JPS6118791A - 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 - Google Patents
新規β−ラクタム化合物及びその製造法Info
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- JPS6118791A JPS6118791A JP59139797A JP13979784A JPS6118791A JP S6118791 A JPS6118791 A JP S6118791A JP 59139797 A JP59139797 A JP 59139797A JP 13979784 A JP13979784 A JP 13979784A JP S6118791 A JPS6118791 A JP S6118791A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は３−位に水酸基が保護されたヒドロキシエチル
基を有し、４−位にシリルエーテル基を有する新規なβ
−ラクタム化合物、及びその製造法に関する。
基を有し、４−位にシリルエーテル基を有する新規なβ
−ラクタム化合物、及びその製造法に関する。
本発明による新規なβ−ラクタム化合物は、４−位に反
応性に富むシリルエーテル基を有し、種々の誘導体に変
換できる有用な中間体である。たとえば、本発明化合物
の４−位のシリルエーテル基に、置換反応をおこなうこ
とによって、第４世代のβ−ラクタム抗生物質として知
られているチェナマイシン製造に有用な３−（１−ヒド
ロキシエチル）−４−アセトキシアセチンンー２−オン
や、８−（］−ヒドロキシエチル）−４−ハロアセチジ
ン−２−オンが取得できる。
応性に富むシリルエーテル基を有し、種々の誘導体に変
換できる有用な中間体である。たとえば、本発明化合物
の４−位のシリルエーテル基に、置換反応をおこなうこ
とによって、第４世代のβ−ラクタム抗生物質として知
られているチェナマイシン製造に有用な３−（１−ヒド
ロキシエチル）−４−アセトキシアセチンンー２−オン
や、８−（］−ヒドロキシエチル）−４−ハロアセチジ
ン−２−オンが取得できる。
（発明が解決しようとする問題点）
従来、４−位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム
化合物は知られていない。本発明者らは、検討を重ねた
結果、これらのβ−ラクタム化合物かカルバペネム系β
−ラクタム化合物合成の有用な中間体になりうろことを
見出して本発明に至つｔこ。まｔこ、これらの４−位に
シリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物の簡便な
合成法を見出し、本発明を完成した。以下に詳細説明す
る。
化合物は知られていない。本発明者らは、検討を重ねた
結果、これらのβ−ラクタム化合物かカルバペネム系β
−ラクタム化合物合成の有用な中間体になりうろことを
見出して本発明に至つｔこ。まｔこ、これらの４−位に
シリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物の簡便な
合成法を見出し、本発明を完成した。以下に詳細説明す
る。
（問題点を解決するための手段及び作用効果）（式中、
１（１は水酸基の保護基、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＣ１〜Ｃ
４の低級アルキル基、フェニル基またはアラルキル基を
示す）で表わされるβ−ラクタム化合物およびその製造
法に関する。前記一般式（１）中、Ｒ１は水酸基の保護
基であり、ｔｅｒｔ−プチルシメチルシＬル基、Ｉ−リ
イソプロピルシリル基、アセチル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基、Ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｔ−ブチル基
等があげられる。これらの中で、好適なのはｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリル基やトリイソプロピルシリル基で
代表されるトリアルキルシリル基である。これらのトリ
アルキルシリル基は、一般式（Ｉ）で示されるβ−ラク
タム化合物を合成する際、安定であり、目的のβ−ラク
タム化合物を取得後、比較的容易に脱保護できるためで
ある。前記一般式（１）中、Ｒ２，Ｒ３゜Ｒ４は具体的
には、メチル基、イソプロピル基。
１（１は水酸基の保護基、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＣ１〜Ｃ
４の低級アルキル基、フェニル基またはアラルキル基を
示す）で表わされるβ−ラクタム化合物およびその製造
法に関する。前記一般式（１）中、Ｒ１は水酸基の保護
基であり、ｔｅｒｔ−プチルシメチルシＬル基、Ｉ−リ
イソプロピルシリル基、アセチル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基、Ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｔ−ブチル基
等があげられる。これらの中で、好適なのはｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリル基やトリイソプロピルシリル基で
代表されるトリアルキルシリル基である。これらのトリ
アルキルシリル基は、一般式（Ｉ）で示されるβ−ラク
タム化合物を合成する際、安定であり、目的のβ−ラク
タム化合物を取得後、比較的容易に脱保護できるためで
ある。前記一般式（１）中、Ｒ２，Ｒ３゜Ｒ４は具体的
には、メチル基、イソプロピル基。
ｔｅｒｔ−ブチル基などのＣ１〜Ｃ４の低級アルキル基
や、フェニル基やベンジル基でアｌ）、 Ｒ２，Ｒａ、
Ｒ４は各々同一または、異なっていてもよい。これら
の中で、好ましいのはＲ２とＲ３とＲ４が同一であって
メチル基、Ｒ２とＲ８が各々メチル基でＲ４が１−ブチ
ル基、Ｒ２とＲ３が各々フェニル基でＲ４が１ ＝ブチ
ル基で表わされる基である。これらの置換基を使用する
際、目的とするβ−ラクタム化合物の３−位と４−位の
立体配置が望ましいトランス体になること、およびβ−
ラクタム環の３−位における立体配置が望ましい（２）
体になりやすいｔこめである。本発明化合物の一般式（
１）で表わされるβ−ラクタムの立体構造については、
３種の不斉炭素が存在し、８種の立体異性体の生成が可
能であるが、好適には３−■）、４−＠）の立体配置と
、〇−保護ヒドロキシエチル基における不斉炭素の配置
が■）の化合物が望ましい。本発明化合物の新規な４−
位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物の有
用性は、参考例１に示すように、既に有用中間体として
知られている３（２）−（１−ヒドロキシエチル）−４
（６）−アセトキシアセチジン−２−オン化合物に変換
できることから明らかである。
や、フェニル基やベンジル基でアｌ）、 Ｒ２，Ｒａ、
Ｒ４は各々同一または、異なっていてもよい。これら
の中で、好ましいのはＲ２とＲ３とＲ４が同一であって
メチル基、Ｒ２とＲ８が各々メチル基でＲ４が１−ブチ
ル基、Ｒ２とＲ３が各々フェニル基でＲ４が１ ＝ブチ
ル基で表わされる基である。これらの置換基を使用する
際、目的とするβ−ラクタム化合物の３−位と４−位の
立体配置が望ましいトランス体になること、およびβ−
ラクタム環の３−位における立体配置が望ましい（２）
体になりやすいｔこめである。本発明化合物の一般式（
１）で表わされるβ−ラクタムの立体構造については、
３種の不斉炭素が存在し、８種の立体異性体の生成が可
能であるが、好適には３−■）、４−＠）の立体配置と
、〇−保護ヒドロキシエチル基における不斉炭素の配置
が■）の化合物が望ましい。本発明化合物の新規な４−
位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物の有
用性は、参考例１に示すように、既に有用中間体として
知られている３（２）−（１−ヒドロキシエチル）−４
（６）−アセトキシアセチジン−２−オン化合物に変換
できることから明らかである。
次に本発明化合物の製造法を説明する。
従来迄、３−位に〇−保護ヒトロキシエエチ基を有し、
４−位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物
の合成については、知られていなかったが、本発明者ら
は、エノールシリルエーテルとクロロスルホニルイソシ
アネ−１・との反応で、−挙に目的とするβ−ラクタム
環が形成できることを見出し本発明を完成するに至った
。即ち、−几３ は水酸基の保護基、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＣ１〜Ｃ４の低
級アルキル基、フェニル基、またはアラルキル基を示す
。）で表わされるエノールシリルエーテル類をクロロス
ルホニルイソシアネートと反応させ、ついで還元するこ
