備えた塔中で、1.3bar,absolutで214℃の塔底温度及び76℃の塔頂温度で蒸留した。水素化流出物からなる供給フローを、この場合に、塔底生成物:塔頂生成物の質量比70:30に分離した。
b) THFの精製
図により示された蒸留装置を使用した。この蒸留装置は3つの塔(1)、(2)及び(3)からなり、この中で塔(1)は45の理論段、塔(3)は45の理論段を有し、1.3bar,absolutで運転した。8barの高めた圧力で運転される塔(2)は、43の理論段を有する。
塔(1)中へは、導管(4)を介してTHF/GBL−塔の塔頂生成物の、THF 77.2質量%、n−BuOH 18.4質量%、MeOH 0.3質量%、EtOH 0.5質量%、PrOH 0.5質量%、GBL 134ppm、BA 110ppm及びBME 90ppmを有する含水のTHF混合物を供給した。この塔頂生成物の残りは、他のO官能化CH化合物及び大部分の水である。
同時に、塔(1)には導管(8)を介して塔(2)の塔底流出物を、導管(11)を介して塔(3)の塔底流出物を供給した。この塔(1)を側面排出(6)、塔頂排出(12)及び塔底排出(5)で運転した。側面排出に関する還流比は1.1である。塔底排出(5)から水及び低沸点物が排出される。この塔(1)は、側面排出(6)として4.2質量%の含水量及び83質量%のTHF濃度を有する含水のTHFを取り出した。塔頂排出(12)として、供給物の0.05質量%をいくらか上回る取り出しを行った。この塔頂排出は、THF濃度66%及びメタノール含有量30質量%を有する。第1の塔の側面排出(6)は、圧力上昇させながら、8barで稼働する第2の塔(2)に供給された。実際に全ての水と大部分の狭い沸点成分とを含有する第2の塔の塔頂排出(7)を、第1の塔(1)に返送した。著しくTHF濃度が高められたフローを、液体で側面排出(8)として塔底のすぐ上で取り出し、かつ塔(3)に再び導入した。実際に水不含である塔(2)の塔底排出を、導管(8)を介して返送した。第3の塔(3)の塔頂(10)を介して、最も純粋なTHFが取り出され、塔底生成物は塔(1)中へポンプを介して返送される。
こうして製造されたTHFの純度は、99.97質量%であった。副生成物のn−ブチルアルデヒド及びn−ブチルメチルエーテルの量は、それぞれ0.001質量%であった。
実施例5
実施例4.1で得られた粗製−GBLは、WO97/24.346の実施例5により、更に精製せずに290℃でメチルアミンと反応させた。ガスクロマトグラフィーにより測定されたN−メチルピロリドン−収率は98.5%(使用したGBLに対して)であった。
3つの直列接続された蒸留塔を備えた蒸留装置の略図。

Claims (4)

  1. 気相中で銅含有触媒の存在でC4−ジカルボン酸及び/又はその誘導体を接触水素化させかつGBLをアンモニア又は第1級アミンと反応させてピロリドンにすることにより、アルキル置換されていてもよいTHF及びピロリドンを同時に製造する方法において、
    a) C4−ジカルボン酸及び/又はその誘導体を、気相中で、200〜300℃で、0.1〜100barで、0.01〜1kg出発材料/l触媒*時間の触媒負荷で、かつ20〜800の出発材料/水素−モル比で、酸化銅70質量%と、酸化アルミニウム又は酸化アルミニウム及び酸化亜鉛から選択される担体材料>30質量%とを含有する担体触媒の存在で、THFとGBLとからなる混合物に水素化し、
    b) 得られた水素化流出液を蒸留により、塔頂生成物としてのTHF/水−混合物と、GBLを含有する塔底生成物とに分離し、
    c) この工程b)からのTHF/水−混合物を3つの塔からなる蒸留装置中で分離し、前記の蒸留装置中で水を第1の塔の塔底から取り出し、水含有THFを第2の塔から第1の塔へ返送し、第1の塔の測流を第2の塔へ導入し、第3の塔の塔底生成物を第1の塔へ返送し、第1の塔の塔頂で留出物を取り出し、その際、第2の塔の側面排出を第3の塔へ導入し、純粋なTHFを第3の塔の塔頂生成物として得て、
    d) 工程b)からのGBL含有の塔底生成物から蒸留によりGBLを得て、かつ
    e) こうして得られたGBLをアンモニア又はアミンと反応させて相応するピロリドンにすることを特徴とする方法。
  2. 無水マレイン酸を出発物質としてこの反応中で使用することを特徴とする、請求項1記載の方法。
  3. 酸化物担体がAl23又は質量比20:1〜1:20のAl23/ZnOであることを特徴とする、請求項1又は2項記載の方法。
  4. 工程b)で得られたGBL含有塔底生成物を、触媒の存在又は不在でアンモニア又はアミンと直接反応させて相応するピロリドンにすることを特徴とする、請求項1からまでのいずれか1項記載の方法。
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