JPS61101226A

JPS61101226A - 分離膜

Info

Publication number: JPS61101226A
Application number: JP59220473A
Authority: JP
Inventors: Fumio Ueda; 文雄上田; Koki Tamura; 弘毅田村; Kazumi Iwata; 岩田　和美
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1984-10-22
Filing date: 1984-10-22
Publication date: 1986-05-20

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は分離膜特にガス混合物に対し選択透過性を有す
る分離膜に関し、更に詳しくは空気から酸素富化空気を
得るのに適した分離膜に関する。

現在、燃焼エネルギーを利用する装置例えば寂庭用暖房
器具、自動車・エンジン、ホイラー等においては空気中
にｒｎ累が約２０壬の濃度で存在することを基礎に設計
され、利用されている。しかし酸素濃度の高められた空
気が供給されれば不完全燃焼による環境汚染等の問題が
解消されるばかりでなく、燃焼効率を高めることも可能
になる。

また、酸素濃度の高められた空気は、呼吸器系疾患を有
する者や未熟児の呼吸用空気としても有用である。

かかる目的から空気からＷｌ、素！Ｉ屓の高められた空
気を得るための選択ガス透過性を有する分離膜が種々開
発されてきた。この分離膜については空気中の酸素と窒
素を分離し、しかもその酸素が膜を十分大きな速度で透
過するという性能が要求される。空気中の酸素と窒素を
分離する膜素材として最初に用いられたシリコーンゴム
は、分離係数（α）が２．０で散索の透過係数が６Ｘ　
１０−’　ｃｃ（ＳＴＰ）・〜保・５ｅｃ−ｃｚＨ９と
いう性能を有するものである。この素材は透過係数は高
いが分離係数が低く、このため透過係数、分離係数共に
高い素材の開発が展開されてきた。

ところで均質膜中な透過する気体のｉは次式％式％で表わされる。従って分離係数（α）の高い素材を見出
すことができれば、透過係数（旦）は小さくてもその膜
厚（１）を極限まで薄くすることにより透過速度を大き
くすることができる。かかる方向の一つとして水面上に
有機ホリマーの単分子膜を展開せしめて極薄膜を形成し
２、それを多孔質支持体で支持して気体分離膜とする方
法が開発され、実用にも供せられている（特開昭５７−
７１６０５号及び特開昭５１−８９５６４号各公報参照
）。

しかしながら、この方法は■形成される膜が平膜に限定
されること、Ｑ）極薄膜であるため機械的強度向上に制
限があること、■現実的分離膜にするためには素材的に
制限されること等の欠点を有している。

一方、支持体上ＶＣ反応性化合物溶液の薄膜な形成せし
め、その溶液薄膜に当該化合物と反応する化合物を含Ｎ
Ｌ当該溶液と界面を形成しうる溶液を接触せしめて、支
持体上で界面反応させて支持体上に極薄膜全形成せしめ
る方法がある。この方法は水面展開法が有する上記欠点
をほとんど有していない点、膜形成法としては有利であ
る。

本出願人は前記シリコーンゴムの有する特性に注目しシ
リコン素材で界面反応で極薄膜を形成せしめるべく鋭意
検討した結果、シラノール基とアミノ基との反応により
透過性が良好でかつ分離％性もシリコン素材よシ高い分
離膜を得ることができることを見い出し、本発明を完成
したものである。

即ち本発明は支持体（４）及びその上に存在する２個以
上のアミノ基を含有するポリシロキサン化合物とシラノ
ール基を含有するポリシロキサン化合物成分とから主と
して形成される選択性透過膜中）とからなる分離膜であ
る。

本発明における支持体囚は、ガス透過性な有し、選択性
透過膜（Ｂ）を支持して強度的に補強しうるものであれ
ば特に限定されないが、一般的に有機又は無機の多孔質
物質が用いられる。