とを特徴とする一般式（１）Ｒ８，Ｒ４は前記と同一）
で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法に関するもの
である。
４−位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物
の合成については、知られていなかったが、本発明者ら
は、エノールシリルエーテルとクロロスルホニルイソシ
アネ−１・との反応で、−挙に目的とするβ−ラクタム
環が形成できることを見出し本発明を完成するに至った
。即ち、−几３ は水酸基の保護基、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はＣ１〜Ｃ４の低
級アルキル基、フェニル基、またはアラルキル基を示す
。）で表わされるエノールシリルエーテル類をクロロス
ルホニルイソシアネートと反応させ、ついで還元するこ
とを特徴とする一般式（１）Ｒ８，Ｒ４は前記と同一）
で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法に関するもの
である。
本発明方法を反応式で示すと以下の通りである。
反応式１
本反応における原料のエノールシリルエーテル類として
は、例示すると８−ｔｅｒｔ−プチルシメチルシリロキ
シブテ−１−ニル１〜リメチルシリルエーテル、ａ−ｔ
ｅｒｔ−プチルジメチルシリロキシブテ−１−ニルジメ
チルイソブチルシリルエーテル。
は、例示すると８−ｔｅｒｔ−プチルシメチルシリロキ
シブテ−１−ニル１〜リメチルシリルエーテル、ａ−ｔ
ｅｒｔ−プチルジメチルシリロキシブテ−１−ニルジメ
チルイソブチルシリルエーテル。
３−ｔｅｒｔ−プチルシメチルシリロキシブテ−１−二
ルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、３−ｔ
ｅｒｔ−プチルシメチルシリロキシブテ−１−二ルーｔ
ｅｒｔ−ブチルメチルフェニルシリルエーテル。
ルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、３−ｔ
ｅｒｔ−プチルシメチルシリロキシブテ−１−二ルーｔ
ｅｒｔ−ブチルメチルフェニルシリルエーテル。
３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ−ブチ−１−
二ルーｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルエーテル。
二ルーｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルエーテル。
３−イソプロビルシリロキシブチ−１−二Ｊｖ ｌ〜リ
メチルシリルエーテル、３−イソブロビルシリロキシブ
テー１−ニル−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテ
ル、３−アセトキシブチ−１−ニルトリメチルシリルエ
ーテル、３−アセトキシブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルエーテル。
メチルシリルエーテル、３−イソブロビルシリロキシブ
テー１−ニル−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテ
ル、３−アセトキシブチ−１−ニルトリメチルシリルエ
ーテル、３−アセトキシブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルエーテル。
３−アセトキシブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジフ
ェニルシリルエーテル、３−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ブチ
−１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−ｔｅｒｔ−
ブトキシブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルエーテル、３−ｔｅｒｔ−ブトキシブチ−１−二ル
ーｔｅｒｔ −ブチルジフェニルシリルエーテル、３−
ヘンジルオキシカルポニルオキシブテ−１−ニルＩ・リ
メチルシリルエーテル、３−ペンシルオキシカルボニル
オキシブテ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルエーテル、３−ペンシルオキシカルホニルオキシブテ
−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジフェニルエーテル、３
−ｐ−二Ｉ−口ヘフリルオキシカルポニルオキシブテ−
１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−ｐ−二ｌ・ロ
ベフリルオキシカルポ゛ニルオキシブチ−１−二ルーｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、：ｌｐ−ニト
ロペンジルオキシカルボニルオキシブチ−１−二ルーｔ
ｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルエーテル。
ェニルシリルエーテル、３−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ブチ
−１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−ｔｅｒｔ−
ブトキシブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルエーテル、３−ｔｅｒｔ−ブトキシブチ−１−二ル
ーｔｅｒｔ −ブチルジフェニルシリルエーテル、３−
ヘンジルオキシカルポニルオキシブテ−１−ニルＩ・リ
メチルシリルエーテル、３−ペンシルオキシカルボニル
オキシブテ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルエーテル、３−ペンシルオキシカルホニルオキシブテ
−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジフェニルエーテル、３
−ｐ−二Ｉ−口ヘフリルオキシカルポニルオキシブテ−
１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−ｐ−二ｌ・ロ
ベフリルオキシカルポ゛ニルオキシブチ−１−二ルーｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、：ｌｐ−ニト
ロペンジルオキシカルボニルオキシブチ−１−二ルーｔ
ｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルエーテル。
８−ｏ−ニトロペンジルオキシカルボニルオキシブチ−
１−ニル１〜リメチルシリルエーテル、３−Ｏ−二トロ
ペンシルオキシカルボニルオキシブテ−１−二ルーｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、８−ｏ−ニトロ
ペンジルオキシカルボニルオキシブチ−１−二ルーｔｅ
ｒｔ−ブチルジフェニルシリルエーテル等が採用できる
が、好ましくはＲ１がｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
基である３−ｔｅｒｔ−プチルシメチルーシリロキシブ
テ−１−ニルトリメチルシリルエーテル、５−ｔｅｒｔ
−プチルジメチルシリロキシブテ−１−二ルーｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリルエーテル、８−ｔｅｒｔ−フチ
ルジメチルシリロキシブテ−１−ニルーｔｅｒｔ−ブチ
ルジフェニルシリルエーテル、３−ｔｅｒｔ−プチルシ
メチルシリロキシブテ−１−二ルーｔｅｒｔ−プチルメ
チルフェニルシリルエーテル、３−ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリロキシエチル−１−二ルジメチルイソブヂル
シリルエーテルが挙げられる。これらの原料は３−ヒド
ロキシ酪酸エステルから以下の反応式２に従って合成で
きる。
１−ニル１〜リメチルシリルエーテル、３−Ｏ−二トロ
ペンシルオキシカルボニルオキシブテ−１−二ルーｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、８−ｏ−ニトロ
ペンジルオキシカルボニルオキシブチ−１−二ルーｔｅ
ｒｔ−ブチルジフェニルシリルエーテル等が採用できる
が、好ましくはＲ１がｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
基である３−ｔｅｒｔ−プチルシメチルーシリロキシブ
テ−１−ニルトリメチルシリルエーテル、５−ｔｅｒｔ
−プチルジメチルシリロキシブテ−１−二ルーｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリルエーテル、８−ｔｅｒｔ−フチ
