JPS61165379A - 新規レゾルシン誘導体およびその製造法 - Google Patents
新規レゾルシン誘導体およびその製造法Info
- Publication number
- JPS61165379A JPS61165379A JP465685A JP465685A JPS61165379A JP S61165379 A JPS61165379 A JP S61165379A JP 465685 A JP465685 A JP 465685A JP 465685 A JP465685 A JP 465685A JP S61165379 A JPS61165379 A JP S61165379A
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- dibromo
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- epichlorohydrin
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は新規なレゾルシン誘導体およびその製造法に関
し、詳しくは下記一般式(I)b「 (I) で示される4、6−ジプロモー2−メチル−1,3−フ
ェニレンジグリシジルエーテルおよびその製造法に関す
るものである。
し、詳しくは下記一般式(I)b「 (I) で示される4、6−ジプロモー2−メチル−1,3−フ
ェニレンジグリシジルエーテルおよびその製造法に関す
るものである。
本発明の物質(I>は電気・電子産業用の絶縁材料とし
て有用な化合物である。
て有用な化合物である。
従来釜゛くのエポキシ樹脂が、電気・電子絶縁材料とし
て用いられているが、最近の電気・電子産業の高密度化
、高信頼性に伴う難燃性の要求を必ずしも満足するもの
ではなかった。
て用いられているが、最近の電気・電子産業の高密度化
、高信頼性に伴う難燃性の要求を必ずしも満足するもの
ではなかった。
C発明が解決しようとする問題点および問題点を解決す
るための手段〕 本発明物質(I)は、臭素含有率が高いため、難燃性の
点で特長を有し、又、多官能エポキシ化合物であるため
架橋密度が増大し、耐熱性の点で優れた特長を有する。
るための手段〕 本発明物質(I)は、臭素含有率が高いため、難燃性の
点で特長を有し、又、多官能エポキシ化合物であるため
架橋密度が増大し、耐熱性の点で優れた特長を有する。
次に本発明の内容を更に詳細に説明する。
本発明物質は、一般式(I)
r
(I)
で示される4、6−ジプロモー2−メチル−1,3−フ
ェニレンジグリシジルエーテルであり、これは文献等に
未記載の新規化合物である。
ェニレンジグリシジルエーテルであり、これは文献等に
未記載の新規化合物である。
本発明の物質は、一般式(II)
で示される4、6−ジプロモー2−メチルレゾルシンを
、エビクOルヒドリン、アルカリと触媒を用いて反応さ
せ、グリシジル化反応せしめることによって、有利に製
造することができる。
、エビクOルヒドリン、アルカリと触媒を用いて反応さ
せ、グリシジル化反応せしめることによって、有利に製
造することができる。
なお、グリシジル化反応は、以下の第1工程乃至第3工
程よりなる。
程よりなる。
く第1工程〉
4.6−ジプロモー2−メチルレゾルシン(II)と過
剰のエピクロルヒドリンを触媒の存在化反応させ、4.
6−ジプロモー2−メチル−1,3−フェニルクロルヒ
ドリンエーテルを得る工程である。
剰のエピクロルヒドリンを触媒の存在化反応させ、4.
6−ジプロモー2−メチル−1,3−フェニルクロルヒ
ドリンエーテルを得る工程である。
上記エピクロルヒドリンの使用量は、原料4.6−ジプ
ロモー2−メチルレゾルシンに対して2〜20倍モル好
ましくは6〜16倍モルである。触媒としては、相間移
動触媒が好ましく、これによって効率よく反応がなされ
る。
ロモー2−メチルレゾルシンに対して2〜20倍モル好
ましくは6〜16倍モルである。触媒としては、相間移
動触媒が好ましく、これによって効率よく反応がなされ
る。
相間移動触媒としては、テトラメチルアンモニウムクロ
リド、テトラエチルアンモニウムプロミド、ベンジルト
リエチルアンモニウムプロミド等の第4級アンモニウム
塩、テトラメチルホスホニウムクロリド、メチルトリフ
ェニルホスホニウムプロミド等のホスホニウム塩が挙げ
られる。
リド、テトラエチルアンモニウムプロミド、ベンジルト
リエチルアンモニウムプロミド等の第4級アンモニウム
塩、テトラメチルホスホニウムクロリド、メチルトリフ
ェニルホスホニウムプロミド等のホスホニウム塩が挙げ
られる。
その他の触媒としては、臭化カリウム、塩化カリウム等
のハロゲン化アルカリ金属類などを挙げることができる
。用いるべき触媒量は、原料100重量部に対して0.
05〜5.0重量部程度である。これらは単一、あるい
は混合して使用することもできる。
のハロゲン化アルカリ金属類などを挙げることができる
。用いるべき触媒量は、原料100重量部に対して0.