かかる支持体囚の基材・とじて、ガラス質多孔材、ｍＭ
金金属セラミックスとかセルａ−スエステル、ポリスチ
レン、ビニルブチラール、ポリスルホン、塩化ビニルポ
リエステル、ポリアクリａ′？−トリル、ポリ了ミド等
の有機ポリマーが挙げられる。

ポリスルホン膜は本発明の基材として特にすぐれた性能
を有するものであり、ポリアクリロニトリルもまた有効
である３、ホリスルホン多孔質基材の製造法は、米国塩
水局レポート（Ｏ８ＷＲｊｐｏｒｔ）　Ａ　３５９　Ｋ
も記載されている。

かかる基材は表面の孔の大きさが一般に約５０〜１００
００Ａ、好ましくは１００〜１００ＯＡの間にあるもの
が好ましいが、これに限られるものではなく、最終の膜
の用途などに応じて、表化しうる。これらの基材は対称
構造でも非対称構造でも使用できるが、望ましくは非対
称構造のものが良い。

これらの基材はＪＩＳＰ８１１７の装置により測定され
た透気度が２０〜３０００秒、より好ましくは５０〜１
０００秒のものが用いられる。透気度が２０秒以下のも
のは、それを用いて得られる複合膜に欠陥が生じやすく
、選択比が低下しやすい。また３０００秒以上のものは
、それを用いて得られた複合膜の透気量が低いものとな
る。

また基材は、その孔の大きさが最大孔径として１μｍ以
下、好まし、くけ０．５μｍ以下であるのが好ましい。

また支持体囚の形状は目的とする分離膜の形状に応じて
種々のものでありうるが、具体的には平板上、チューブ
状、中空糸状のものが挙げられる。支持体の厚さは限定
されないが通常１０μｍ〜１０ｆｆｌｒｒｌ好ましくは
５０μｍ〜１０００μｍである。

本発明におゆるアミノ基を２個以上有するポリシロキサ
ン化合物の例としては、下記式（１）（ｃＨｔ）ｎ　　
　　　　　　・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・　（１）で表わされる構造単位を分子中に少なくと
も２個有し、且つ一８ｉ　−０−Ｓｉ−結合を分子中に
少なくとも複数有するポリシミキサンを挙げることがで
きる。

かかる化合物を更に具体的洗例示すれば下記式（ＩＩ）
〜（ＩＶ）の如参ものが挙げられる。

Ｒ，Ｒ。

Ｒ３Ｒ３Ｒ３これらを更に具体的に示せば以下の如きものが特に好適
なものとして挙げられる。

ＣＨ，ＣＨ，ＣＨ。

Ｈ２Ｎ−（ＣＨ，→ｈ　Ｓｉ　−０−８ｉ−０−８ｉ　
（＝ＣＨｔ−％　ＮＨｔ＋　　　　　　　ＩＩＣＨ，（ＣＨ，）、　ＣＨ。

ＮＨ。

ＣＦ。

＄ＮＨ。

畷ＮＨ。

ＣＨ３ＣＨ。

■ ＣＨ，ＣＨ３ＮＨ薯（ＣＨｖ　）ｓＮ）（２ ■ 品２ＣＨ，ＣＨ，（ＣＨ，入　　　ＣＨ。

■ ＣＨ，Ｃ，Ｈ，ＣＨ３Ｉ　　　　　　　　１　　　　　　１ＣＨ，Ｃ，Ｈ，ＣＨ。

ＣＭ、　　　ＣＨヤ−ＣＨ，ＣＨ。

Ｈ，ＮモＣＨべ５ｉｆｔ−８ｒす；０−８４士ＣＤ、＋
、洲。

＋　　　　　　　　１　　　　　　　　１ＣＨ，ＣＨシ
（五、　　Ｃ）（。

ＮＨ。

γ・ｕ ■ （ＣＨり。

■ ＮＨ。

ＮＨ。

これらの化合物は単独でも又２種類以上の混合物として
も用いることができる。本発明はアミノ基と後述のシラ
ノール基との反応によって膜が形成され、アミ７基は少
なくとも２つ以上であり、特に膜の強度から架橋構造の
ほうが好ましく１級及び／又は２級のアミノ基を３個以
上有する化合物が好適である。また本発明の目的を損わ
ない範凹でシミ６キサン結合ケ有しない】級及び／又は
２級アミ７基を少くとも２個有するエチレンジアミノ、
ヘキサメチレノジアミノ、トリエチレンテトラミン、ポ
リエチレンイミン、ポリビニルアミノ等の脂肪族ポリア
ミノ。

