JPS5910229A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
半導体装置およびその製造方法Info
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- JPS5910229A JPS5910229A JP57118568A JP11856882A JPS5910229A JP S5910229 A JPS5910229 A JP S5910229A JP 57118568 A JP57118568 A JP 57118568A JP 11856882 A JP11856882 A JP 11856882A JP S5910229 A JPS5910229 A JP S5910229A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体装置およびその製造方法に関する。
半導体装置の製造において、基板の主面にベレット(半
導体素子)を固定する工程がある。この場合、その接続
方法として基板とベレットとの間に金箔を介在させ、熱
圧着による金(Au)−シリコン(Si)の共晶層によ
って接続化を図る方法がある。
導体素子)を固定する工程がある。この場合、その接続
方法として基板とベレットとの間に金箔を介在させ、熱
圧着による金(Au)−シリコン(Si)の共晶層によ
って接続化を図る方法がある。
基板がリードフレームの場合はリードフレームが薄い金
属板からなっていることから金箔をスポットウェルドに
よってリードフレームに固定することができる。このた
め、金箔の移動等は生じない。
属板からなっていることから金箔をスポットウェルドに
よってリードフレームに固定することができる。このた
め、金箔の移動等は生じない。
しかし、第1図で示すようなステム1の中央窪部にガラ
ス2を充填した構造の基板3を用いて組み立てるキャン
封止型のトランジスタ4にあっては、スポットウェルド
による金箔のステム1への固定はできない。このため1
組立にあっては、ステム1の平坦面上に単に金箔を載置
するだけであり、金箔の位置が振動等の外力によってず
れてもわかりにくく修正はむずかしい。この結果、ベレ
ン、トの取付時に金箔がベレット5の下から部分的に外
れ、ベレット全域での接続ができなくなり、ペレット5
にクラックが発生したり、外観不良品と認定されたりし
て好ましくない。そこで、従来は金箔の大きさを必要以
上大きくして、金箔の位置がずれてもペレット下面全域
に金が濡れるようにしている。しかし、この場合であっ
ても、ステムの主面が平坦であることから、金箔が溶け
た際流れ出すため、金箔を大きくしてもペレット全域の
濡れを常に図ることは難しい。なお、図中6はペレット
5をステム1に固定するAu−8i共晶層、7はリード
、8はリード7とペレット5の電極を接続するワイヤ、
9はキャップである。
ス2を充填した構造の基板3を用いて組み立てるキャン
封止型のトランジスタ4にあっては、スポットウェルド
による金箔のステム1への固定はできない。このため1
組立にあっては、ステム1の平坦面上に単に金箔を載置
するだけであり、金箔の位置が振動等の外力によってず
れてもわかりにくく修正はむずかしい。この結果、ベレ
ン、トの取付時に金箔がベレット5の下から部分的に外
れ、ベレット全域での接続ができなくなり、ペレット5
にクラックが発生したり、外観不良品と認定されたりし
て好ましくない。そこで、従来は金箔の大きさを必要以
上大きくして、金箔の位置がずれてもペレット下面全域
に金が濡れるようにしている。しかし、この場合であっ
ても、ステムの主面が平坦であることから、金箔が溶け
た際流れ出すため、金箔を大きくしてもペレット全域の
濡れを常に図ることは難しい。なお、図中6はペレット
5をステム1に固定するAu−8i共晶層、7はリード
、8はリード7とペレット5の電極を接続するワイヤ、
9はキャップである。
したがって、本発明の目的はペレット付けの歩留向上を
図るとともに、金箔の使用量の軽減が図れる半導体装置
およびその製造方法を提供することにある。
図るとともに、金箔の使用量の軽減が図れる半導体装置
およびその製造方法を提供することにある。
このような目的を達成するために本発明は、基板の主面
に金箔を載置した後、この金箔上にペレットを載せてペ
レットをこすり付けるとともに加熱してペレットを基板
に固定してなる半導体装置において、前記基板のペレッ
ト取付領域を金の流出防止およびペレットの位置決めを
図るようにあらかじめ一段と低い窪みとしておくととも
に、その後、窪み内に金箔を入れてペレットの固定を行
なうものである。
に金箔を載置した後、この金箔上にペレットを載せてペ
レットをこすり付けるとともに加熱してペレットを基板
に固定してなる半導体装置において、前記基板のペレッ
ト取付領域を金の流出防止およびペレットの位置決めを
図るようにあらかじめ一段と低い窪みとしておくととも
に、その後、窪み内に金箔を入れてペレットの固定を行
なうものである。
以下、実施例により本発明を説明する。
第2図は本発明の一実施例によるキャン封止型のトラン
ジスタ4を示す断面図である。このトランジスタ4の組
立にあっては、あらかじめ第3図で示すような構造の基
板3を用意する。すなわち、基板3は第1図で示すよう