05〜5.0重量部程度である。これらは単一、あるい
は混合して使用することもできる。
反応温度は、通常20〜120℃好ましくは40〜10
0℃である。反応時間は実質的に反応が終了するまでで
あり、反応温度によって異なるが通常1〜20時間、好
ましくは6〜15時間である。
0℃である。反応時間は実質的に反応が終了するまでで
あり、反応温度によって異なるが通常1〜20時間、好
ましくは6〜15時間である。
〈第2工程〉
第1工程にて得た4、6−ジプロモー2−メチル−1,
3−フェニレンジクロルヒドリンエーテルを過剰のエピ
クロルヒドリンの存在下、アルカリを用いて脱ハロゲン
化水素反応を行わせ次いでエピクロルヒドリン、塩化ナ
トリウムを除去する工程である。
3−フェニレンジクロルヒドリンエーテルを過剰のエピ
クロルヒドリンの存在下、アルカリを用いて脱ハロゲン
化水素反応を行わせ次いでエピクロルヒドリン、塩化ナ
トリウムを除去する工程である。
アルカリとしては、例えば水酸化ナトリウム。
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム
等が挙げられるが、これらを単一あるいは混合して使用
することができる。
等が挙げられるが、これらを単一あるいは混合して使用
することができる。
反応系は、50〜300T Orrの減圧条件下で行い
反応等から発生した水はエピクロルヒドリンと共沸させ
、留去し、閉環反応を進める。
反応等から発生した水はエピクロルヒドリンと共沸させ
、留去し、閉環反応を進める。
反応濃度は、減圧条件によって異なるが、30〜100
℃好ましくは40〜70℃である。
℃好ましくは40〜70℃である。
反応時間は反応温度等によって異なるが、通常3〜20
時間好ましくは6〜15時間である。
時間好ましくは6〜15時間である。
又、アルカリの添加により反応系内のI)Hが高くなる
が、重合を防ぐためpH7〜11.0に保つことが好ま
しい。
が、重合を防ぐためpH7〜11.0に保つことが好ま
しい。
過剰のエピクロルヒドリンは、減圧蒸留によって留去し
、副生じた塩化ナトリウムを濾過又は水洗によって除去
し、粗製4.6−ジプロモー2−メチル−1−3−フェ
ニレンジグリシジルエーテルを得る。
、副生じた塩化ナトリウムを濾過又は水洗によって除去
し、粗製4.6−ジプロモー2−メチル−1−3−フェ
ニレンジグリシジルエーテルを得る。
く第3工程〉
第2工程で得られた粗製4,6−ジプOモー2−メチル
−1,3−フェニレンジグリシジルエーテルを有機溶媒
に溶解し、残存する加水分解性塩素を少量のアルカリを
用いて、第2回目の脱ハロゲン水素反応を行う工程であ
る。
−1,3−フェニレンジグリシジルエーテルを有機溶媒
に溶解し、残存する加水分解性塩素を少量のアルカリを
用いて、第2回目の脱ハロゲン水素反応を行う工程であ
る。
アルカリとしては、第2工程同様、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム。
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム。
炭酸水素ナトリウム等が挙げられる。アルカリの使用但
は原料の4.6−ジプロモー2−メチルレゾルシンに対
して0.05〜0.6倍モルである。
は原料の4.6−ジプロモー2−メチルレゾルシンに対
して0.05〜0.6倍モルである。
添加方式は、10〜50重量%好ましくは、10〜25
重1%の水溶液とし、滴下する。
重1%の水溶液とし、滴下する。
反応温度は20〜120℃好ましくは50〜90℃であ
る。
る。
反応時間は反応温度等によって異なるが、1〜12時間
好ましくは4〜9時間である。
好ましくは4〜9時間である。
以下実施例を挙げてさらに具体的に説明するが、これら
実施例は例示であり、本発明がこの例示によって制限さ
れるものではない。
実施例は例示であり、本発明がこの例示によって制限さ
れるものではない。
〔実施例1〕
4.6−ジプロモー2−メチルレゾルシン282g(1
,0モル)、エピクロルヒドリン740 g(8,0モ
ル)、テトラメチルアンモニウムプロミド4.2gを温
度計、還流器、撹拌装置、エピクロルヒドリン−水を分
離する装置を付したフラスコに仕込み、60℃で10時
間反応させた。
,0モル)、エピクロルヒドリン740 g(8,0モ
ル)、テトラメチルアンモニウムプロミド4.2gを温
度計、還流器、撹拌装置、エピクロルヒドリン−水を分
離する装置を付したフラスコに仕込み、60℃で10時
間反応させた。
次いで、33%炭酸ナトリウム水溶液327g(1,0
モル)を4時間にわたって滴下した。
モル)を4時間にわたって滴下した。
この際、系内を100T orrに保ち、系内の水をエ
ピクロルヒドリンと共沸させて除去し、エピクロルヒド
リンは系内に′@環させつつ反応を行った。
ピクロルヒドリンと共沸させて除去し、エピクロルヒド
リンは系内に′@環させつつ反応を行った。
アルカリ滴下後、6時間撹拌を続けた後、エピクロルヒ
ドリンを減圧上蒸留によって除去した。
ドリンを減圧上蒸留によって除去した。
次いでメチルエチルケトンを加え、副生じた塩を濾過に
より除去した後、温度計、冷却還流器、撹拌装置付した
フラスコに仕込んだ。
より除去した後、温度計、冷却還流器、撹拌装置付した
フラスコに仕込んだ。
20%炭酸ナトリウム水溶液162g(0,3モル)を
70℃4時間で滴下し、さらに70℃で3時間撹拌を行
った後、メチルエチルケトンを減圧蒸留にて除去した。
70℃4時間で滴下し、さらに70℃で3時間撹拌を行