シクａヘキーナンジアミノ、ピペラジン等の脂環族ポリ
アミノ、メタフェニレンジアミノ、　４．４’−ジアミ
ノジフェニルメタン、３．４’−ジアミノジフェニルエ
ーテル、ポリアミノスチレン等の芳香族ポリアミノを加
えることができる。かかるポリアミノは全アミノ成分の
５０モル％以下が好まり、い。

次に、２個以上のシラノール基を有するボリシＯキ→ノ
°ノとしては下記一般式ＣＶ）で表わされる化合物であ
る、Ｒ，ｏＲ，、Ｒ，。

＋　　　　　　　　１　　　　　　　　１ＨＯＳｔ　　
Ｏ＋Ｓｉ　　Ｏ−＋−ｘＳｉ　　ＯＨ−−−−−（Ｖ）
Ｒ，ＯＲ，。　　　　Ｒ５゜かかる化合物の例としては、以下のものを挙げることが
できれＣＨ，Ｃ）ｌ、　　　ＣＨ。

ＨＯ−８ｉ−０（−８ｉ−０’）ｐ市Ｓｊ　−０ＨＣＨ
，ＣＨ，ＣＨ。

ＣＨ，ＣＨ，ＣＨ，ＣＨ，。

”Ｈｓ　　ＣｎＨｎ　　ＣＨｓ　　　？ＨＱＨＯ−８ｉ
　−０（Ｓｉ−０−檜都ｉ−０帰Ｓｔ　−０ＨＣＨ１Ｃ
Ｈ，ＣＨ，ＣＨ，。

これらは単独もしくは２種類以上の混合物として用いら
れる。

また式（Ｖ）におけるχけ済解注の見地からは小さいも
のが好ましく、膜の強度上からは逆に大きい方が好まし
い。Ｘの好適な範凹は】Ｏ〜３０００、更に好ましくけ
１００〜２０００である。

またアルコキシ末端又はハロゲン原子末端は反応系中で
容易に加水分解してシラノール基末端になるσ）で、反
応出発原料として１′ルコキシ末端又はハロゲン原子末
端が存在するものも許容されるのである。

本発明における選択性透過膜（Ｂ）は、以上説明したア
Ｓノ基含有ポリシロキサン成分とシラノール基含有ポリ
シロキサン成分とから形成されるものであるが、それら
は次式の如き反応形式をとる。

−Ｓｌ　−Ｒ−ＮＨＲ’　＋　Ｈｏ５ｔ　−一−８ｔ−
Ｒ−０−８ｌ　− 上記反応において反応を促進するためには、塩基性触媒
が有効に働く。かかる触媒としては水酸化ナトリウム及
び水酸化カリウムや、ソデイウムメトキサイド、ソデイ
ウムイソブσポキサイド及びアルミニウムトリメトキサ
イドなどを挙げることが出来る。

また温度を挙げることによっても促進され、反応温度と
しては４０°Ｃ〜２００℃が好適である。

更に本発明においては、シラノール基をもつポリシロキ
サンの硬化に橋かけ剤も加えることが出来る。橋かけ剤
の添加は特に膜の形成性、膜の強度の向上には好ましい
ことが多い。かかる橋かゆ剤としては、シラノール基を
有するポリシロキサンの架橋剤として使用している既存
のものを使用することが出来る。

橋かけ剤の好適な例としては２個以上の官能基な有する
有機ケイ素化合物が挙げられ、例えばアセトキシシラン
、ケトオキシム化合物、アルコキシ化合物、シシザンア
ミド化合物、アミノキシ化合物、チタン化合物等を挙げ
ることができ、具体的にはメチルトリアセトキシシラン
。