ルジメチルシリロキシブテ−１−ニルーｔｅｒｔ−ブチ
ルジフェニルシリルエーテル、３−ｔｅｒｔ−プチルシ
メチルシリロキシブテ−１−二ルーｔｅｒｔ−プチルメ
チルフェニルシリルエーテル、３−ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリロキシエチル−１−二ルジメチルイソブヂル
シリルエーテルが挙げられる。これらの原料は３−ヒド
ロキシ酪酸エステルから以下の反応式２に従って合成で
きる。
反応式２
本発明化合物のβ−ラクタム化合物（１）において、５
−（１［の〇−保護ヒトロキンエチル基の立体配置は、
（２）−配置が好ましく、そのためには光学活性の３＠
）−ヒドロキシ−酪酸エステルを用いて取得される光学
活性のエノールシリルエーテル化合物を用いて、反応式
１で示されるβ−ラクタノ・形成反応をおこなえばよい
。
−（１［の〇−保護ヒトロキンエチル基の立体配置は、
（２）−配置が好ましく、そのためには光学活性の３＠
）−ヒドロキシ−酪酸エステルを用いて取得される光学
活性のエノールシリルエーテル化合物を用いて、反応式
１で示されるβ−ラクタノ・形成反応をおこなえばよい
。
エノールシリルエーテル類とクロロヌルホニルイソシア
ネ−１−の反応によるβ−ラクタム環形成反応では、シ
リルエーテル基の種類によって、生成するβ−ラクタム
の立体配置が異なり、チェナマイシンに代表されるカル
バペネト系β−ラクタム抗生物質の合成における望まし
い３（Ｉ（１４重配置のβ−ラクタム化合物（１）を得
るには、シリルジエーテル基カトリメチルシリル基、
ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、ｔｅｒも一フチ
ルジメチルシリル基、 ｔｅｒｔ−ブチルメチルフェニ
ルシリル基、ジメチルイソブチルシリル基が適している
。また、エノールシリルエーテル類の水酸基の保護基で
あるＲについては、上記の立体化学を考慮した点と、ク
ロロスルホニルイソシアネートとの反応性の良ｊｌ！
カラ、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基が好適である
。エノールシリルエーテルとクロロスルホニルイソシア
ネ−１・の反応は、無溶媒下または、塩化メチレン、テ
トラヒドロフラン、ｎ−ヘキ→ノ″ン。
ネ−１−の反応によるβ−ラクタム環形成反応では、シ
リルエーテル基の種類によって、生成するβ−ラクタム
の立体配置が異なり、チェナマイシンに代表されるカル
バペネト系β−ラクタム抗生物質の合成における望まし
い３（Ｉ（１４重配置のβ−ラクタム化合物（１）を得
るには、シリルジエーテル基カトリメチルシリル基、
ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、ｔｅｒも一フチ
ルジメチルシリル基、 ｔｅｒｔ−ブチルメチルフェニ
ルシリル基、ジメチルイソブチルシリル基が適している
。また、エノールシリルエーテル類の水酸基の保護基で
あるＲについては、上記の立体化学を考慮した点と、ク
ロロスルホニルイソシアネートとの反応性の良ｊｌ！
カラ、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基が好適である
。エノールシリルエーテルとクロロスルホニルイソシア
ネ−１・の反応は、無溶媒下または、塩化メチレン、テ
トラヒドロフラン、ｎ−ヘキ→ノ″ン。
エチルエーテル等のクロロスルホニルイソシアネ−ｈお
よびエノールシリルエーテルに対して不活性である有機
溶媒を使用して実施することができる。この際の反応温
度は一７０°Ｃから室温付近の範囲で選択することがで
きるが、好ましくは一４０°Ｃ〜０°Ｃの温度範囲で発
熱を抑制しつつ、エノールシリルエーテル液にクロロス
ルホニルイソシアネートを滴下することにより達成でき
る。エノールシリルエーテルとクロロスルホニルイソシ
アネートのモル比は１：１の当モル付近で行えばよい３
反応時間は通常１０分〜数時間の範囲内で採用される。
よびエノールシリルエーテルに対して不活性である有機
溶媒を使用して実施することができる。この際の反応温
度は一７０°Ｃから室温付近の範囲で選択することがで
きるが、好ましくは一４０°Ｃ〜０°Ｃの温度範囲で発
熱を抑制しつつ、エノールシリルエーテル液にクロロス
ルホニルイソシアネートを滴下することにより達成でき
る。エノールシリルエーテルとクロロスルホニルイソシ
アネートのモル比は１：１の当モル付近で行えばよい３
反応時間は通常１０分〜数時間の範囲内で採用される。
本反応により生成しｔコβ−ラクタム化合物のＮ−スル
ホニルクロリド基を還元して目的のβ−ラクタム化合物
に変換できる。還元反応における還元剤としては、水素
化リチウムアルミニウム、水素化硼素ナトリウム、等の
水素化金属化合物や、ラネーニッケル等の還元剤が採用
される。また、チオフェノールやアルキルメルカプタン
等のチオール化合物も還元剤として使用できる。水素化
リチウムアルミニウムのような水素化金属化合物を使用
する際はテトラヒドロフランやエチルエーテル等の有機
溶剤中で還元をおこない、チオール化合物で還元する際
はこれらの有機溶剤にピリジン等の塩基を共存させてお
こなう。還元反応における温度は一４０°Ｃ〜０°Ｃの
範囲でおこなえばよい。
ホニルクロリド基を還元して目的のβ−ラクタム化合物
に変換できる。還元反応における還元剤としては、水素
化リチウムアルミニウム、水素化硼素ナトリウム、等の
水素化金属化合物や、ラネーニッケル等の還元剤が採用
される。また、チオフェノールやアルキルメルカプタン
等のチオール化合物も還元剤として使用できる。水素化
リチウムアルミニウムのような水素化金属化合物を使用
する際はテトラヒドロフランやエチルエーテル等の有機
溶剤中で還元をおこない、チオール化合物で還元する際
はこれらの有機溶剤にピリジン等の塩基を共存させてお
こなう。還元反応における温度は一４０°Ｃ〜０°Ｃの
範囲でおこなえばよい。
上記の還元剤の中では、水素化リチウムアルミニウムを
用いるのが好ましい。
用いるのが好ましい。
還元終了後、反応系に水を加え、エチルエーテルや酢酸
エチル等の有機溶媒で目的のβ−ラクタム化合物を抽出
し、硫酸マグネシウム等の脱水剤で乾燥後、減圧上溶媒
を留去して、３−位に０−保護ヒドロキシエチル基を有
し、４−位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化
合物を取得することができる。これらのβ−ラクタム化
合物は、必要により、カラムクロマトグラフィーにより
単離精製できる。
エチル等の有機溶媒で目的のβ−ラクタム化合物を抽出
し、硫酸マグネシウム等の脱水剤で乾燥後、減圧上溶媒
を留去して、３−位に０−保護ヒドロキシエチル基を有
し、４−位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化
合物を取得することができる。これらのβ−ラクタム化
合物は、必要により、カラムクロマトグラフィーにより
単離精製できる。
（実施例）
次に実施例をあげて本発明を更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの実施例のみで限定されるものではない。
発明はこれらの実施例のみで限定されるものではない。
実施例１
（ＳＲ，４Ｒ，５Ｒ） −８−（１，−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシエチル＞−４−１−リメチルシリ
ロキシアセチンノー２〜オンの合成。
ルジメチルシリロキシエチル＞−４−１−リメチルシリ
ロキシアセチンノー２〜オンの合成。
（３Ｒ） −３−ｔｅｒｔ−フチルシメチルシリロキシ
ーブテー１〜ニルトリメチルシリルエーテル１．０ｇ（
＋−ランス体とシス体の比が９：１の混合物）をエーテ
ル５ｍｌに加え、Ｎ２気流下−５０°Ｃに冷却、攪拌し
ながらクロロスルホニルイソシアナート０．３ゴを２０
分間かけて添加する。徐々に一４０°Ｃへ昇温し３０分
さらに攪拌する。次に、−６０°Ｃに再冷却し、ＬＬＡ
ｆｆｌＩ（４０，０３ｆ／を加える。徐々に昇温し一４
０’Ｃで６０分攪拌する。次に、反応混合物を氷を加え
た水１５０ｍＪとエーテル１００ｇＪの混合溶液へすば
やくうつし、３０分攪拌する。攪拌後、ハイフロス−パ
ーセルにより不溶物をとりのぞき、エーテル層を飽和食
塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。エーテル
を減圧上留去すると（ＳＲ，４，ｌＲ１，５Ｒ）体と（
３Ｓ、４Ｓ、５Ｒ）体を１０：１で含む目的β−ラクタ
ムの液体０．６ｇを得る。このものをシリカゲルカラム
（ヘキサン：塩化メチレン−５０：１）で処理し、（３
１’（、，４Ｌ５Ｒ） 体を主として含む両分を集め
、濃縮して０．３１のセミソリッドの目的物を得た。
ーブテー１〜ニルトリメチルシリルエーテル１．０ｇ（
＋−ランス体とシス体の比が９：１の混合物）をエーテ
ル５ｍｌに加え、Ｎ２気流下−５０°Ｃに冷却、攪拌し
