JPS6012287Y2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPS6012287Y2
JPS6012287Y2 JP13468078U JP13468078U JPS6012287Y2 JP S6012287 Y2 JPS6012287 Y2 JP S6012287Y2 JP 13468078 U JP13468078 U JP 13468078U JP 13468078 U JP13468078 U JP 13468078U JP S6012287 Y2 JPS6012287 Y2 JP S6012287Y2
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JP
Japan
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metal cap
sealing frame
seam
semiconductor device
thickness
Prior art date
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Expired
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JP13468078U
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English (en)
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JPS5549589U (ja
Inventor
茂 久保田
Original Assignee
九州日本電気株式会社
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Publication date
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Description

【考案の詳細な説明】 この考案は半導体装置、特に金属キャップをシームウェ
ルドして成る半導体装置の金属キャップに関する。
従来から半導体装置は第2図のように半導体素子7を保
護するために収容した封止枠部2を有するセラミック容
器4と第1図の如く中央部に位置決め部となる凹部を有
する容器を封止するための金属キャップ1から戒り、金
属キャップ1は金属キャップ1の絞り部とシームウェル
ドする部分とはほぼ同一厚さの金属キャップで形成され
ている。
そして金属キャップの凹部の中央部にはロット陥、製品
名等の捺印を行なうことがある。
また、最近の半導体装置用金属キャップは半導体素子の
集積度を向上せしめるため、半導体装置の封止枠部が大
型から角型へなるので当然金属キャップも角型となり、
位置決め部となる中央部の凹部の形状も角型となる。
しかしながら、半導体装置用金属キャップは位置決め部
となる中央部の凹部の形状が角型になるとしばしば絞り
部にヒビ及びクラックが入り易くなる。
そこで、金属キャップの絞り部にヒビ及びクラックが発
生しにくい様にするために金属キャップの板厚を厚く形
成することが行なわれる。
しかし金属キャップの板厚は半導体装置の封止枠部とシ
ームウェルドする条件に非常影響する。
例えば金属キャップの板厚が0.1mmから0.15m
mと厚くすると金属キャップの絞り部にヒビ及びクラッ
クが入りにくくなるため、金属キャップの絞り部からリ
ークすることはなくなる。
しかし、金属キャップの板厚の増加に伴ない封止するシ
ームウェルド条件、特に流す電流を増加させなければな
らない。
そのため、半導体装置のセラミック積層部及びシームウ
ェルドする封止枠部とセラミック積層部とのロー付部に
多大な熱が加わり、金属とセラミックとの熱膨張係数の
違いにより、クラック等が発生し、気密性をそこなうこ
とがある。
又安定なシームウェルド条件の範囲も狭く作業性が非常
に悪くなり、高信頼性を有する角型シームウェルド封止
するセラミック積層型半導体装置を提供することが出来
なかった。
本考案の目的はシームウェルド条件は変更せずに金属キ
ャップの絞り部のクラック及びヒビ等の発生のない高い
信頼性を有するシームウェルドしてなるセラミック積層
型半導体装置を提供するものである。
本考案による半導体装置はシームウェルドする金属キャ
ップの周縁部の板厚はシームウェルド条件の範囲が広く
、又、低い電流でシームウェルドできる板厚に形成し、
それ以外の部分は絞り部にクラック及びヒビが発生しに
くい板厚に形成したことを特徴とする。
次に第3図、第4図を参照して本考案の一実施例を説明
する。
シームウェルドする金属キャップ11はシームウェルド
する部分の板厚の薄い金属キャップ周縁部11′から威
り、半導体装置はセラミック積層部14の側面にロー付
は材15で外部リード16をロー付けし、セラミック積
層部14の略中央部にマウントロー材18で半導体素子
17を固着したのち、金属細線19で配線し、金属キャ
ップをシームウェルドするためにセラミック積層部14
にロー付は材13を介して封止枠部12がロー付けされ
ている。
シームウェルドする金属キャップの板厚は約0.15m
mでシームウェルドする部分の金属キャップ周縁11′
の板厚は0.1mmとなっている。
したがって、金属キャップの絞り部の板厚は厚いのでヒ
ビ及びクラックの発生もなくなり、金属キャップ表面に
行なうロット陥、製品名等の捺印作業時のキズ等の発生
もなくなる。
又、シームウェルドする部分の金属キャップ周縁の板厚
が薄いのでシームウェルド条件の設定範囲も広くとるこ
とが出来るから安定で信頼性の高い半導体装置を得るこ
とが出来る。
以上、本考案について説明したがシームウェルド封止す
るあらゆる形状に効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図a、 bはそれぞれ従来の金属キャップの平面図
および断面図、第2図は従来の半導体装置の断面図、第
3図a、 bは本考案で用いる金属キャップのそれぞれ
平面図、断面図、第4図は本考案の一実施例の半導体装
置の断面図である。 11・・・・・・金属キャップ、11′・・・・・・金
属キャップ周縁部、12・・・・・・封止枠部、13・
・・・・・ロー付は材、14・・・・・・セラミック積
層部、15・曲・ロー付は材、16・・・・・・外部リ
ード、17・・・・・・半導体素子、1B・・・・・・
マウントロー材、19・・・・・・金属細線。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 中央部に凹部を有する金属キャップの周縁部を、セラミ
    ック積層部上に設けた封止枠部の上に載置し、該金属キ
    ャップと該封止枠部とをシームウェルドした半導体装置
    において、前記金属キャップの周縁部はその下面が一様
    に平担でその面が一様に平担な前記封止枠部の上面に接
    しており、かつ、前記封止枠部上の金属キャップの周縁
    部の上面は、該封止枠部の外周近傍上の部分に凹みを有
    し、これにより、該金属キャップの周縁部の板厚は、該
    封止枠部の外周近傍上の部分においてうずくなっており
    、該封止枠部の内周近傍上の部分において厚くなってい
    ることを特徴とする半導体装置。
JP13468078U 1978-09-29 1978-09-29 半導体装置 Expired JPS6012287Y2 (ja)

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JP13468078U JPS6012287Y2 (ja) 1978-09-29 1978-09-29 半導体装置

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JPS5549589U JPS5549589U (ja) 1980-03-31
JPS6012287Y2 true JPS6012287Y2 (ja) 1985-04-20

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63177292U (ja) * 1987-05-07 1988-11-16
JPH01116116U (ja) * 1988-01-30 1989-08-04
JP2803636B2 (ja) * 1996-04-26 1998-09-24 日本電気株式会社 半導体集積回路パッケージ及びその製造方法

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JPS5549589U (ja) 1980-03-31

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