エチルアセトキシンラン、メチルトリアセトンオキシム
、トリメチルブタノンオキシム、メチルトリメトキシシ
ラン、トリス（ジエチルヒトミキシルアミノ）メチルシ
ラン。

等を挙げることができる。

この際、橋かけ剤の反応性？高めるため、アルキルチタ
ネートやジブチル錫ジラウレートなどの促進剤を加える
こともできる、かかる橋かけ剤はアミ７基と反応しうる
ものであっても何らさしつかえなく、かえって硬化反応
が進み膜の強度上好ましい場合もある。

橋かけ剤はシラノール基を含有するポリシロキサンに混
合して用いることも、またシラノール基を含有する溶液
を塗布後、更に橋かけ剤を含有する溶液を塗布して反応
させることも可能であるが、混合して用いる方が硬化反
応が進行しやすく好ましい。橋かけ剤の使用量はシラノ
ール基を含有するポリシロキサンに対し７．０．１〜１
０重量係である。

本発明の選択性透過膜（１３）の膜厚は、通常３０る。

かかる選択性透過膜０３１は、ｆｉ＋　　支持体回正に、先ず２個以上のアミノ基を有
するポリシロキサン化合物（ボリアミノポリシロキサン
）溶液を塗布し、次いで、２個以上のシラノール基を有
するポリシロキサン化合物（ポリシラノールポリシブキ
サン）及び必要に応じて添加される橋かけ剤や橋かけ促
進剤を含有し、且つ上記溶液と界面を形成しうる溶液を
塗布、接触せしめ、しかして支持体回正に選択性透過膜
（Ｂ）ｖ形成させるか、（２）　　上記２種の溶液の塗
布順序を逆にして支持体（５）上に選択性透過ｉ　（Ｂ
）を形成させることができる。

その際、ポリアミノポリシロキサン溶液は当該化合物を
水、メタノール、エタノール、イソブａパノール、メチ
ルセロソルブ、ジオキサン。

エチレングリコール、ジエチレングリコール。

トリエチレングリフール、グリセリン、ｎ−ヘキサン、
　　ｎ−デカン、ヘキサデセン、ベンゼン。

トルエン又はキシレンの如き溶媒或いはこれらの２１Ｍ
以上の混合溶媒の如き溶媒に溶解せしめれば容易に調製
可能であり、その際ポリアミノポリシミキサンの濃度は
１０−〜１０ｗｔ％、好ましくは１００卿〜５ｗｔ　％
である。

一方、ポリシラノールポリシミキサン溶液は当該化合物
を、メタノール、エタノール、インプロパツール、メチ
ルセルソルブ、ジオキサン。

エチンンクリコール、ジエチレングリコール。

トリエチレングリフール、グリセリン、ｎ−ヘキサン、
ｎ−へブタン、ｎ−オクタン、シクロヘキサン、ｎ−デ
カン、ｎ−テトラデカン、ヘキサデセン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン。

四塩化炭素又はトリフｏｏ）リフＱ、　ｅｌ工手レしの
如き溶媒或いはこれらの２種以上の混合溶媒に溶解せし
めて調整する。その濃度は１０ｒＬｒＭ〜１０ｗｔ％、
好ましく　Ｐｉ　５００ｐＦ１〜５ｗｔ％である。

各化合物の溶媒の選定は、相方の化合物が界面反応を生
起する必要があるので、その反応に適した界面形成性の
ある組合せでなされるべきである。但しお互いに少々相
互洛外性があったとしても、現実的に界面が形成されて
界面反応が達成されるなら、そのような組合せでも差し
つかえがい。

