JPH01131188A - 新規β−ラクタム化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は３−位に水酸基が保護されたヒドロキシエチル
基を有し、４−位にシリルエーテル基を有する新規なβ
−ラクタム化合物に関する。

本発明による新規なβ−ラクタム化合物は、４−位に反
応性に富むシリルエーテル基を有し、種々の誘導体に変
換できる有用な中間体である。たとえば、本発明化合物
の４−位のシリルエーテル基に、置換反応をおこなうこ
とによって、第４世代のβ−ラクタム抗生物質として知
られているチェナマイシン製造に有用な３−（１−ヒド
ロキシエチル）−４−アセトキシアゼチジン−２−オン
や、！−（１−ヒドロキシエチル）−４−ハロアゼチジ
ン−２−オンが取得できる。

（発明が解決しようとする課題） 従来、４−位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム
化合物は知られていない。本発明者らは、検討を重ねた
結果、これらのβ−ラクタム化合物がカルバペネム系β
−ラクタム化合物合成の有用な中間体になりうろことを
見出して本発明に至った。また、これらの４−位にシリ
ルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物の簡便な合成
法を見出し、本発明を完成した。以下に詳細説明する。

（課題を解決するための手段及び作用効果）本発明は一
般式（１） 〜Ｃ４の低級アルキル基）で表わされる水酸基の保護基
、Ｒｔ　、Ｒｓ　ｅ　Ｒ４はＣ１〜Ｃ４の低級アルキル
基、フェニル基またはアラルキル基を示す〕で表わされ
るβ−ラクタム化合物に関する。前記−般式（１）中、
Ｒ１のトリアルキルシリル基の例としては、ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、
イソプロピルジメチルシリル基、アセチル基、ベンジル
オキシカルボニル基、Ｏ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｔ−
ブチル基等があげられる。これらの中で、好適なのはｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基やトリイソプロピルシ
リル基である。これらのトリアルキルシリル基は、一般
式（１）で示されるβ−ラクタム化合物を合成する際、
安定であり、目的のβ−ラクタム化合物を取得後、比較
的容易に脱保護できるためである。

前記一般式（Ｉ）中、Ｒ４ｔ　Ｒ３ｍ　Ｒ４は具体的に
は、メチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基な
どのＣ１〜Ｃ４の低級アルキル基や、フェニル基やベン
ジル基であり、Ｒ１、Ｒ１＋　Ｒ４は各々同一または、
異なっていてもよい。これらの中で、好ましいのはＲ１
とＲ，とＲ４が同一であってメチル基、Ｒ１とＲ，が各
々メチル基でＲ４がｔ−ブチル基、Ｒ１とＲ，が各々フ
ェニル基でＲ４がｔ−ブチル基で表わされる基である。

これらの置換基を使用する際、目的とするβ−ラクタム
化合物の３−位と４−位の立体配置が望ましいトランス
体になること、およびβ−ラクタム環の３−位における
立体配置が望ましい（８）体になりやすいためである。

本発明化合物の一般式（Ｉ）で表わされるβ−ラクタム
の立体構造については、５種の不斉炭素が存在し、８種
の立体異性体の生成が可能であるが、好適には！−（Ｒ
）、４−＠の立体配置と、〇−保護ヒドロキシエチル基
における不斉炭素の配置が（ト）の化合物が望ましい。

本発明化合物の新規な４−位にシリルエーテル基を有す
るβ−ラクタム化合物の有用性は、参考例１に示すよう
に、既に有用中間体として知られている３（ト）−（１
−ヒドロキシエチル）−４（Ｒ３−アセトキシアゼチジ
ン−２−オン化合物に変換できることから明らかである
。