な表面に金めつきを施した金属製のステムlと、このス
テム1の下面中央部を窪むように成形した窪み部分に埋
め込んだガラス2とからなっている。また、ステム1に
は非接触で3本のり−ド7が貫通配設されるとともに、
このリード7はガラス2によって支持されている。また
、この実施例のステム1にあっては、ペレット5を固定
する領域が一段低い窪み1oとなっている。この窪み1
0はペレット5の太きさよりもわずかに大きい寸法とな
っている。そして、ペレット固定時には、この窪み1o
内に窪み1゜と略同−寸法の金箔11を入れた後、ステ
ム1を加熱すると同時に真空吸着工具12の下端に保持
したペレット5を金箔11上に載せ、かつこすり付ける
。この結果、熱によって溶は始めた金箔の金と、ペレッ
ト5を形作るシリコンとの間にAu−8i の共晶化が
起き、ペレ・ソト5は第2図で示すようにAu−8i共
晶層6によってステムIK固定される。そこで、ペレッ
ト5の電極とこれに対応するり−ド7の上端とをワイヤ
8で接続した後、キャップ9をリングシールによって基
板3に固定して気密封止を行ない、キャン封止型トラン
ジスタ4を製造する。
ジスタ4を示す断面図である。このトランジスタ4の組
立にあっては、あらかじめ第3図で示すような構造の基
板3を用意する。すなわち、基板3は第1図で示すよう
な表面に金めつきを施した金属製のステムlと、このス
テム1の下面中央部を窪むように成形した窪み部分に埋
め込んだガラス2とからなっている。また、ステム1に
は非接触で3本のり−ド7が貫通配設されるとともに、
このリード7はガラス2によって支持されている。また
、この実施例のステム1にあっては、ペレット5を固定
する領域が一段低い窪み1oとなっている。この窪み1
0はペレット5の太きさよりもわずかに大きい寸法とな
っている。そして、ペレット固定時には、この窪み1o
内に窪み1゜と略同−寸法の金箔11を入れた後、ステ
ム1を加熱すると同時に真空吸着工具12の下端に保持
したペレット5を金箔11上に載せ、かつこすり付ける
。この結果、熱によって溶は始めた金箔の金と、ペレッ
ト5を形作るシリコンとの間にAu−8i の共晶化が
起き、ペレ・ソト5は第2図で示すようにAu−8i共
晶層6によってステムIK固定される。そこで、ペレッ
ト5の電極とこれに対応するり−ド7の上端とをワイヤ
8で接続した後、キャップ9をリングシールによって基
板3に固定して気密封止を行ない、キャン封止型トラン
ジスタ4を製造する。
このような実施例によれば、ペレット取付時に金箔11
は基板3の窪み10内に供給される。したがって、摂動
等によってもこの窪み10から金箔11が跳び出すこと
は少なく金箔11の位置決めが正確となる。また、金箔
11を溶かした際、溶けた金は窪み10内に位置し、こ
の窪み10から外に流れ出すようなことはない。このた
め、ペレット付は時にペレット5の全域に亘って金が濡
れ、確実なペレットボンディングができるようになり、
部分的な接続に基因するペレットクラックの発生あるい
は外観検査時での不良数の軽減が図れ、歩留が向上する
。
は基板3の窪み10内に供給される。したがって、摂動
等によってもこの窪み10から金箔11が跳び出すこと
は少なく金箔11の位置決めが正確となる。また、金箔
11を溶かした際、溶けた金は窪み10内に位置し、こ
の窪み10から外に流れ出すようなことはない。このた
め、ペレット付は時にペレット5の全域に亘って金が濡
れ、確実なペレットボンディングができるようになり、
部分的な接続に基因するペレットクラックの発生あるい
は外観検査時での不良数の軽減が図れ、歩留が向上する
。
また、金箔11が部分的に窪み10から外れるようなこ
とがあっても、金箔11が溶けて溶融した金となった状
態で窪み10に流れ込み易い。このようなことから、金
箔11はペレット5の接続に際して最小限必要とする量
だけでよいことになるため、金箔11の大きさは従来よ
りも小さくすることができるようになり、金箔使用量の
低減化を図ることができる。
とがあっても、金箔11が溶けて溶融した金となった状
態で窪み10に流れ込み易い。このようなことから、金
箔11はペレット5の接続に際して最小限必要とする量
だけでよいことになるため、金箔11の大きさは従来よ
りも小さくすることができるようになり、金箔使用量の
低減化を図ることができる。
なお、本発明は前記実施例に限定されない。また、本発
明は他の半導体装置の製造にも適用できる。
明は他の半導体装置の製造にも適用できる。
以上のように、本発明によれば、ペレットを正確確実に
基板に固定することができることから、信頼性の高いペ
レットボンディングが行なえるとともに1歩留の向上を
図ることができる。また。
基板に固定することができることから、信頼性の高いペ
レットボンディングが行なえるとともに1歩留の向上を
図ることができる。また。
金箔の使用量も軽減できることと和項って、ペレットボ
ンディング、換言すれば半導体装置のコストの低減も図
ることができる。
ンディング、換言すれば半導体装置のコストの低減も図
ることができる。
第1図は従来のキャン封止型トランジスタの断面図、
第2図は本発明の−・実施例によるキャン封止型トラン
ジスタの断面図、 第3図は同じ(ペレットボンディング工程における組立
