JPS61114560A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JPS61114560A
JPS61114560A JP59236164A JP23616484A JPS61114560A JP S61114560 A JPS61114560 A JP S61114560A JP 59236164 A JP59236164 A JP 59236164A JP 23616484 A JP23616484 A JP 23616484A JP S61114560 A JPS61114560 A JP S61114560A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
protrusion
weld ring
shell
seam welding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59236164A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Yajima
興一 矢嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP59236164A priority Critical patent/JPS61114560A/ja
Publication of JPS61114560A publication Critical patent/JPS61114560A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16195Flat cap [not enclosing an internal cavity]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/163Connection portion, e.g. seal
    • H01L2924/16315Shape

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は半導体装置に関するもので、特にセラミック型
の半導体装置に関する。
〔発明の技術的背景〕
セラミックパッケージ等の半導体装置には金属製の蓋を
シーム溶接によって気密封止をするものがある。これは
第4図の斜視図に示すように例えば半導体チップ(図示
せず)を中央部に搭載し、外部リード2を備えたセラミ
ックベース1の上にウェルドリングと称されるニッケル
メッキおよび金メッキを施したコバール等の金属フレー
ム3を銅ろう付けし、第5図の部分断面図に示すように
コバールあるいは4270イ等の金属@!薄板蓋(シェ
ル)4を載せ、このN4とウェルドリンク3の境界部に
同時に接触するような円錐台形状をなす電極5を使用し
て集中電流を流し全周にわたってシーム溶接を行なう。
このような溶接方法はパラレルギャップシーム溶接また
はパラレルシーム溶接と称される。
〔背景技術の問題点〕
しかしながら、このような従来の半導体装置では、各部
品の寸法公差の影響、およびウェルドリンク3あるいは
金属蓋4がセラミックベース1の中心に正確に位置決め
されない場合、また電極5の位置ずれがあった場合等に
は電極5と溶接を行なうべきウェルドリンク3および金
属蓋4どの位N関係が不適当となり加圧力不足からスパ
ーク等が発生してシーム溶接が良好に行なわれないとい
う問題がある。このような事故が多発したときは歩留り
が低下する。
〔発明の目的〕
本発明はこのような問題点を解決しようとしてなされた
もので、シールが完全に行なえ、歩留りを向上させるこ
とのできる半導体装置を提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
上記目的達成のため、本発明においてはベース上面の封
止領域周縁部に搭載された金属フレームの上面に連続し
た突起を設け、この上に載置された金属板を加圧通電す
ることによりシーム溶接を行なうようにしており、確実
なシーム溶接を可能ならしめるものである。
〔発明の実施例〕
以下図面を参照しながら本発明の実施例のいくつかを説
明する。なお、従来例と同じ部分には同一の符号を付す
ものとし、説明を省略する。
第1図は本発明にかかる半導体装置の構成および製造方
法を示す部分断面図であって、ウェルドリング11の上
面には突起12が形成されている。
この様子は第2図の斜視図に示されており、ウェルドリ
ンク11の上面中央部に断面が略三角形状の突起12が
連続して周回するように形成されている。
このようなウェルドリング11の上にシェルを載せ、そ
の上から円筒ローラ型の電極13を押しつけ、まず六方
向に、次に載物台を90°回転させてB方向に回転移動
させることによりシーム溶接が行なわれる。このときウ
ェルドリング上の突起とシェルとの間で多少寸法精度お
よび位置精度にずれが生じていても接触が確実であり、
スパークが発生したり、通電不良が発生するようなこと
はなく、安定したシーム溶接が可能となる。
第3図に、各種の突起12を有するウェルドリンク11
の断面形状を示す。
第3図(a)は第1図および第2図に示したウェルドリ
ングのほぼ中央部に断面略三角形状の突起を設けた例、
第3図(1))同断面の突起をウェルドリングの最外周
部に設けた例、同様に第3図(C)は断面半円状の突起
を中央部に、第3図(d)は同断面の突起を最外周部に
設けた例、第3図(e)はウェルドリングの断面形状を
半円状とし全体として突起を形成した例、第3図(f)
は同様にウェルドリングの断面形状を三角形状を基本と
した突状とし全体として突起を形成した例を示している
このようなウェルドリングは素材をプレスまたはエツチ
ングで抜いた後、コイニングを施すこと等により形成す
ることができる。
第3図に示した各突起はいずれもシーム溶接の際良好な
溶接性を示すが、特に第3図(b)および(d)のよう
に最外周部に突起が形成されている例では溶接後の溶接
品質の外Il!観察が容易であるという利点がある。
以上の実施例においてはウェルドリングの平面形状は矩
形であったが円形状のものにも本発明を適用することが
、できる。
また、ウェルドリングおよびシェルの材料は実施例に示
したものの他、ベース材料の熱膨張係数と近似した熱膨
張係数を有する金属材料であればいずれも使用すること
ができる。
〔発明の効果〕
以上のように、本発明においては金属薄板蓋体を載置す
る金属製枠体の上面に連続した突起を備えているので、
シーム溶接の際に蓋体と枠体の接触が良好でスパークや
通電不良の発生が起りにくく安定したシーム溶接が行な
われ歩留りが向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明にがかる半導体装置の構成とその製造方
法を示す部分断面図、第2図は本発明の特徴部分である
枠体を示す斜視図、第3図は枠体上面に設けられた突起
を示す断面図、第4図は従来の半導体装置を示す斜視図
、第5図はその構成と製造方法を示す部分断面図である
。 1・・・ベース、3.11・・・つ1ルドリング、4・
・・シェル、5.13・・・電極、12・・・突起。 出願人代理人  猪  股    清 丁 ’$3[21