次に本発明化合物の製造法を説明する。

従来迄、３−位に〇−保護ヒドロキシエチル基ヲ有し、
４−位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物
の合成については知られていなかったが、本発明者らは
、エノールシリルエーテルとクロロスルホニルイソシア
ネートとの反応で、−挙に目的とするβ−ラクタム環が
形成できることを見出した。即ち、一般式 （式中、Ｒ１＋　Ｒ１＋　Ｒｉ　＋　Ｒ４は前記に同じ
）で表わされる二ノールシリルエーテル類をクロロスル
ホニルイソシアネートと反応させ、ついで還元すること
により、一般式（１） （式中、Ｒ１＋　Ｒ２＊　Ｒａ　＋　Ｒ４は前記に同じ
）で表わされるβ−ラクタム化合物を得ることができる
。この方法を反応式で示すと以下の通りである。

反応式１ 本反応における原料のエノールシリルエーテル類として
は、例示すると３−　ｔｅｒｔ−プチルジメチルシリロ
キシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテル、　５−
　ｔｅｒｔ−プチルジメチルシリロキジブテ−１−ニル
ジメチルイソブチルシリルエーテル＋３−ｔｅｒｔ−プ
チルジメチルシリロキシブテ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルエーテル、　３−ｔｅｒｔ−プチル
ジメチルシリロキシブテ−１−ニルーｔｅｒｔ−ブチル
メチルフェニルシリルエーテル、　３−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ−ブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブ
チルジフェニルシリルエーテル、３−トリイソプロビル
シリロキシブチ−１−ニルトリメチルシリルエーテル、
３−トリイソプロビルシリロキシブチ−１−二ルーｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、３−イソプロビ
ルジメチルシリロキシブチ−１−ニルトリメチルシリル
エーテル、３−アセトキシブチ−１−ニルトリメチルシ
リルエーテル、３−アセトキシブチ−１−ニルーｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、３−アセトキシブ
チ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルエー
テル、　３−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ブチ−１−ニルトリ
メチルシリルエーテル。

５−ｔｅｒｔ−ブトキシブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルエーテル、　３−　ｔｅｒｔ−ブト
キシブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリ
ルエーテル、３−ペンジルオキシカルボニルオキシブチ
−１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−ペンジルオ
キシカルボニルオキシブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルエーテル、３−ペンジルオキシカルボ
ニルオキシブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジフェニ
ルエーテル、３−ｐ−ニトロペンジルオキシカルボニル
オキシブチ−１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−
ｐ−ニトロペンジルオキシカルボニルオキシブチ−１−
二ルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、３−
１）−ニトロペンジルオキシカルボニルオキシブチ−１
−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルエーテル。

３−０−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシブチ−
１−ニルトリメチルシリルエーテル、３−〇−ニトロペ
ンジルオキシカルボニルオキシブテー１−二ルーｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、３−０−ニトロペ
ンジルオキシカルボニルオキシブチ−１−二ルーｔｅｒ
ｔ−ブチルジフェニルシリルエーテル等が採用できるが
、好ましくはＲ１がｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基
である３　−ｔｅｒｔ−プチルジメチルーシリロキシブ
テ−１−ニルトリメチルシリルエーテル、　３−ｔｅｒ
ｔ−プチルジメチルシリロキシブテ−１−二ルーｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、　５−ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルエーテル、　！−ｔｅｒｔ−プチ
ルジメチルシリ口キシブテ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチ
ルジフェニルシリルエーテル、　３−ｔｅｒｔ−プチル
ジメチルシリロキシブテ−１−ニルーｔｅｒｔ−ブチル
メチルフェニルシリルエーテル、　３−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ−ブチ−１−ニルジメチルイソブ
チルシリルエーテルが挙げられる。これらの原料は３−
ヒドロキシ酪酸エステルから以下の反応式２に従って合
成できる。

反応式２ 本発明化合物のβ−ラクタム化合物（１）において、３
−位側鎖の〇−保護ヒドロキシエチル基の立体、配置は
（Ｂ）−配置が好ましく、そのためには光学活性の３（
旬−ヒドロキシ−酪酸エステルを用いて取得すれる光学
活性のエノールシリルエーテル化合物を用い、反応式１
で示されるβ−ラクタム形成反応をおこなえばよい。