支持体（５）への各溶液の塗布方法は、多孔質の支持体
囚の形状及び使用する溶媒の種類により種々変化しうる
が、代表的な方法として浸漬法。

ロールコーティング法、ウィックフーティング法及びス
プレーコーティング法等が挙げられる。

膜の形成方法としては例えば多孔性の当該支持体（４）
が平膜状の場合には支持体を一方の溶液に浸漬し、溶液
からとりだして液切りの後、該溶液と界面を形成し得る
他方の溶液に浸漬し支持体（２）上で２種の溶液間の界
面を形成させ、界面反応罠よる膜を形成させるのも一つ
の方法である。浸漬はハツチ法でも連続法でも可能であ
る。

支持体囚が中空糸状の場合、平膜状の場合と同様に、反
応溶液中に反応溶液が中空糸の内側に入らないように順
次浸漬し中空糸支持体の外側に膜を形成させることもで
きるし、中空糸支持体の内側に順次反応前を流して膜な
形成させることもできる。この中空糸内面に膜を形成す
る方法は製膜」、た機械的強度の小さい極薄膜を手に触
れることなく取シ扱えるので、膜の取扱い上は非常に有
利である。

製膜後未反応の化合物あるいは溶媒を低沸点及び／ヌは
低粘度の有機溶媒又は水で洗浄することもできる。また
反応を完結するために加熱処理をおこなうこともできる
。その温度は支持体や膜の変形をおこさない温度でおこ
なわれ、通常５０〜２００℃の範囲であり、時間Ｖｉ１
〜１２０分が良好である。

本発明の膜はその優れた透過性及び優れた選択性を利用
して各種ガスの分離に用いることができる。

例えば空気からＶ／素を濃縮する装鱈に組みこみ燃焼炉
、エンジン等の燃焼効率の向上、呼吸器疾患患者の治療
器として、また工業用とじて水素と一酢化炭紫の分離、
天然ガス中からのへリウムの濃縮、排ガス中からの二酸
化イオウあるいは二酸化炭素の分離を効率よくおこなう
ことができる。

また本発明の膜はエタノール−水系の分離なとをおこな
うパーベーパレーション用膜としても使うことができる
。

以下実施例？あげて本発明を記述するが本発明はこれら
に限定されるものではない。

実施例中部は重食部を表わす。

実施例１下記＋１１式の化合物０．５部、ソデイウムメトキサイド０．０１）
　０５　　部およびエチレングリフール９９．５ｍより
なる溶液にポリエステル系不織布で裏打ちされた平膜状
ポリスルホン多孔膜（ポリスルホンＵｄｅｌ　Ｐ３５０
Ｑ、厚さ３２０　ａ　＋透気度２．Ｉ　Ｘ　１０−２ｃ
Ｃ７ｄ−ｓｅｅ　拳ｃａ９　、　表面孔径２００Ａ以下
）を１０分間浸漬したのち、引きあげ充分液切シした。

ついで末端シラノールポリジメチルシミキサン（平均分
子量５８０００　）０．５部、メチルトリメトキシシラ
ン０．００４５部、ジブチルチンジラウレートｏ、ｏ　
ｏ　ｏ　ｓ部およびヘキサン９７．５部、トルエン２部
よりなる溶液に３分間浸漬した。

引きあげ後８０℃で１時間加熱し、２４時間室温で放置
の後ヘキサン溶液に１時１…浸漬洗浄後さらに流水中で
一日洗浄して膜を得た。２０℃において理化精機工業■
製製料研式気体透過率測定器を用いて気体透過性能を測
定したところ酸素透過速度は２．Ｉ　Ｘ　１０　’ＣＣ
端・ｓｅｅ・ｍ１９、酸素と窒素の選択性は３．１であ
った。この膜をセルにセントして膜の上側を大気圧、下
側を２０〜３０Ｔｏｒｒ　　に減圧して１週間空気の分
離テストｔした後性能を一１１定したが酸素透過速度は
２．０Ｘ１０→ｅｅ／７−　Ｓｅｅ　・ｔｘＨ’ｉ、　
Ｗ　２と窒素の選択性は３．１で性能はかわらなかった
。