ながらクロロスルホニルイソシアナート０．３ゴを２０
分間かけて添加する。徐々に一４０°Ｃへ昇温し３０分
さらに攪拌する。次に、−６０°Ｃに再冷却し、ＬＬＡ
ｆｆｌＩ（４０，０３ｆ／を加える。徐々に昇温し一４
０’Ｃで６０分攪拌する。次に、反応混合物を氷を加え
た水１５０ｍＪとエーテル１００ｇＪの混合溶液へすば
やくうつし、３０分攪拌する。攪拌後、ハイフロス−パ
ーセルにより不溶物をとりのぞき、エーテル層を飽和食
塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。エーテル
を減圧上留去すると（ＳＲ，４，ｌＲ１，５Ｒ）体と（
３Ｓ、４Ｓ、５Ｒ）体を１０：１で含む目的β−ラクタ
ムの液体０．６ｇを得る。このものをシリカゲルカラム
（ヘキサン：塩化メチレン−５０：１）で処理し、（３
１’（、，４Ｌ５Ｒ） 体を主として含む両分を集め
、濃縮して０．３１のセミソリッドの目的物を得た。
実施例２
（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ，） −，８−（１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシエチル）−４−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシアセチジン−２−オンの合成。
チルジメチルシリロキシエチル）−４−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシアセチジン−２−オンの合成。
（３几） −３−ｔｅｒｔ−フ゛チルジメチルシリロキ
シ−フチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
エーテル１．０Ｆ（１−ランス体とシス体の比が３：２
の混合物）をエーテル８πｔに加え、Ｎ２気流下−５０
’Ｃに冷却攪拌しながらクロロスルホニルイソシアナ−
１−０，２５πｔを１０分間かけて添加する。
シ−フチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
エーテル１．０Ｆ（１−ランス体とシス体の比が３：２
の混合物）をエーテル８πｔに加え、Ｎ２気流下−５０
’Ｃに冷却攪拌しながらクロロスルホニルイソシアナ−
１−０，２５πｔを１０分間かけて添加する。
徐々に一２０°Ｃに昇温し２０分攪拌する。次に、−６
０°Ｃに再冷却し、ＬＩＡＩＩＨ４０，Ｑ’ｔ ｂ、
ｆ／加える。
０°Ｃに再冷却し、ＬＩＡＩＩＨ４０，Ｑ’ｔ ｂ、
ｆ／加える。
また徐々に昇温し一４０’Ｃで６０分攪拌する。次に、
反応混合物を氷を加えた水１００ｍ１とエーテル１００
ｍ！’の混合溶液へすばやくそそぎ込み３０分攪拌する
。攪拌後、分液したエーテル層を５％ＮａＨＣＯ３水溶
液、ｐＨ３の塩酸水溶液および飽和食塩水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると（３Ｒ，，
５Ｒ）体と（３Ｓ、５Ｒ）体を３：２て含む目的β−ラ
クタム０．９ｇを得た。
反応混合物を氷を加えた水１００ｍ１とエーテル１００
ｍ！’の混合溶液へすばやくそそぎ込み３０分攪拌する
。攪拌後、分液したエーテル層を５％ＮａＨＣＯ３水溶
液、ｐＨ３の塩酸水溶液および飽和食塩水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると（３Ｒ，，
５Ｒ）体と（３Ｓ、５Ｒ）体を３：２て含む目的β−ラ
クタム０．９ｇを得た。
これをシリカゲルカラム（ヘキ→）゛ン：酢酸エチル＝
１０：１）で精製すると、目的の（３Ｒ，，４Ｔ（。
１０：１）で精製すると、目的の（３Ｒ，，４Ｔ（。
５Ｒ）β−ラククム０．２５１と（３８，４Ｓ、５Ｒ）
β−ラクタム０１３ｇを、固体で得た。各々の性状は以
下の通りである。
β−ラクタム０１３ｇを、固体で得た。各々の性状は以
下の通りである。
（３Ｒ，、４Ｒ，５Ｒ）体
（α）、、＝−８，３° （Ｃ＝Ｉ ＣＣ６４）’Ｉ
（ＮＭＲ（９０ＭＨｚ 、 ＣＤ（ＪＯＢ ）δ、 （
ｐｐｍ） ０．０８（ＣＨ３Ｎ２． ｓ）、 ０．１３
（ＯＨ３Ｎ２、Ｓ）、０．９０（９Ｉ−Ｔ、Ｓ）、０．
９３（９Ｈ，Ｓ）。
（ＮＭＲ（９０ＭＨｚ 、 ＣＤ（ＪＯＢ ）δ、 （
ｐｐｍ） ０．０８（ＣＨ３Ｎ２． ｓ）、 ０．１３
（ＯＨ３Ｎ２、Ｓ）、０．９０（９Ｉ−Ｔ、Ｓ）、０．
９３（９Ｈ，Ｓ）。
１．２７ （０Ｍ３． ｄ ）、 ２．９５ （］、Ｈ
，ｄｃｌ ｌ ４．．１３（ＩＨ，ｍ）、 ５．３７（
ＬＨ，ｃｌ）、 ６．１３（ＮＨ。
，ｄｃｌ ｌ ４．．１３（ＩＨ，ｍ）、 ５．３７（
ＬＨ，ｃｌ）、 ６．１３（ＮＨ。
ｂｒｏａｄ ）
ｍｐ１３１８Ｃ〜１３３°Ｃ
（８８，４Ｓ、 ５Ｒ）体
〔α）ｊ’ ＝−３３，１° （ｃ ＝ １ｃｃ６．
）’ＨＮＭＲ（”９０ ＭＨｚ 、 ＣＤＣ（ＩＢ ）
δ、（ｐｐｍ） ０．１０ （ＯＨＢＸ２． Ｓ ）、
Ｏ，］、 ３ （ＣＨ３Ｘ２゜Ｓ ）、 ０．８８
（９Ｈ，Ｓ）、 ０．９０（９Ｈ，Ｓ、）、 １．３１
（ＣＩ−ＩＢ、 ｄ ）、’３．０５ （ＬＨ，ｄｃｌ
）、 ４．２２ （ＩＨ。
）’ＨＮＭＲ（”９０ ＭＨｚ 、 ＣＤＣ（ＩＢ ）
δ、（ｐｐｍ） ０．１０ （ＯＨＢＸ２． Ｓ ）、
Ｏ，］、 ３ （ＣＨ３Ｘ２゜Ｓ ）、 ０．８８
（９Ｈ，Ｓ）、 ０．９０（９Ｈ，Ｓ、）、 １．３１
（ＣＩ−ＩＢ、 ｄ ）、’３．０５ （ＬＨ，ｄｃｌ
）、 ４．２２ （ＩＨ。
ｍ）、５．２７（］、Ｈ，ｃｌ）、６．３７（ＬＨ，ｂ
ｒｏａｃｌ）ｍｐ４３℃〜４５°Ｃ 実施例３ （３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ） −３−（１−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシエチル） −＜、 −ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシアセチジン−２−オンの合成。
ｒｏａｃｌ）ｍｐ４３℃〜４５°Ｃ 実施例３ （３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ） −３−（１−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシエチル） −＜、 −ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシアセチジン−２−オンの合成。
（３Ｒ） −３−ｔｅｒｔ−プチルジメチルシリロキシ
ブテ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエー
テル１．０ｙ（＋−ランス体とシス体の比が３：２の混
合物）をヘキサン８ｍｌに加え、Ｎ２気流下−５゜°Ｃ
に冷却、攪拌しながらクロロスルホニルイソシアナート
０．２５ｄを１０分間かけて添加する。徐々に一２０°
Ｃへ昇温し２０分攪拌する。次に、−６０°Ｃに再冷却
し、チオフェノール０．７１をヘキサン２ｍｌにとかし
た溶液を添加し、１０分攪拌後、さらにピリジン０．４
ｇをヘキサン２πｔにとかした溶液を添加する。攪拌し
ながら徐々に室温まで反応液を昇温し、反応液にヘキサ
ン５０ｙｘｌを加え、これを５％ＮａＨＣＯ３水溶液、
ｐＩ（３の塩酸水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。ヘキサンを減圧丁留去すると（３
Ｒ２４Ｒ，５１１（）体（３Ｓ、 ４．Ｓ、 ５Ｒ）体
を３：２で含む目的β−ラクタムを０．７９得る。これ
をシリカケルカラム（ヘキサン：酢酸エチル−１０：１
）で溶出すると、（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）体β−ラクタム
０、１．８１と（３Ｓ、４８，５Ｒ）体β−ラクタム０
．１０１を得た。各々の性状は実施例２に示した値と同
一であった。
ブテ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエー
テル１．０ｙ（＋−ランス体とシス体の比が３：２の混
合物）をヘキサン８ｍｌに加え、Ｎ２気流下−５゜°Ｃ
に冷却、攪拌しながらクロロスルホニルイソシアナート
０．２５ｄを１０分間かけて添加する。徐々に一２０°
Ｃへ昇温し２０分攪拌する。次に、−６０°Ｃに再冷却
し、チオフェノール０．７１をヘキサン２ｍｌにとかし
た溶液を添加し、１０分攪拌後、さらにピリジン０．４
ｇをヘキサン２πｔにとかした溶液を添加する。攪拌し
ながら徐々に室温まで反応液を昇温し、反応液にヘキサ
ン５０ｙｘｌを加え、これを５％ＮａＨＣＯ３水溶液、
ｐＩ（３の塩酸水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。ヘキサンを減圧丁留去すると（３
Ｒ２４Ｒ，５１１（）体（３Ｓ、 ４．Ｓ、 ５Ｒ）体
を３：２で含む目的β−ラクタムを０．７９得る。これ
をシリカケルカラム（ヘキサン：酢酸エチル−１０：１
）で溶出すると、（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）体β−ラクタム