エノールシリルエーテル類とクロロスルホニルイソシア
ネートの反応によるβ−ラクタム環形成反応では、シリ
ルエーテル基の種類によって、生成するβ−ラクタムの
立体配置が異なり、チェナマイシンに代表されるカルバ
ペネム系β−ラクタム抗生物質の合成における望ましい
３（３）、４（３）配誼のβ−ラクタム化合物（１）を
得るには、シリルエーテル基がトリメチルシリル基、　
ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、　ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルメチルフェニ
ルシリル基、ジメチルイソブチルシリル基が適している
。また、エノールシリルエーテル類の水酸基の保護基で
あるＲ１については、上記の立体化学を考慮した点と、
クロロスルホニルイソシアネートとの反応性の良さから
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基が好適である。エノ
ールシリルエーテルとクロロスルホニルイソシアネート
の反応は、無溶媒下または、塩化メチレン、テトラヒド
ロフラン、ｎ−ヘキサン。

エチルエーテル等のクロロスルホニルイソシアネートお
よびエノールシリルエーテルに対して不活性である有機
溶媒を使用して実施することができる。この際の反応温
度は一７０℃から室温付近の範囲で選択することができ
るが、好ましくζよ一４０℃〜０℃の温度範囲で発熱を
抑制しつつ、エノールシリルエーテル液にクロロスルホ
ニルイソシアネートを滴下することにより達成できる。

二ノールシリルエーテルとクロロスルホニルイソシアネ
ートのモル比は１：１の当モル付近で行えばよい。

反応時間は通常１０分〜数時間の範囲内で採用される。

本反応により生成したβ−ラクタム化合物のＮ−スルホ
ニルクロリド基を還元して目的のβ−ラクタム化合物に
変換できる。還元反応における還元剤としては、水素化
リチウムアルミニウム、水素化硼素ナトリウム、等の水
素化金属化合物や、ラネーニッケル等の還元剤が採用さ
れる。また、チオフェノールやアルキルメルカプタン等
のチオール化合物も還元剤として使用できる。水素化リ
チウムアルミニウムのような水素化金属化合物を使用す
る際はテトラヒドロフランやエチルエーテル等の有機溶
剤中で還元をおこない、チオール化合物で還元する際は
これらの有機溶剤にピリジン等の塩基を共存させておこ
なう。還元反応における温度は一４０℃〜０℃の範囲で
おこなえばよい。

上記の還元剤の中では、水素化リチウムアルミニウムを
用いるのが好ましい。還元終了後、反応系に水を加え、
エチルエーテルや酢酸エチル等の有機溶媒で目的のβ−
ラクタム化合物を抽出し、硫酸マグネシウム等の脱水剤
で乾燥後、減圧上溶媒を留去して、３−位に〇−保護ヒ
ドロキシエチル基を有し、４−位にシリルエーテル基を
有するβ−ラクタム化合物を取得することができる。こ
れらのβ−ラクタム化合物は、必要により、カラムクロ
マトグラフィーにより単離精製できる。

（実施例） 次に実施例をあげて本発明を更に詳細に説明するが、本
発明はこれらの実施例のみで限定されるものではない。

実施例１ （３Ｒ，４Ｂ、ＳＲ）　−５−（１−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシエチル）−４−トリメチルシリロキ
シアゼチジン−２−オンの合成。

（３Ｂ　）　−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキ
シ−ブチ−１−ニルトリメチルシリルエーテル１、　Ｏ
ｆ　（トランス体とシス体の比が９＝１の混合物）をエ
ーテル５　ｍｌに加え、Ｎ２気流下−５゜℃に冷却、撹
拌しながらクロロスルホニルイソシアナート０．３　ｍ
ｌを２０分間かけて添加する。徐々に一４０℃へ昇温し
３０分さらに撹拌する。次に、−６０℃に再冷却し、Ｌ
ｉＡｌＨ４０，０８ｆを加える。徐々に昇温し一４０℃
で６０分撹拌する。

