JPS6138205B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6138205B2 JPS6138205B2 JP10813378A JP10813378A JPS6138205B2 JP S6138205 B2 JPS6138205 B2 JP S6138205B2 JP 10813378 A JP10813378 A JP 10813378A JP 10813378 A JP10813378 A JP 10813378A JP S6138205 B2 JPS6138205 B2 JP S6138205B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- paraoxybenzoic acid
- epihalohydrin
- epichlorohydrin
- epoxy resin
- added
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 17
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 11
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 11
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FWYSSOIRLVHQNC-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;acetate Chemical compound CC([O-])=O.C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 FWYSSOIRLVHQNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N epibromohydrin Chemical compound BrCC1CO1 GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はパラオキシ安息香酸からの高純度エポ
キシ樹脂の製法の改良に関する。
キシ樹脂の製法の改良に関する。
パラオキシ安息香酸からの高純度エポキシ樹脂
（エポキシ当量約125〜140）は約47〜63℃の範囲
の融点を有する結晶で、粉体塗料の硬化剤などと
して有用であ。その製法としては、パラオキシ安
息香酸及びエピクロルヒドリンから常法により得
られるエポキシ樹脂を高真空で蒸留し、必要に応
じさらに再結晶などの精製を行う方法が知られて
いるに過ぎない。
（エポキシ当量約125〜140）は約47〜63℃の範囲
の融点を有する結晶で、粉体塗料の硬化剤などと
して有用であ。その製法としては、パラオキシ安
息香酸及びエピクロルヒドリンから常法により得
られるエポキシ樹脂を高真空で蒸留し、必要に応
じさらに再結晶などの精製を行う方法が知られて
いるに過ぎない。
本発明らは、高真空蒸留などのための高価な装
置を要することなく高純度エポキシ樹脂を製造す
る方法について種々研究を重ねた結果、本発明を
完成した。
置を要することなく高純度エポキシ樹脂を製造す
る方法について種々研究を重ねた結果、本発明を
完成した。
本発明は、パラオキシ安息香酸を、触媒として
の四級アンモニウム塩及びパラオキシ安息香酸１
モルに対し２当量以下の塩基の存在下にエピハロ
ヒドリンと反応させ、次いで未反応のエピハロヒ
ドリンを反応混合物より分離したのち、反応生成
物をさらにパラオキシ安息香酸１モルに対し0.6
当量以下の塩基と反応させることを特徴とする、
パラオキシ安息香酸からの高純度エポキシ樹脂の
製法である。
の四級アンモニウム塩及びパラオキシ安息香酸１
モルに対し２当量以下の塩基の存在下にエピハロ
ヒドリンと反応させ、次いで未反応のエピハロヒ
ドリンを反応混合物より分離したのち、反応生成
物をさらにパラオキシ安息香酸１モルに対し0.6
当量以下の塩基と反応させることを特徴とする、
パラオキシ安息香酸からの高純度エポキシ樹脂の
製法である。
本発明の方法によれば、高真空蒸留及び再結晶
のような操作を要しないので、目的物質である高
純度エポキシ樹脂が極めて高収率でかつ安価に得
られる。また温和な条件で反応を行いうるので、
エピハロヒドリンの回収率が高い。
のような操作を要しないので、目的物質である高
純度エポキシ樹脂が極めて高収率でかつ安価に得
られる。また温和な条件で反応を行いうるので、
エピハロヒドリンの回収率が高い。
塩基としては、たとえば水酸化アルカリ、炭酸
アルカリ等の無機塩基又は三級アミンなどが用い
られる。塩基の使用量はパラオキシ安息香酸１モ
ルに対し、エピハロヒドリンとの反応時には２当
量以下、好ましくは1.8〜２当量、さらにエピハ
ロヒドリンを反応混合物から分離したのちは0.6
当量以下、好ましくは0.2〜0.5当量である。
アルカリ等の無機塩基又は三級アミンなどが用い
られる。塩基の使用量はパラオキシ安息香酸１モ
ルに対し、エピハロヒドリンとの反応時には２当
量以下、好ましくは1.8〜２当量、さらにエピハ
ロヒドリンを反応混合物から分離したのちは0.6
当量以下、好ましくは0.2〜0.5当量である。
触媒として用いられる四級アンモニウム塩とし
ては、たとえばテトラメチルアンモニウムクロリ
ド、テトラエチルアンモニウムクロリド、ベンジ
ルトリメチルアンモニウムアセテートなどのテト
ラアルキル型又はベンジルトリアルキル型のもの