０、１．８１と（３Ｓ、４８，５Ｒ）体β−ラクタム０
．１０１を得た。各々の性状は実施例２に示した値と同
一であった。
実施例４
（３Ｒ，４Ｊ（、、５Ｒ） −３−（１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ） −４，−ｔｅｒｔ−ブチル
メチルフェニルシリロキシ−アセチシン−２−オンの合
成。
チルジメチルシリロキシ） −４，−ｔｅｒｔ−ブチル
メチルフェニルシリロキシ−アセチシン−２−オンの合
成。
（３Ｒ） −３−ｔｅｒｔ−プチルシメチルンリロキシ
ーフテ−１−ニルーｔｅｒｔ−フチルメチルフェニルシ
リルエーテル１．、ＯＦ（トランス体とシス体の比が７
：１の混合物）をエーテル５ゴに加え、Ｎ２気流下−５
０°Ｃに冷却し、攪拌しなからクロロスルボニルイソシ
アナート０．２２πｔを１０分間かけて添加する。徐々
に一４０°Ｃへ昇温し３０分さらに攪拌する。次に、−
６０°Ｃに再冷却し、ＬｉＡ１？Ｈ４００６ｇを加える
。徐々に昇温し一４５°Ｃで４０分攪拌する。次に、反
応混合物を氷を加えた水１５０ ｍｌとエーテル１００
ｍ１の混合溶液へすばやくうつし、３０分攪拌する。攪
拌後、分液し、有機層を５％ＮａＨＣ！０３水溶液、つ
いでｐＨ３の塩酸水溶液、および飽和食塩水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると、粗生成
物０．９８ｇを油状物として得た。
ーフテ−１−ニルーｔｅｒｔ−フチルメチルフェニルシ
リルエーテル１．、ＯＦ（トランス体とシス体の比が７
：１の混合物）をエーテル５ゴに加え、Ｎ２気流下−５
０°Ｃに冷却し、攪拌しなからクロロスルボニルイソシ
アナート０．２２πｔを１０分間かけて添加する。徐々
に一４０°Ｃへ昇温し３０分さらに攪拌する。次に、−
６０°Ｃに再冷却し、ＬｉＡ１？Ｈ４００６ｇを加える
。徐々に昇温し一４５°Ｃで４０分攪拌する。次に、反
応混合物を氷を加えた水１５０ ｍｌとエーテル１００
ｍ１の混合溶液へすばやくうつし、３０分攪拌する。攪
拌後、分液し、有機層を５％ＮａＨＣ！０３水溶液、つ
いでｐＨ３の塩酸水溶液、および飽和食塩水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると、粗生成
物０．９８ｇを油状物として得た。
ｎｍｒ （ＣＤ（Ｊ３ ） δ（ｐｐｍ）（ＳＲ，４
Ｒ，５Ｒ）体 ０．００ （６Ｈ，Ｓ ）、 ０．４３
（３Ｈ。
Ｒ，５Ｒ）体 ０．００ （６Ｈ，Ｓ ）、 ０．４３
（３Ｈ。
ｓ ）、 ０．８０（９Ｈ，ｓ）、 ０．９０ （９Ｈ
，ｓ ）、 １．１９（３Ｈ，ｃｌ）、 ２．９９ （
ＩＨ，ａｄ ）、 ４．１０ （］−Ｉ（、ｍ）。
，ｓ ）、 １．１９（３Ｈ，ｃｌ）、 ２．９９ （
ＩＨ，ａｄ ）、 ４．１０ （］−Ｉ（、ｍ）。
５．３５（ＬＨ，ｃｌ）、 ６．６８（ＬＨ，ｃｌ）、
７．３７（５Ｈ，ｍ） 実施例５ （３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−３−（１−ｔａｒｔ−ブチルジ
メチルシリロキシ）−４−ジメチルイソブチルシリロキ
シーアゼチジン−２−オンの合成。
７．３７（５Ｈ，ｍ） 実施例５ （３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−３−（１−ｔａｒｔ−ブチルジ
メチルシリロキシ）−４−ジメチルイソブチルシリロキ
シーアゼチジン−２−オンの合成。
（３Ｒ） −３−ｔｅｒｔ−プチルシメチルシリロキシ
ーブテー１−ニルジメチルイソブチルシリルエーテル１
．、Ｏ＆（）ランス体とシス体の比が５：１の混合物）
をエーテル６、０ ｍｌに加え、Ｎ２気流下−６０°Ｃ
に冷却し、攪拌しながらクロロスルホニルイソシアナー
ト０．２６＋＋＋Ｊを１０分間かけて添加する。
ーブテー１−ニルジメチルイソブチルシリルエーテル１
．、Ｏ＆（）ランス体とシス体の比が５：１の混合物）
をエーテル６、０ ｍｌに加え、Ｎ２気流下−６０°Ｃ
に冷却し、攪拌しながらクロロスルホニルイソシアナー
ト０．２６＋＋＋Ｊを１０分間かけて添加する。
徐々に一５０°Ｃへ昇温し、３０分さらに攪拌する。
次に、−６０°Ｃに再冷却し、ＬｉＡｆｆｌＪ−Ｉ４０
．０６６ ｇ加える。徐々に昇温し一５０°Ｃで６０分
攪拌する。
．０６６ ｇ加える。徐々に昇温し一５０°Ｃで６０分
攪拌する。
反応混合物を氷を加えた水１５０ゴとエーテル１００π
ｔの混合溶液へすばやくうつし、３０分攪拌する。攪拌
後、分液し、有機層を５％ＮａＨＤＯ３水溶液、ついで
ｐＨ３の塩酸水溶液、および飽和食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると粗生成物０５
９ｇを油状物として得ｊこ。
ｔの混合溶液へすばやくうつし、３０分攪拌する。攪拌
後、分液し、有機層を５％ＮａＨＤＯ３水溶液、ついで
ｐＨ３の塩酸水溶液、および飽和食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると粗生成物０５
９ｇを油状物として得ｊこ。
ｎｍｒ （ＣＤ（Ｊ３ ） δ（ｐｐｍ）（３Ｌ
４Ｆ、、 ５Ｒ）体 ０．０３（６Ｉ（、ｓ）、 ０
．１．５（６Ｈ。
４Ｆ、、 ５Ｒ）体 ０．０３（６Ｉ（、ｓ）、 ０
．１．５（６Ｈ。
Ｓ ）、 ０．６０ （２Ｈ，ｄ ）、 ０．８７
（９Ｈ，Ｓ ）、 ０．９３（６Ｈ，ｄ ）、
１．２２ （３Ｈ，ｄ ）、 １．８０ （ＬＨ，ｍ
）。
（９Ｈ，Ｓ ）、 ０．９３（６Ｈ，ｄ ）、
１．２２ （３Ｈ，ｄ ）、 １．８０ （ＬＨ，ｍ
）。
２．８５（ＬＨ，ｄｄ ）、 ４．１５（ＬＨ，’
ｍ）、 ５．２６（１Ｈ，ｃｌ、 ）、 ７．７７
（ＬＨ，ｂｒｏａｄ ｓ ）参考例１ （ＳＲ，４旧、）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１
−ｔｅｒｔ−ｊチルジメチルシリロキシエチル〕−アゼ
チジン−２−オンの合成。
ｍ）、 ５．２６（１Ｈ，ｃｌ、 ）、 ７．７７
（ＬＨ，ｂｒｏａｄ ｓ ）参考例１ （ＳＲ，４旧、）−４−アセトキシ−３−（（Ｒ）−１
−ｔｅｒｔ−ｊチルジメチルシリロキシエチル〕−アゼ
チジン−２−オンの合成。
（３几、 ５Ｒ）−３−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリロキシエチル）−４−１〜リメチルシリロキシア
ゼチジン−２−オン１．０ｇをＤＭＦＩＯπｔに溶解し
、これにトリエチルアミン０．８９ｇとｔｅｒｔ＝ブチ
ルジメチルシリルクロライド０．６１Ｎを加え、室温下
で９時間攪拌する。反応後、ＤＭＦを減圧留去し、ヘキ
サン３０ｙｔｔ１を加えた。この溶液を２５％ＮａＨＣ
！０３水溶液、ついでｐＨ３の塩酸水溶液、および飽和
食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留
去すると、粗生成物の液体１２４ｇを得る。この液体１
．０ｇを塩化メチレン５ｍｌに加え、さらにジメヂルア
ミノピリジン０．８５Ｆと無水酢酸１．１πｔを加え、
室温で６時間反応させる。次に、反応液を５％ＮａＨＣ
Ｏ３水溶液、ｐＨ３の塩酸水および飽和食塩水で洗浄後
、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を留去すると、粗
生成物の液体ｏ、ｓｙを得る。この液体をシリカケルカ
ラム（ヘンセノ：ヘキサン＝２ ： １ ） で’１ｆ
４Ｈすると（３Ｌ ４Ｒ，５Ｒ）−４−アセトキシ−１
−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−３−（１，−
ｔｅｒｔ−ｊチルジメチルシロキシエチル）−アゼチジ
ン−２−オン０．５ｇを液体として得た。上記の液体０
．５１をＴＨＦ２ｍｌに加え、この溶液にテトラブチル
アンモニウムフロライト０．４．９と酢酸０１７ｇを溶
解したＴ ＨＦ溶液２ｍｌを添加し、室温で３０分攪拌
する。次に、この反応液に酢酸エチル２０ｍ１を加え、
つづいて５、％ＮａＨＣＯ３水溶液、および飽和食塩水
で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去す
ると目的物の結晶０３０゜ｙを得た。これをシリカゲル
カラム（ベンセン：酢酸エチル＝６ ： １ ）で精製
すると目的のβ−ラクタムを固体として０．２７１ 得
た。
ルシリロキシエチル）−４−１〜リメチルシリロキシア
ゼチジン−２−オン１．０ｇをＤＭＦＩＯπｔに溶解し
、これにトリエチルアミン０．８９ｇとｔｅｒｔ＝ブチ
ルジメチルシリルクロライド０．６１Ｎを加え、室温下
で９時間攪拌する。反応後、ＤＭＦを減圧留去し、ヘキ
サン３０ｙｔｔ１を加えた。この溶液を２５％ＮａＨＣ
！０３水溶液、ついでｐＨ３の塩酸水溶液、および飽和
食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留
去すると、粗生成物の液体１２４ｇを得る。この液体１
．０ｇを塩化メチレン５ｍｌに加え、さらにジメヂルア