次に、反応混合物を氷を加えた水１５０ｍ＃とエーテル
１１００ｒの混合溶液へすばやくうつし、３０分撹拌す
る。撹拌後、ハイフロス−パーセルにより不溶物をとり
のぞき、エーテル層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。エーテルを減圧上留去すると（３Ｒ
，４Ｒ，５Ｒ）体と（３８，４８，５Ｂ）体を１０＝１
で含む目的β−ラクタムの液体ａ、ｅｙを得る。このも
のをシリカゲルカラム（ヘキサン：塩化メチレン＝５０
：１）で処理し、（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）体を主として含
む両分を集め、濃縮して０．３９のセミソリッドの目的
物を得た。

〔α）、ニー１２．４°（ｃ＝１　　（：Ｃ１４）’Ｈ
ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、００１４） δ（ｐＩ）ｍ）　　０．０８　（８Ｈ、ｓ　）、０．１
８（９Ｈ，Ｓ）、０．８８（９Ｈ，ｓ）、１．２５（３
Ｈ，ｄ）、２．９７（ＩＨ，ｄｄ）、４．１７（ＩＨ，
ｍ）、５．３７（ＩＨ，ｄ）、６．６０　（Ｉ　Ｈ、ｂ
ｒｏａｄ） 実施例２ （３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−３−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリロキシエチル）　−４−ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリロキシアゼチジン−２−オンの合成。

（３Ｒ）　−５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
−ブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエ
ーテル１．　Ｏｆ　（）ランス体とシス体の比が３＝２
の混合物）をエーテル８ｍｌに加え、Ｎ！気流下−５０
℃に冷却撹拌しながらクロロスルホニルイソシアナー）
０．２５ｍ／を１０−分間かけて添加する。徐々に一２
０℃に昇温し２０分撹拌する。

次に、−６０℃に再冷却し、ＬｉＡｌＨ４０，０６６ｆ
加える。また徐々に昇温し一４０℃で６０分撹拌する。

次に、反応混合物を氷を加えた水１００ｍ１とエーテル
１００ｍ１の混合溶液へすばやくそそぎ込み３０分撹拌
する。撹拌後、分液したエーテル層を５％Ｎ　ａＨＯｏ
　ｓ　水溶液、ｐＨ３の塩酸水溶液および飽和食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると
（３Ｒ，ＳＲ）体と（３８，ＳＲ）体を３：２で含む目
的β−ラクタム０．９ｆを得た。これをシリカゲルカラ
ム（ヘキサン：酢酸エチル＝ｌＯ：１）で精製すると、
目的の（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）β−ラクタム０．２５Ｆと
（３８，４Ｓ、ＳＲ）β−ラクタム０．１３ｇを、固体
で得た。各々の性状は以下の通りである。

（３Ｒ，４Ｒ，ＳＲ）体 〔α）＝−８，３°　（０＝Ｉ　　ＣＣ１４）’ＨＮＭ
Ｒ（９０ＭＨｚ　、ＣＤＣｌ！　）δ（ｐｐｍ）　　ｏ
、ｏ　８　（ＯＲＢ　Ｘ　２　、　Ｓ　）、０．１３（
ＯＨ３Ｘ２　、　Ｓ　）、０．９０（９Ｈ，ｓ）、０．
９３（９Ｈ，ｓ）、１．２７（ＯＨａ、ｄ）、２．９５
（ＩＨ，ｄｄ）、４．１３（ＩＨ，ｍ）、５、３７　（
Ｉ　Ｈ、ｄ　）、６．１３（ＮＨ。