った後、メチルエチルケトンを減圧蒸留にて除去した。
次いでクロロホルム1000dを加えて、グリシジルエ
ーテルを溶解し、純水500dで6回洗浄し、反応で副
生じた塩化ナトリウムを除去した。
ーテルを溶解し、純水500dで6回洗浄し、反応で副
生じた塩化ナトリウムを除去した。
有機層を分離しクロロホルムを留去し得られた粉体を減
圧乾燥して、4.6−ジプロモー2−メチル−1,3−
フェニレンジグリシジルエーテル3609 (0,93
1101)を得た。
圧乾燥して、4.6−ジプロモー2−メチル−1,3−
フェニレンジグリシジルエーテル3609 (0,93
1101)を得た。
〔実施例2〕
実施例1において、テトラメチルアンモニウムプロミド
の代りに、ベンジルトリエチルアンモニウムプロミドを
使用し、実施例1と同様の操作を行った。
の代りに、ベンジルトリエチルアンモニウムプロミドを
使用し、実施例1と同様の操作を行った。
〔実施例3〕
実施例1において、アルカリとして炭酸ナトリウムの代
りに、水酸化ナトリウムを用いて、実施例1と同様の操
作を行なった。
りに、水酸化ナトリウムを用いて、実施例1と同様の操
作を行なった。
〔実施例4〕
実施例1において、アルカリとして炭酸ナトリウムの代
りに水酸化ナトリウムと炭酸ナトリウムを混合し用いて
、実施例1と同様の操作を行なった。
りに水酸化ナトリウムと炭酸ナトリウムを混合し用いて
、実施例1と同様の操作を行なった。
以上の実施例を表1にまとめて示した。
又得られた目的化合物の融点及び赤外吸収スペクトル(
IRスペクトル)、′H−核磁気共鳴スベクトル(NM
Rスペクトル)の分析結果を表2に示す。
IRスペクトル)、′H−核磁気共鳴スベクトル(NM
Rスペクトル)の分析結果を表2に示す。
l【=二L
*1) 部数は固形分で表示
*2) 対理論収率
表−2
第1図は本発明物質のIRスペクトルを示す図表であり
、第2図は本発明物質のNMRスベ 。 クトルを示す図表である。 手続補正書輸発) 昭和60年6月26日
、第2図は本発明物質のNMRスベ 。 クトルを示す図表である。 手続補正書輸発) 昭和60年6月26日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で示される新規4,6−ジブロモ−2−メチル−1,3
−フェニレンジグリジルエーテル。 2)一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される4,6−ジブロモ−2−メチル−レゾルシン
を、エピクロルヒドリンと、触媒を使用して、グリシジ
ル化することを特徴とする4,6−ジブロモ−2−メチ
ル−1,3−フェニレングリシジルエーテルの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP465685A JPS61165379A (ja) | 1985-01-14 | 1985-01-14 | 新規レゾルシン誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP465685A JPS61165379A (ja) | 1985-01-14 | 1985-01-14 | 新規レゾルシン誘導体およびその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61165379A true JPS61165379A (ja) | 1986-07-26 |
Family
ID=11589983
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP465685A Pending JPS61165379A (ja) | 1985-01-14 | 1985-01-14 | 新規レゾルシン誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61165379A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06124672A (ja) * | 1991-03-08 | 1994-05-06 | Sanko:Kk | 物質の気化装置 |
WO1994015986A2 (en) * | 1993-01-15 | 1994-07-21 | Indspec Chemical Corporation | Substituted resorcinol-based epoxy resins |
-
1985
- 1985-01-14 JP JP465685A patent/JPS61165379A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06124672A (ja) * | 1991-03-08 | 1994-05-06 | Sanko:Kk | 物質の気化装置 |
WO1994015986A2 (en) * | 1993-01-15 | 1994-07-21 | Indspec Chemical Corporation | Substituted resorcinol-based epoxy resins |
WO1994015986A3 (en) * | 1993-01-15 | 1994-09-29 | Indspec Chemical Corp | Substituted resorcinol-based epoxy resins |
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