ミノピリジン０．８５Ｆと無水酢酸１．１πｔを加え、
室温で６時間反応させる。次に、反応液を５％ＮａＨＣ
Ｏ３水溶液、ｐＨ３の塩酸水および飽和食塩水で洗浄後
、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を留去すると、粗
生成物の液体ｏ、ｓｙを得る。この液体をシリカケルカ
ラム（ヘンセノ：ヘキサン＝２ ： １ ） で’１ｆ
４Ｈすると（３Ｌ ４Ｒ，５Ｒ）−４−アセトキシ−１
−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−３−（１，−
ｔｅｒｔ−ｊチルジメチルシロキシエチル）−アゼチジ
ン−２−オン０．５ｇを液体として得た。上記の液体０
．５１をＴＨＦ２ｍｌに加え、この溶液にテトラブチル
アンモニウムフロライト０．４．９と酢酸０１７ｇを溶
解したＴ ＨＦ溶液２ｍｌを添加し、室温で３０分攪拌
する。次に、この反応液に酢酸エチル２０ｍ１を加え、
つづいて５、％ＮａＨＣＯ３水溶液、および飽和食塩水
で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去す
ると目的物の結晶０３０゜ｙを得た。これをシリカゲル
カラム（ベンセン：酢酸エチル＝６ ： １ ）で精製
すると目的のβ−ラクタムを固体として０．２７１ 得
た。
ｍｐ１０７°Ｃ〜１０８°Ｃ
〔α〕ゎ＝↑５０ （０＝ ０．５ ０Ｈ（Ｊ２３
）’］−１，ＮＭＲ，＜ ９０ ＭＨｚ 、 ＣＤＣ（
ＩＢ ） δ、（ｐＩ）ｍ）０．０８ （６Ｈ，ｓ
）、 ０．８４． （９Ｈ，ｓ ）、 １．２０ （
３Ｈ，ｃｌ）、２．０１．（３Ｈ，ｓ）、３．０４（Ｉ
Ｈ，ｄｄ１４．１２ （ＬＨ，ｍ）、５．７６ （ＬＨ
，ｄ）、６．７３ （Ｎ■→参考例２ （３Ｒ） −３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
−フチ−１−ニルトリメチルシリルエーテルの合成。
）’］−１，ＮＭＲ，＜ ９０ ＭＨｚ 、 ＣＤＣ（
ＩＢ ） δ、（ｐＩ）ｍ）０．０８ （６Ｈ，ｓ
）、 ０．８４． （９Ｈ，ｓ ）、 １．２０ （
３Ｈ，ｃｌ）、２．０１．（３Ｈ，ｓ）、３．０４（Ｉ
Ｈ，ｄｄ１４．１２ （ＬＨ，ｍ）、５．７６ （ＬＨ
，ｄ）、６．７３ （Ｎ■→参考例２ （３Ｒ） −３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
−フチ−１−ニルトリメチルシリルエーテルの合成。
（ＳＲ） −３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
ブチルアルデヒド８．０１を塩化メチレン４０πｔに加
える。この溶液にトリエチルアミン８．０２とトリメチ
ルシリルクロライド１２ｍ１を添加し、１３時間還流さ
せる。反応後、溶媒を留去した後、ｎ−ヘキサンを加え
、５％ＮａＨＣＯ３水溶液、ｐＨ３の塩酸水、および飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
留去すると液体１０ｇを得た。これを減圧蒸留にかけて
８．０ ｆｊ （ｂｐ ８５’Ｃ／ ３７１ｍＩｎ ）
の目的物を得た。この化合物はトランス体とシス体の比
が１５：１の混合物であった。
ブチルアルデヒド８．０１を塩化メチレン４０πｔに加
える。この溶液にトリエチルアミン８．０２とトリメチ
ルシリルクロライド１２ｍ１を添加し、１３時間還流さ
せる。反応後、溶媒を留去した後、ｎ−ヘキサンを加え
、５％ＮａＨＣＯ３水溶液、ｐＨ３の塩酸水、および飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
留去すると液体１０ｇを得た。これを減圧蒸留にかけて
８．０ ｆｊ （ｂｐ ８５’Ｃ／ ３７１ｍＩｎ ）
の目的物を得た。この化合物はトランス体とシス体の比
が１５：１の混合物であった。
〔αシ二−３．２° （０＝Ｉ ＣＣ１４）’ＨＮＭ
Ｒ（９０ＭＩ（ｚ 、 ００１４） ｌ−ランス体
δ、 （ｐｐｍ） ０．１ ］、 （６Ｈ，ｓ ）、
０．２５ （９Ｈ，ｓ ）。
Ｒ（９０ＭＩ（ｚ 、 ００１４） ｌ−ランス体
δ、 （ｐｐｍ） ０．１ ］、 （６Ｈ，ｓ ）、
０．２５ （９Ｈ，ｓ ）。
０．９０ （９１１，Ｓ ）、 １．．２５ （３Ｈ，
ｄ ）、 ４．２５ （］Ｈ，ｍ）、４．．９５ （Ｌ
Ｈ，ｄｄ）、６２８（ＩＩ（、ｄ）参考例３ （３Ｒ） −３−ｔｅｒｔ−ブチルシメチルシリロキシ
ーブテーＪ−ニルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエ
ーテルの合成。
ｄ ）、 ４．２５ （］Ｈ，ｍ）、４．．９５ （Ｌ
Ｈ，ｄｄ）、６２８（ＩＩ（、ｄ）参考例３ （３Ｒ） −３−ｔｅｒｔ−ブチルシメチルシリロキシ
ーブテーＪ−ニルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエ
ーテルの合成。
（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシブ
チルアルデヒド８．０ｇをＤ Ｍ Ｆ ５０ ｍｌに加
える。
チルアルデヒド８．０ｇをＤ Ｍ Ｆ ５０ ｍｌに加
える。
この溶液に、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロライ
ド］１．Ｏｙ、ｌ−リエチルアミン１６０ｇを添加し、
９０°Ｃで１３時間攪拌する。反応後、ＤＭＦを減圧下
に留去し、次にｎ−ヘキサン１００＋＋ｔを加え、この
溶液を５％ＮａＨＣＯ３水溶液、ついでｐＨ３の塩酸水
、および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を留去すると液体８．０＆を得た。これを減
圧蒸留にかけて５．０ｇ（ｂｐ６５°Ｃ／ ｌ ｍｍＨ
ｇ ）の目的物を得た。この化合物はトランス体とシス
体の比が３：２の混合物であった。
ド］１．Ｏｙ、ｌ−リエチルアミン１６０ｇを添加し、
９０°Ｃで１３時間攪拌する。反応後、ＤＭＦを減圧下
に留去し、次にｎ−ヘキサン１００＋＋ｔを加え、この
溶液を５％ＮａＨＣＯ３水溶液、ついでｐＨ３の塩酸水
、および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。溶媒を留去すると液体８．０＆を得た。これを減
圧蒸留にかけて５．０ｇ（ｂｐ６５°Ｃ／ ｌ ｍｍＨ
ｇ ）の目的物を得た。この化合物はトランス体とシス
体の比が３：２の混合物であった。
〔α）２５＝−１，４，，９６° （Ｃ＝２ ＣＣ７
？４）’ＨＮＭＲ（９０ＭＨｚ 、 ｃｃａ４ ）
δ、 （ｐｐｍ）Ｉ・ランス体 ０．０７（６Ｈ，ｓ）
、 ０．１７（６Ｈ，ｓ）。
？４）’ＨＮＭＲ（９０ＭＨｚ 、 ｃｃａ４ ）
δ、 （ｐｐｍ）Ｉ・ランス体 ０．０７（６Ｈ，ｓ）
、 ０．１７（６Ｈ，ｓ）。
０．９０ （９Ｈ，Ｓ ）、 ０．９７ （９Ｈ，、Ｓ
）、 １２０ （３Ｈ，ｃｌ ）、 ４．２０ （Ｌ
Ｈ，ｍ ）、 ４．９５ （ＩＨ，ｃｌｄ）。
）、 １２０ （３Ｈ，ｃｌ ）、 ４．２０ （Ｌ
Ｈ，ｍ ）、 ４．９５ （ＩＨ，ｃｌｄ）。
６．２６ （ＬＨ，ｃｌ ）
シス体 ０．０７ （ｆ３Ｊ−Ｉ、 Ｓ ）、０．１７
（６Ｈ，Ｓ ）、 ０．９０（９Ｈ，Ｓ ）、 ０．
９７ （９Ｈ，Ｓ ）、 １．１５ （３Ｈ，ｄ）。
（６Ｈ，Ｓ ）、 ０．９０（９Ｈ，Ｓ ）、 ０．
９７ （９Ｈ，Ｓ ）、 １．１５ （３Ｈ，ｄ）。
４．２０ （１，Ｉ−Ｉ、 ｍ ）、 ４．４８ （Ｉ
Ｉ（、ｄｄ ）、 ５．９７（１，Ｈ，ｄ） 参考例４ （８Ｒ） −３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
−ブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルメチルフェニルシ
リルエーテルの合成。
Ｉ（、ｄｄ ）、 ５．９７（１，Ｈ，ｄ） 参考例４ （８Ｒ） −３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
−ブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルメチルフェニルシ
リルエーテルの合成。
（３几） −３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
ブチルアルデヒド１００ｇをＤＭＦ４０ｍｌに加える。
ブチルアルデヒド１００ｇをＤＭＦ４０ｍｌに加える。
この溶液にジメチルアミノピリジン６．６Ｆ。
ｔｅｒｔ−ブチルメチルフェニルシリルクロライド１０
．４ｙ添加し、７５°Ｃで１４時間攪拌する。反応後、
ＤＭＦを減圧上留去し、次にｎ−ヘキサン１ｆｌｌ（１
＋／、を加え、５％ＮａＨＣ！０３水溶液、ｐＩ−１３
の塩酸水、および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を留去すると液体１０２ダを得た。こ
れをソリ力ゲルカラム（ヘキサノ：酢酸エチル−２０：
１）で精製して７，２りの目的物を得た。この化合物は
、トランス体とシス体の比が７：１の混合物であった。