ｂｒｏａｄ　） ｍｐ　　　１３１℃〜１３３℃ （３Ｓ、４Ｓ、ＳＲ）体 〔α）＝−３３，１°（Ｃ＝１　０Ｃ１４）’ＨＮＭＲ
（９０ＭＨｚ　、　ＣＤ０１ｓ　）δ（ｐｐｍ）０．Ｉ
　Ｑ　（ＯＨ，Ｘ２　、Ｓ）、０．１３（ｃＨＩＸ２．
Ｓ）、０．８８（９Ｈ，ｓ）、０．９０（９Ｈ，ｓ）、
１．３１（ＣＨａ、ｄ）、３．０５（ＩＨ，ｄｄ）、４
．２２（ＩＨ，ｍ）、５、２７　（Ｉ　Ｈ、ｄ　）、６
．５７　（Ｉ　Ｈ、ｂｒｏａｄ）ｍｌ）　　　４３℃〜
４５℃ 実施例３ （３Ｒ、４Ｒ、Ｓ　Ｒ）　−３−（１−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシエチル）　−４−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシアゼチジン−２−オンの合成。

（３Ｒ）　−３−ｔｅｒｔ−プチルジメチルシリロキシ
ブテー１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエー
テル１．　Ｏｆ　（トランス体とシス体の比が３：２の
混合物）をヘキサン８ｍｌに加え、Ｎ！気流下−５０℃
に冷却、撹拌しながらクロロスルホニルイソシアナート
０．２５　ｍｌを１０分間かけて添加する。徐々に一２
０℃へ昇温し２０分撹拌する。

次に、−６０℃に再冷却し、チオフェノール０．７１を
ヘキサン２ｍｌにとかした溶液を添加し、１０分撹拌後
、さらにピリジン０．４ｇをヘキサン２ｍｌにとかした
溶液を添加する。撹拌しながら徐々に室温まで反応液を
昇温し、反応液にヘキサンｓｏｍｚを加え、これを５％
ＮａＨＣＯ３水溶液、ｐＨ５の塩酸水溶液、飽和食塩水
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥する。ヘキサンを減
圧上留去すると（３Ｒ，４Ｒ，ＳＲ）体（３８、４８、
５Ｒ）体を３；２で含む目的β−ラクタムを０．７Ｂ得
る。これをシリカゲルカラム（ヘキサン：酢酸エチル＝
１０　：　１　）で溶出すると、（３Ｒ、４Ｒ。

ＳＲ）体β−ラクタム０．１８ｇと（５８，４Ｂ。

ＳＲ）体β−ラクタム０．１０ｇを得た。各々の性状は
実施例２に示した値と同一であった。

実施例４ （３Ｒ，４Ｒ，ＳＲ）　−３−（１−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシ）　−４−ｔｅｒｔ−ブチルメチル
フェニルシリロキシーアゼチジンー２−オンの合成。

（ｓ　ｎ　）　−５−ｔｅｒｔ−ブチＪｌ／ジメチルシ
リロキシーブテ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルメチルフ
ェニルシリルエーテル１．　Ｏｆ　（）ランス体とシス
体の比が７＝１の混合物）をエーテル５ｍｌに加え、Ｎ
２気流下−５０℃に冷却し、撹拌しながらクロロスルホ
ニルイソシアナート０．２２ｍ＃を１０分間かけて添加
する。徐々に一４０℃へ昇温し３０分さらに撹拌する。

次に、−６０℃に再冷却し、ＬｉＡｌＨ４０，０６ｆ／
を加える。徐々に昇温し一４５℃で４０分撹拌する。次
に、反応混合物を氷を加えた水１５０ｍ１とエーテル１
００ｍ１の混合溶液へすばやくうつし、３０分撹拌する
。撹拌後、分液し、有機層を５％ＮａＨＣＯ３水溶液、
ついでｐＨ３の塩酸水溶液、および飽和食塩水で洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると、粗生
成物０．９８ｙを油状物として得た。

ｎｍｒ　（ＯＤＣ１ｓ　）　　δ（ｐｐｍ）（３Ｒ，４
Ｒ，ＳＲ）体　０．００（６Ｈ，Ｓ）、０．４３（３Ｈ
，Ｓ）、０．８０（９Ｈ，ｓ）、０．９０（９Ｈ，ｓ）
、１１９（３Ｈ，ｄ）、２．９９（ＩＨ，ｄｄ）、４．
１０（１Ｈ，ｍ）、５．３５（ＩＨ，ｄ）、８．１ｌｉ
３（ＩＨ，ｄ）、７、５７　（５Ｈ、ｍ　） 実施例５ （Ｓ　Ｒ、４Ｒ、５Ｒ）　−３−（１−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）−４−ジメチルイソブチルシリ
ロキシ−アゼチジン−２−オンの合成。