が好ましい。四級アンモニウム塩の使用量は、パ
ラオキシ安息香酸１モルに対し１〜50モル％、好
ましくは３〜20モル％である。
ては、たとえばテトラメチルアンモニウムクロリ
ド、テトラエチルアンモニウムクロリド、ベンジ
ルトリメチルアンモニウムアセテートなどのテト
ラアルキル型又はベンジルトリアルキル型のもの
が好ましい。四級アンモニウム塩の使用量は、パ
ラオキシ安息香酸１モルに対し１〜50モル％、好
ましくは３〜20モル％である。
エピハロヒドリンとしては、たとえばエピクロ
ルヒドリン又はエピブロムヒドリンが用いられる
が、特にエピクロルヒドリンが好ましい。エピハ
ロヒドリンはパラオキシ安息香酸１モルに対し、
４倍モル以上、好ましくは７倍モル以上の量で用
いられる。未反応のエピハロヒドリンは反応終了
後に容易に回収され、再び反応に使用できる。
ルヒドリン又はエピブロムヒドリンが用いられる
が、特にエピクロルヒドリンが好ましい。エピハ
ロヒドリンはパラオキシ安息香酸１モルに対し、
４倍モル以上、好ましくは７倍モル以上の量で用
いられる。未反応のエピハロヒドリンは反応終了
後に容易に回収され、再び反応に使用できる。
本発明を実施するに際しては、たちえばエピク
ロルヒドリンにパラオキシ安息香酸を添加し、加
熱下に四級アンモニウム塩水溶液を滴加したの
ち、水酸化アルカリ水溶液を滴加して反応させ
る。未反応のエピクロルヒドリンを減圧蒸留によ
り回収し、残留物に疎水性有機溶媒たとえばベン
ゼンを加え、析出した塩化アルカリを去する。
液を水洗したのち、ベンゼン層に水酸化アルカ
リ溶液を加えさらに反応させる。反応混合物に水
を加え、過剰の水酸化アルカリ及び析出した塩化
アルカリを洗浄除去する。疎水性有機溶媒層から
溶媒を留去すると、高純度エポキシ樹脂（エポキ
シ当量約125〜140、融点範囲約47〜63℃）が得ら
れる。反応温度は通常は50〜120℃、好ましくは
60〜110℃である。
ロルヒドリンにパラオキシ安息香酸を添加し、加
熱下に四級アンモニウム塩水溶液を滴加したの
ち、水酸化アルカリ水溶液を滴加して反応させ
る。未反応のエピクロルヒドリンを減圧蒸留によ
り回収し、残留物に疎水性有機溶媒たとえばベン
ゼンを加え、析出した塩化アルカリを去する。
液を水洗したのち、ベンゼン層に水酸化アルカ
リ溶液を加えさらに反応させる。反応混合物に水
を加え、過剰の水酸化アルカリ及び析出した塩化
アルカリを洗浄除去する。疎水性有機溶媒層から
溶媒を留去すると、高純度エポキシ樹脂（エポキ
シ当量約125〜140、融点範囲約47〜63℃）が得ら
れる。反応温度は通常は50〜120℃、好ましくは
60〜110℃である。
実施例 １
エピクロルヒドリン925.3ｇにパラオキシ安息
香酸138ｇを加え、80℃に加熱する。これにベン
ジルトリメチルアンモニウムクロリドの60％水溶
液14.2ｇを２時間に滴加したのち、１時間80℃に
保つ。次いで50％水酸化ナトリウム水溶液160ｇ
を同じ温度で３時間に滴加する。滴加終了後エピ
クロルヒドリンを減圧蒸留により回収し、残留物
にベンゼン1.3を加え、析出した塩化テトリウ
ムを去する。液を水500mlで洗浄したのち、
ベンゼン層に50％水酸化ナトリウム水溶液35.3ｇ
を加え、１時間加熱還流する。次いで水500mlを
加えて過剰の水酸化ナトリウム及び析出した塩化
ナトリウムを洗浄除去する。ベンゼン層からベン
ゼンを留去すると、エポキシ樹脂240ｇ（収率95
％）が得られる。この樹脂のエポキシ当量は
132、融点は52〜58℃である。エピクロルヒドリ
ンの回収率は理論値の97％である。
香酸138ｇを加え、80℃に加熱する。これにベン
ジルトリメチルアンモニウムクロリドの60％水溶
液14.2ｇを２時間に滴加したのち、１時間80℃に
保つ。次いで50％水酸化ナトリウム水溶液160ｇ
を同じ温度で３時間に滴加する。滴加終了後エピ
クロルヒドリンを減圧蒸留により回収し、残留物
にベンゼン1.3を加え、析出した塩化テトリウ
ムを去する。液を水500mlで洗浄したのち、
ベンゼン層に50％水酸化ナトリウム水溶液35.3ｇ
を加え、１時間加熱還流する。次いで水500mlを
加えて過剰の水酸化ナトリウム及び析出した塩化
ナトリウムを洗浄除去する。ベンゼン層からベン
ゼンを留去すると、エポキシ樹脂240ｇ（収率95
％）が得られる。この樹脂のエポキシ当量は
132、融点は52〜58℃である。エピクロルヒドリ
ンの回収率は理論値の97％である。
実施例 ２
エピクロルヒドリン925.3ｇにパラオキシ安息
香酸138ｇを加え、80℃に加熱する。これにテト
ラエチルアンモニウムクロリドの60％水溶液8.5
ｇを２時間に滴加したのち、以下実施例１と同様
に操作すると、エポキシ樹脂240ｇ（収率95％）
が得られる。この生成物のエポキシ当量は134、
融点は51〜59℃ある。エピクロルヒドリンの回収
率は理論値の97％である。
香酸138ｇを加え、80℃に加熱する。これにテト
ラエチルアンモニウムクロリドの60％水溶液8.5
ｇを２時間に滴加したのち、以下実施例１と同様
に操作すると、エポキシ樹脂240ｇ（収率95％）
が得られる。この生成物のエポキシ当量は134、
融点は51〜59℃ある。エピクロルヒドリンの回収
率は理論値の97％である。
Claims (1)
- １ パラオキシ安息香酸を、触媒としての四級ア
ンモニウム塩及びパラオキシ安息香酸１モルに対
し２当量以下の塩基の存在下にエピハロヒドリン
と反応させ、次いで未反応のエピハロヒドリンを
反応混合物から分離したのち、反応生成物をさら