．４ｙ添加し、７５°Ｃで１４時間攪拌する。反応後、
ＤＭＦを減圧上留去し、次にｎ−ヘキサン１ｆｌｌ（１
＋／、を加え、５％ＮａＨＣ！０３水溶液、ｐＩ−１３
の塩酸水、および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を留去すると液体１０２ダを得た。こ
れをソリ力ゲルカラム（ヘキサノ：酢酸エチル−２０：
１）で精製して７，２りの目的物を得た。この化合物は
、トランス体とシス体の比が７：１の混合物であった。
（ａ）２ニー５．ａｏ ｌ＝１．ＣＣＣＣ１４）ＩＨＮ
（９０Ｍｌ（ｚ 、 ＣＩＸ！＃３ ） δ、 （
ｐｐｍ）トランス体 ０．００ （６Ｈ，ｓ ）、 ０
．４０ （３Ｈ，ｓ ）。
（９０Ｍｌ（ｚ 、 ＣＩＸ！＃３ ） δ、 （
ｐｐｍ）トランス体 ０．００ （６Ｈ，ｓ ）、 ０
．４０ （３Ｈ，ｓ ）。
０．８５（９Ｈ，Ｓ）、０．９３（９Ｈ，Ｓ）、１．１
８（３Ｈ，ｄ）、４．２０（ＩＨ，ｍ）、５．０６（１
１（、ｄａ）。
８（３Ｈ，ｄ）、４．２０（ＩＨ，ｍ）、５．０６（１
１（、ｄａ）。
６．３５（ＬＨ，ｄ）、７．４０（５Ｈ，ｍ）参考例５
（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキンー
フテ−１−二ルジメチルイソブチルシリルエーテルの合
成。
フテ−１−二ルジメチルイソブチルシリルエーテルの合
成。
（３Ｒ） −３−ｔｅｒｔ−プチルジメチルシリロキシ
ブチルアルデヒト２０．０９をＤＭＦ８０．ＯｍＪに加
える。この溶液にＴＭＥＤＡ １６．３ ｍｌとイソブ
チルシメチルシリルクロライド１４．８ｇを添加し３時
間８０°Ｃで攪拌する。反応後、溶媒を留去した後、ｎ
−ヘキサンを加え５％ＮａＨＣＯ３水溶液、ｐＨ３の塩
酸水、および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を留去すると１６．５ｇの液体を得た。こ
れをソリ力ゲルカラム（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル−２
０：１）で処理し、トランス体とシス体の比が５＝１の
目的物１０．６ｇを得ｔこ。
ブチルアルデヒト２０．０９をＤＭＦ８０．ＯｍＪに加
える。この溶液にＴＭＥＤＡ １６．３ ｍｌとイソブ
チルシメチルシリルクロライド１４．８ｇを添加し３時
間８０°Ｃで攪拌する。反応後、溶媒を留去した後、ｎ
−ヘキサンを加え５％ＮａＨＣＯ３水溶液、ｐＨ３の塩
酸水、および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を留去すると１６．５ｇの液体を得た。こ
れをソリ力ゲルカラム（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル−２
０：１）で処理し、トランス体とシス体の比が５＝１の
目的物１０．６ｇを得ｔこ。
〔αシー−６０° （ｃ＝ｔ、ｃｃ４）’ＨＮＭＲ（９
０ＭＨｚ 、 ＣＤＣ＃、ｇ ） δ、 （ｐｐｍ）
１〜ランス体 ０．０８ （６Ｈ，Ｓ ）、 ０．１５
（６Ｈ，Ｓ ）。
０ＭＨｚ 、 ＣＤＣ＃、ｇ ） δ、 （ｐｐｍ）
１〜ランス体 ０．０８ （６Ｈ，Ｓ ）、 ０．１５
（６Ｈ，Ｓ ）。
０．６０ （２Ｈ，ｄ ）、 ０．８５ （９Ｈ，Ｓ
）、 ０．９０ （６Ｈ，ｃｌ）、 １．．１．５（３
ｉ（、ｃｌ）、 １．８０ （ＬＨ，ｍ）。
）、 ０．９０ （６Ｈ，ｃｌ）、 １．．１．５（３
ｉ（、ｃｌ）、 １．８０ （ＬＨ，ｍ）。
４．２０ （ＬＨ，ｍ ）、 ４．９５ （ＬＨ，６，
ｃｌ ）、 ６．２５（ＩＨ，ａｔ）
ｃｌ ）、 ６．２５（ＩＨ，ａｔ）
Claims (7)
- （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１は水酸基の保護基、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ
＿４はＣ＿１〜Ｃ＿４の低級アルキル基、フエニル基ま
たはアラルキル基を示す。） で表わされるβ−ラクタム化合物。 - （２）Ｒ＿１が一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＿５、Ｒ＿６、Ｒ＿７はＣ＿１〜Ｃ＿４の低
級アルキル基を示す。） で表わされる特許請求の範囲第１項記載の化合物。 - （３）Ｒ＿１がｔ−ブチルジメチルシリル基である特許
請求の範囲第２項記載の化合物。 - （４）一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＿１は水酸基の保護基、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ
＿４はＣ＿１〜Ｃ＿４の低級アルキル基、フエニル基ま
たはアラルキル基を示す。） で表わされるエノールシリルエーテル類をクロロスルホ
ニルイソシアネートと反応させ、ついで還元することを
特徴とする一般式（ I ）▲数式、化学式、表等があり
ます▼（ I ） （式中、Ｒ＿１は水酸基の保護基、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ
＿４はＣ＿１〜Ｃ＿４の低級アルキル基、フエニル基ま
たはアラルキル基を示す。） で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法。 - （５）Ｒ＿１が一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＿５、Ｒ＿６、Ｒ＿７はＣ＿１〜Ｃ＿４の低
級アルキル基を示す。） である特許請求の範囲第４項記載の製造法。 - （６）Ｒ＿１がｔ−ブチルジメチルシリル基である特許
請求の範囲第５項記載の製造法。 - （７）還元剤として水素化リチウムアルミニウムを使用
する特許請求の範囲第４項記載の製造法。
Priority Applications (19)
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|---|---|---|---|
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| CA000485099A CA1269388A (en) | 1984-07-05 | 1985-06-25 | .beta.-lactam compound and preparing thereof |
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| DE8585108210T DE3568578D1 (en) | 1984-07-05 | 1985-07-03 | Beta-lactam compound and preparing thereof |
| EP85108208A EP0167154B1 (en) | 1984-07-05 | 1985-07-03 | Process for preparing 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetizin-2-one derivatives |
| SU853923699A SU1442071A3 (ru) | 1984-07-05 | 1985-07-03 | Способ получени производных 4-ацетокси-3-оксиэтилазетидин-2-она (его варианты) |
| DE8585108208T DE3575128D1 (de) | 1984-07-05 | 1985-07-03 | Verfahren zur herstellung von 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetizin-2-on derivaten. |
| KR1019850004801A KR890004124B1 (ko) | 1984-07-05 | 1985-07-04 | β-락탐 화합물의 제조방법 |
| ES544864A ES8609238A1 (es) | 1984-07-05 | 1985-07-04 | Un procedimiento para preparar 4-acetoxi-3-hidroxietilazeti-zin-2-ona |
| CN85105097.2A CN1004417B (zh) | 1984-07-05 | 1985-07-04 | β-内酰胺化合物的制备方法 |
| ES544863A ES8608484A1 (es) | 1984-07-05 | 1985-07-04 | Un procedimiento para preparar un compuesto de beta-lactama |
| CN85105097.2D CN85105097A (zh) | 1984-07-05 | 1985-07-04 | β-内酰胺化合物的制备方法 |