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体チップを搭載すると共に外部接続用のリード
    を備えた絶縁体ベースと、 この絶縁体ベース上面の封止領域周縁部に固着され、そ
    の上面に連続した突起部を有する金属製枠体と、 この金属製枠体上に載置され、前記突起部との間でシー
    ム溶接により封止固着された金属薄板蓋体と、 を備えた半導体装置。 2、突起部が断面略三角形状である特許請求の範囲第1
    項記載の半導体装置。 3、突起部が断面略半円形状である特許請求の範囲第1
    項記載の半導体装置。 4、突起部が枠体上の最外周部に形成されたことを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 5、枠体および蓋体がコバールより成る特許請求の範囲
    第1項記載の半導体装置。
JP59236164A 1984-11-09 1984-11-09 半導体装置 Pending JPS61114560A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59236164A JPS61114560A (ja) 1984-11-09 1984-11-09 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59236164A JPS61114560A (ja) 1984-11-09 1984-11-09 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61114560A true JPS61114560A (ja) 1986-06-02

Family

ID=16996715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59236164A Pending JPS61114560A (ja) 1984-11-09 1984-11-09 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61114560A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008147348A (ja) * 2006-12-08 2008-06-26 Nippon Avionics Co Ltd 多数個取り配線基板上の小型配線基板およびその封止方法。
JP2014106016A (ja) * 2012-11-26 2014-06-09 Seiko Epson Corp 電子デバイス用パッケージの製造方法、電子デバイス、電子機器、および移動体

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008147348A (ja) * 2006-12-08 2008-06-26 Nippon Avionics Co Ltd 多数個取り配線基板上の小型配線基板およびその封止方法。
JP2014106016A (ja) * 2012-11-26 2014-06-09 Seiko Epson Corp 電子デバイス用パッケージの製造方法、電子デバイス、電子機器、および移動体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3721867A (en) Tablet-shaped semiconductor component and process for its manufacture
JPS61114560A (ja) 半導体装置
JPS6012287Y2 (ja) 半導体装置
JPH0211788Y2 (ja)
JPS6321340B2 (ja)
JP2689621B2 (ja) 半導体装置とその製造方法
JP4042330B2 (ja) パッケージ製造法
JP2550667B2 (ja) ハーメチックシール蓋の製造方法
JPS6028139B2 (ja) 半導体装置
JP2000040934A (ja) 圧電デバイスの閉蓋構造及び閉蓋方法
JPH032993Y2 (ja)
JPS63208250A (ja) 集積回路のパツケ−ジ構造
JP3700509B2 (ja) パッケージ製造法
JPH033969Y2 (ja)
JP3056159B2 (ja) 半導体パッケージの気密封止方法及びそれを適用した抵抗溶接装置
JPH046096B2 (ja)
JPH02122714A (ja) 圧電振動子
JPS61156768A (ja) 半導体装置
JPS5823195B2 (ja) キンゾクバンノレイカンアツセツソウチ
JPH0358450A (ja) 半導体装置のセラミックパーケージ
JPH0140120Y2 (ja)
JPH04171846A (ja) 半導体装置用容器
JPH04321255A (ja) 半導体外囲器の気密封止方法
JPS62219627A (ja) 加圧接触形半導体装置
JPH056306B2 (ja)