（３Ｒ）　−５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
−ブチ−１−二ルジメチルイソブチルシリルエーテル１
．０９　（トランス体とシス体の比が５：１の混合物）
をエーテル６．０　ｍＡ＋に加え、Ｎ２　気流下−６０
℃に冷却し、撹拌しながらクロロスルホニルイソシアナ
ート０．２６ｒｌｌｌを１０分間かけて添加する。徐々
に一５０℃へ昇温し、３０分さらζζ撹拌する。次に、
−６０℃に再冷却し、Ｌ　ｉＡＩ　Ｈ４ｏ、−ｏ　ｅ　
ｅ　ｙ加える。徐々に昇温し一５０℃で６０分撹拌する
。反応混合物を氷を加えた水１５０ｍ１とエーテル１０
０ｍＩｌの混合溶液へすばやくうつし、３０分撹拌する
。撹拌後、分液し、有機層を５％ＮａＨＣＯ３水溶液、
ついでｐＨ３の塩酸水溶液、および飽和食塩水で洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると粗生成
物０．５９１を油状物として得た。

ｎｍｒ（ＣＤＣＩｇ）　　δ（ｐｐｍ）（３几、４Ｒ，
ＳＲ）体　０．０３（６Ｈ，ｓ）、０．１５（６Ｈ，ｓ
）、０．６０（２Ｈ，ｄ）、０．８７（９Ｉ（、Ｓ）、
０．９３（８Ｈ，ｄ）、Ｌ　２２　（３Ｈ、ｄ　）、１
．８０　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）、２．８５　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ
）、　４．１５（ＩＨ，ｍ）、５．２６（ＩＨ，ｄ）、
７．７７　（Ｉ　Ｈ。

ｂｒｏａｄ　ｓ　） 参考例１ （３Ｒ，４Ｒ）−４−アセトキシ−３−Ｃ（Ｒ）−１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−アゼチ
ジン−２−オンの合成。

（３Ｒ、Ｓ　Ｒ）　−３−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリロキシエチル）−４−トリメチルシリロキシア
ゼチジン−２−オン１．ＯｆをＤＭＦｌｏｍｌに溶解し
、これにトリエチルアミン０．８９１とｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルクロライド０．８１ｇを加え、室温下
で９時間撹拌する。反応後、ＤＭＦを減圧留去し、ヘキ
サン３０ｍ１を加えた。この溶液を２．５％ＮａＨＣＯ
５水溶液、ついでｐＨ３の塩酸水溶液、および飽和食塩
水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去す
ると、粗生成物の液体１．２４９を得る。この液体１．
Ｏｆを塩化メチレンＳｍｌに加え、さらにジメチルア主
ノビリジン０．８５Ｆと無水酢酸１．１　ｍｌを加え、
室温で６時間反応させる。次に、反応液を５％ＮａＨＣ
Ｏ３水溶液、ｐＨ３の塩酸水および飽和食塩水で洗浄後
、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を留去すると、粗
生成物の液体ｏ、ｇｙを得る。

この液体をシリカゲルカラム（ベンゼン：ヘキサン＝２
　：　１　）で精製すると（３１，４Ｒ，５Ｒ）−４−
アセトキシ−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）
　−３−（１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシロキシエチ
ル）−アゼチジン−２−オン０．５２を液体として得た
。上記の液体０．５ｆをＴＨＦ２ｍｌに加え、この溶液
にテトラブチルアンモニウムフロライド０．４ｇと酢酸
０．１７９を溶解したＴＩ（Ｆ溶液２ｍｌを添加し、室
温で３０分撹拌する。次に、この反応液に酢酸エチル２
０ｍ１　を加え、つづいて５％ＮａＨＯＯ３水溶液、お
よび飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥する
。溶媒を留去すると目的物の結晶０．３０ｆを得た。こ
れをシリカゲルカラム（ベンゼン：酢酸エチル＝６＝１
）で精製すると目的のβ−ラクタムを固体として０．２
７１得た。