| KR1019850004830A KR900001170B1 (ko) | 1984-07-05 | 1985-07-05 | 4-아세톡시-3-히드록시에틸아제티진-2-온 유도체의 제조방법 |
| US07/000,810 US4791198A (en) | 1984-07-05 | 1987-01-06 | Beta-lactam compound and preparation thereof |
| US07/000,809 US4861877A (en) | 1984-07-05 | 1987-01-06 | Process for preparing 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetidin-2-one derivatives |
| US07/200,205 US5061817A (en) | 1984-07-05 | 1988-05-31 | Enolsilyl ether compound |
| CA000615515A CA1315284C (en) | 1984-07-05 | 1989-10-11 | .beta.-lactam compound and preparing thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59139797A JPS6118791A (ja) | 1984-07-05 | 1984-07-05 | 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 |
Related Child Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60004724A Division JPS6118758A (ja) | 1984-07-05 | 1985-01-14 | ４−アセトキシ−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造法 |
| JP63039995A Division JPS63233989A (ja) | 1988-02-23 | 1988-02-23 | エノールシリルエーテル類 |
| JP63258197A Division JPH01131188A (ja) | 1988-10-13 | 1988-10-13 | 新規β−ラクタム化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6118791A true JPS6118791A (ja) | 1986-01-27 |
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ID=15253645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59139797A Pending JPS6118791A (ja) | 1984-07-05 | 1984-07-05 | 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0167155B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6118791A (ja) |
| KR (1) | KR890004124B1 (ja) |
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| DE (1) | DE3568578D1 (ja) |
| ES (1) | ES8608484A1 (ja) |
| SU (1) | SU1480772A3 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04112867A (ja) * | 1990-09-03 | 1992-04-14 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | β―ラクタム化合物の製造法 |
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|---|---|---|---|---|
| US4791198A (en) * | 1984-07-05 | 1988-12-13 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Beta-lactam compound and preparation thereof |
| JPS62164689A (ja) * | 1986-01-14 | 1987-07-21 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 |
| US4861877A (en) * | 1984-07-05 | 1989-08-29 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for preparing 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetidin-2-one derivatives |
| AU601180B2 (en) * | 1986-04-30 | 1990-09-06 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for preparing 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetidin -2- one derivatives |
| EP0259268A1 (de) * | 1986-09-04 | 1988-03-09 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung optisch aktiver Beta-Lactame |
| US5145957A (en) * | 1988-03-18 | 1992-09-08 | Merck & Co., Inc. | Stereoselective synthesis of a chiral cis 3-beta hydrogen (3R) 4-aroyloxy azetidinone |
| US4952288A (en) * | 1989-06-21 | 1990-08-28 | Merck & Co., Inc. | Process for the preparation of 4-acyloxyazetidin-2-one by electrochemical methods |
| US4940520A (en) * | 1989-06-21 | 1990-07-10 | Merck & Co., Inc. | Process for the preparation of 4-acyloxyazetidin-2-one by singlet oxygen oxidation |
| US4923982A (en) * | 1989-06-21 | 1990-05-08 | Merck & Co., Inc. | Oxidation and reduction method to produce 4-acyloxyazetidin-2-one |
| US5177201A (en) * | 1989-06-21 | 1993-01-05 | Merck & Co., Inc. | Nitrogen deprotected 4-acyloxyazetidin-2-ones |
| KR0132532B1 (ko) * | 1994-07-29 | 1998-04-17 | 서치영 | 4-아실옥시-2-아제티디논 유도체의 신규 제조방법 |
| CN101029056B (zh) * | 2006-02-28 | 2011-06-08 | 天津国韵生物材料有限公司 | 聚-3-羟基丁酸酯在制备β-内酰胺化合物中的用途 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1770855C3 (de) * | 1961-03-23 | 1974-10-10 | Chemie Gruenenthal Gmbh, 5190 Stolberg | Verfahren zur Herstellung von N-Trialkylsilyl-6-aminopenicillansäuretrialkylsilylestern. Ausscheidung aus: 1420981 |
| DE3277696D1 (en) * | 1981-07-15 | 1987-12-23 | Sumitomo Pharma | Carboxylic beta-lactam compounds and the preparation thereof |
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1989
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