にパラオキシ安息香酸１モルに対し0.6当量以下
の塩基と反応させることを特徴とする、パラオキ
シ安息香酸からの高純度エポキシ樹脂の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10813378A JPS5536205A (en) | 1978-09-05 | 1978-09-05 | Preparation of highly pure epoxy resin from paraoxybenzoic acid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10813378A JPS5536205A (en) | 1978-09-05 | 1978-09-05 | Preparation of highly pure epoxy resin from paraoxybenzoic acid |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5536205A JPS5536205A (en) | 1980-03-13 |
| JPS6138205B2 true JPS6138205B2 (ja) | 1986-08-28 |
Family
ID=14476760
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10813378A Granted JPS5536205A (en) | 1978-09-05 | 1978-09-05 | Preparation of highly pure epoxy resin from paraoxybenzoic acid |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5536205A (ja) |
-
1978
- 1978-09-05 JP JP10813378A patent/JPS5536205A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5536205A (en) | 1980-03-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2809942A (en) | Process for making polyglycidyl cyanurates | |
| JP2001511170A (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
| ES8503345A1 (es) | Un procedimiento para preparar derivados glicidilicos de compuestos que tienen al menos un grupo hidroxilo aromatico o un grupo amino aromatico por molecula. | |
| JPS61168617A (ja) | 高純度臭素化エポキシ樹脂の製造法 | |
| JPS6138205B2 (ja) | ||
| JP2627645B2 (ja) | アミノフェノール類のトリグリシジル誘導体の製造法 | |
| JPS5821632B2 (ja) | シクロアルカノン ノ セイゾウホウホウ | |
| JPS6338029B2 (ja) | ||
| SU562199A3 (ru) | Способ получени полиглицидиловых соединений, содержащих -гетероциклы | |
| KR20000070825A (ko) | 에폭시 화합물의 제조방법 | |
| JPH0212471B2 (ja) | ||
| US2623069A (en) | Method of producing 4-chlorobutane-1-sulfonyl chloride | |
| SU1093243A3 (ru) | Способ получени бензоилцианида | |
| JPH02180878A (ja) | ポリグリシジルエーテルの製造方法 | |
| AU590128B2 (en) | Synthesis of n-epoxypropyl lactams | |
| JPH0656811A (ja) | グリシジルビニルエーテルの製造方法 | |
| JPS61165379A (ja) | 新規レゾルシン誘導体およびその製造法 | |
| JPH10316665A (ja) | 置換イソシアヌレートの製造方法 | |
| JP2000204136A (ja) | 液状エポキシ樹脂の製造方法 | |
| JPH11116561A (ja) | エポキシ化合物の製造方法 | |
| JPS6316408B2 (ja) | ||
| JPH07149873A (ja) | 低分子量ポリ臭素化エポキシ化合物の製造方法 | |
| US3083203A (en) | Method for preparing n, n'-dimethyltriethylenediammonium dinitrate | |
| US4673749A (en) | Process for producing an indoline | |
| EP0163506B1 (en) | Process for the preparation of a pyridil-propanoic acid |