ｍｐ　　１０７℃〜１０８℃ （α〕、　　＝＋５０°　（０＝０．５　０ＨＯＩｓ）
’ＨＮＭＲ（９０ＭＨｚ、ＣＤ０１３）　　δ（ｐｐｍ
）０．０８（６Ｈ，Ｓ）、０．８４（９Ｈ，ｓ）、１、
２０　（３Ｈ、ｄ　）、２．０１（３Ｈ，ｓ）、３．０
４　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ）、４．１２　（ＩＨ、ｍ）、５、
７６　（Ｉ　Ｈ、ｄ　）、６．７３（ＮＨ）参考例２ （３几）　−５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
ーブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルの合成。

（３Ｒ）　−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
ブチルアルデヒド８．Ｏｆを塩化メチレン４０ｍ１に加
える。この溶液にトリエチルアミン８．Ｏｆとトリメチ
ルシリルクロライド１２ｒＭを添加し、１３時間還流さ
せる。反応後、溶媒を留去した後、ｎ−ヘキサンを加え
、５％ＮａＨＯＯＨ水溶液、ｐＨ３の塩酸水、および飽
和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
留去すると液体１゜ｆを得た。これを減圧蒸留にかけて
ａ、ｏｇ（ｂｐ８５℃／３ｍｍＨｆ）の目的物を得た。

この化合物はトランス体とシス体の比が１５＝１の混合
物であった。

〔α〕、＝−３．２°（Ｃ＝１　００１４）ＩＨＮＭＲ
（９０ＭＨｚ、ＣＣ１４）　　トランス体δ（ｐｐｍ）
０．１１（６Ｈ，ｓ）、０．２５（９Ｈ，ｓ）、０．９
０（９Ｈ，ｓ）、１、２５　（３Ｈ、ｄ　）、４．２５
　（Ｉ　Ｈ、ｍ）、４．９５　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ）、６．
２８（ＩＨ，ｄ）参考例３ （３Ｒ）　−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
−ブチ−１−二ルーｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルエ
ーテルの合成。

（３Ｒ）　−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
ブチルアルデヒド８．ＯｆをＤＭＦ５０ｍｌに加える。

この溶液に、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロライ
ド１２．０ｇ、トリエチルアミン１８．Ｏｆを添加し、
９０℃で１３時間撹拌する。反応後、ＤＭＦを減圧下に
留去し、次にｎ−ヘキサン１００ｍ１　を加え、この溶
液を５％ＮａＨＣＯｘ水溶液、ついでｐＨ３の塩酸水、
および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を留去すると液体８．０ｇを得た。これを減圧
蒸留にかけて５．０ｆ（ｂｐ６５℃／　１１１１ｏＨｆ
　）の目的物を得た。

この化合物はトランス体とシス体の比が３：２の混合物
であった。

〔α〕、　＝−１４，９６°　（Ｃ＝２　　ＣＣ１４）
ＩＨＮＭＲ（９０ＭＨｚ、ＣＣ１４）　　δ（ｐｐｍ）
トランス体　０．０７（６Ｈ，ｓ）、０．１７（６Ｈ。

Ｓ）、０．９０　（９Ｈ，、ｓ　）、０．９７（９Ｈ。

Ｓ）、１．２０　（３Ｈ、ｄ　）、４．２０（ＩＨ。

ｍ）、４．９５　（１）Ｔ　、ｄｄ）、６．２６（ＩＩ
（。

ｄ） シス体　０．０７（６Ｈ，ｓ）、０．１７（６Ｈ，ｓ）
、０．９０（９Ｈ，ｓ）、０．９７（９Ｈ，ｓ）、１、
１５　（Ｓ　Ｈ、ｄ　）、４．２０（ＩＨ，ｍ）、４．
４８　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ）、５．９７（ＩＨ，ｄ）参考例
４ （３Ｒ）　−５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
−ブチ−１−ニルーｔｅｒｔ−ブチルメチルフェニルシ
リルエーテルの合成。