状態を示す説明的断面図である。 1・・ステム、2・・・ガラス、3・・・基板、4・・
・トランジスタ、5・・・ベレット、6・・・Au −
Si 共晶層。 7・・リード、8・・・ワイヤ、9・・・キャップ、1
0・・・窪み、11・・金箔、12・・・真空吸着工具
。
ジスタの断面図、 第3図は同じ(ペレットボンディング工程における組立
状態を示す説明的断面図である。 1・・ステム、2・・・ガラス、3・・・基板、4・・
・トランジスタ、5・・・ベレット、6・・・Au −
Si 共晶層。 7・・リード、8・・・ワイヤ、9・・・キャップ、1
0・・・窪み、11・・金箔、12・・・真空吸着工具
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板の主面に金−シリコン共晶により半導体ベレッ
トを固定してなる半導体装置において、前記ペレット取
付部の基板主面部分は窪んでいることを特徴とする半導
体装置。 2、基板の主面に金箔を載置した後、この金箔上にベレ
ットを載せてベレットをこすり付けるとともに加熱して
ベレットを基板に固定する半導体装置の製造方法におい
て、前記基板のベレット取付領域を金の流出防止および
ベレットの位置決めを図るようにあらかじめ一段と低い
窪みとしておくとともに、その後1gみ内に金箔を入れ
ベレットの固定を行なうことを特徴とする半導体装置の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57118568A JPS5910229A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | 半導体装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57118568A JPS5910229A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | 半導体装置およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5910229A true JPS5910229A (ja) | 1984-01-19 |
Family
ID=14739812
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57118568A Pending JPS5910229A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | 半導体装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5910229A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6299268U (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-24 | ||
JPS62111058U (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-15 | ||
JPH0324168U (ja) * | 1989-07-14 | 1991-03-13 | ||
JPH0383573U (ja) * | 1989-09-11 | 1991-08-26 | ||
JPH041433U (ja) * | 1990-04-19 | 1992-01-08 | ||
JPH07213662A (ja) * | 1994-01-19 | 1995-08-15 | Easton Aluminum Inc | 模造木製複合ボールバット |
JP2008207813A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Iwaki Packs Kk | 仕切体 |
-
1982
- 1982-07-09 JP JP57118568A patent/JPS5910229A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6299268U (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-24 | ||
JPS62111058U (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-15 | ||
JPH0324168U (ja) * | 1989-07-14 | 1991-03-13 | ||
JPH0383573U (ja) * | 1989-09-11 | 1991-08-26 | ||
JPH041433U (ja) * | 1990-04-19 | 1992-01-08 | ||
JPH07213662A (ja) * | 1994-01-19 | 1995-08-15 | Easton Aluminum Inc | 模造木製複合ボールバット |
JP2008207813A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Iwaki Packs Kk | 仕切体 |
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