（３Ｂ　）　−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキ
シブチルアルデヒド１０．ＯｆをＤＭＦ４０ｍＡ’に加
える。この溶液にジメチルアミノピリジン６．６ｆ、　
　ｔｅｒｔ−ブチルメチルフェニルシリルクロライド１
０．４Ｆ添加し、７５℃で１４時間撹拌する。

反応後、ＤＭＦを減圧上留去し、次にｎ−ヘキサン１１
００ｒ’を加え、５％ＮａＨＣＯｉ水溶液、ｐＨ３の塩
酸水、および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を留去して液体１０．２ｇを得た。これを
シリカゲルカラム（ヘキサン：酢酸エチル＝２０：１）
で精製して７．２ｆの目的物を得た。この化合物は、ト
ランス体とシス体の比が７＝１の混合物であった。

〔α”ＩＩ、＝−６，３°（Ｃ＝　１　、　Ｃｏ１４）
ＩＨＮＣｏ１４）ＩＨＮ、ＣＤＣＩｇ）　　δ（ｐｐｍ
）トランス体　０．００（８Ｈ，ｓ）、０．４０（３Ｈ
。

Ｓ）、０．８５（９Ｈ，Ｓ）、０．９３（９Ｈ。

Ｓ）、１．１８（３Ｈ，ｄ）、４．２０（ＩＨ。

ｍ）、５．ｏ　６　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ）、６．３５（ＩＨ
。

ｄ）、７．４０　（５Ｈ、ｍ　） 参考例５ （３Ｒ）　−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ
−ブチ−１−二ルジメチルイソブチルシリルエーテルの
合成。

（３Ｒ）　−３−ｔｅｒｔ−プチルジメチルシリロキシ
ブｆ　ＪＬ／　７　ＪＬ／デヒド２ｏ、ｏｙをＤＭＦ８
０．ＯｒＭに加える。この溶液にＴＭＥＤＡ　１８．３
ｍｌとイソブチルジメチルシリルクロライド１４．８Ｆ
を添加し３時間８０℃で撹拌する。反応後１、溶媒を留
去した後、ｎ−ヘキサンを加え５％ＮａＨＣＯＨ水溶液
、ｐＨ３の塩酸水、および飽和食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると１６．５ｆの液
体を得た。これをシリカゲルカラム（ｎ−ヘキサン；酢
酸エチル＝２０：１）で処理し、トランス体とシス体の
比が５：１の目的物１０．６ｇを得た。

（ｄ）、　＝−６，０°　（Ｃ＝１　、０ＣＩ４）’Ｈ
ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、ＣＤＣＩｇ）　　　δ（ｐｐｍ）
トランス体　０．０３（６Ｈ，ｓ）、０．１５（６Ｈ。

Ｓ）、０．６０（２Ｈ，ｄ）、０．８５（９Ｈ。

Ｓ）、０．９０（６Ｈ，ｄ）、１．１５（３Ｈ。

ｄ）、１．８０（ＩＨ，ｍ）、４．２０（ＩＨ。

ｍ）、４．９５　（Ｉ　Ｈ、ｄｄ）、６．２６（ＩＨ。

ｄ）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＿１は▲数式、化学式、表等があります▼（
   Ｒ＿５、Ｒ＿６、Ｒ＿７はＣ＿１〜Ｃ＿４の低級アルキ
   ル基）で表わされる水酸基の保護基、Ｒ＿２、Ｒ＿３、
   Ｒ＿４はＣ＿１〜Ｃ＿４の低級アルキル基、フェニル基
   またはアラルキル基を示す。〕 で表わされるβ−ラクタム化合物。
2. （２）Ｒ＿１がｔ−ブチルジメチルシリル基である特許
   請求の範囲第１項記載の化合物。