比較例１実施例１で用いたポリアミノの二手レンクリフール溶液
を不織布で裏打ちされたポ１１スルホン多孔膜を１０分
間浸漬したのも引ｐ！アげ充分液切抄する。その後８０
℃で１時間加熱し、実施例１と同様にしてヘキサン及び
水で洗浄したこの膜の酸素透過速度け５Ｘ１０４ＣＣ雇
・８ｅＣ・−９以上であり酸素／窒素の選択性は１．０
でちり選択性はなかった。

比較例２ホＩＪジメチルシクキサン（平均分子ｆｒ　５８０００
）０．５部、メチルトリメトキシシラン０．００４５部
、ジブチルチンジラウレート０゜０００５部およびヘキ
ｖ　ｙ　９７．５　部、トルエン２部よりなる溶液に３
分間浸漬した。引きあげ後実施例１と同じ操作をおこな
い選択性透過膜を得た。この膜の酸素透過性は４　、　
Ｉ　Ｘ　１’０−ｃｃ４　ｓｐｃ　・ｃｍＨ９、酸素／
窒素の選択性１−ｔｌ、９であった。選択性はシリコン
膜と同等でありそれ以上には大きくなかった。

実施例２ボリア、　／Ｌ／ホｙ　（Ｕｄｅｌ　Ｆ３５００）　　
２０部、Ｎ−メチルピロリドン５７部、塩化リチウ１．
３部及び２−メトキンエタノール２０部からなる汚液を
調製し、３０℃で芯液として水を用い環状スリットより
上記溶液を吐出し１．２５°Ｃσ）水中に浸漬し凝固さ
せた。

かくして外径８００ａｍ、内径５００ｚ１ｍのポリスル
ホン中空多孔質支持体を得た。この中空支持体をポリカ
ーボネート製のバイブ中に詰め、両端部を指着剤で固め
、中空糸膜モジュールを得た。

乾燥時この中空糸膜の２５°Ｃにおける空気の透過膜は
８　Ｘ　１０　’　ｃｃ／、７・！ｌｅｃ　ｊ　ｃｍＩ
Ｊｐ、であった、実施例１中の（１）の化合物の０．５
雷門％およびンテイウムメトキサイド０．０００５　重
量憾のエチレングリコール溶液を上記ポリスルホン中空
糸膜の内側に流し、液を内側ＶＣ入れた状態で内側を１
ｋｇ／（−ｉＧの圧力で１０分間保持し、ポリアミノ溶
液を多孔膜中に充填させた。

ついで窒素ガスを１１部分の流量で１分間流し液切りし
た後、末端シラノールポリジメ牛ルシａキサン（平均分
子、１ｊ２６０００　）０．５部、テトラメトキシシラ
ン０．０１部、ジプチルシ゛ラウレー）０．０００５部
およびヘキサン９７部、トルエン２．５部よりなる溶液
を１　ｍ　／　ｍｉｎの線速で１分間上記支持体の内部
に流す。

ついでｉ！累をｌｊ／分の流量で３０秒間流し液切り１
７８０℃で１時間加熱し、その後室温で１日放置する。

その後膜の内側およびケースキにヘキサン及び水を流し
て洗浄して膜を得た。

この膜の内側に純酸素および純窒素をそれぞれ流し、膜
を透過してでてきた酸素および窒素を大債のヘリウムガ
スでとりだしガスクａマトグンフイーで分析することで
酸素及び窒素の透過速度を測定した。その結果酸素透過
測度は２．７ｘ　１０−４ｃｃ／ｃｎｌ−ｓｅｅ−ｍＨ
ｇ、酸素／窒素の選択性は２．９であった。

実施列３下記（２）式の化合物０．５重ｉ％を含むエチレングリフール溶渣に
実施例１で用いた平膜状のポリスルホン多孔膜を１０分
間浸漬し、液切りの後、末端シラノールポリジメチルシ
ミキサン（平均分子量４００００　）０．５部、メ４−
ルトリアセトキシシラン０．１部、ヘキサン９５部およ
びトルエン５部よりなる溶液に３０秒間浸漬し、引き上
げた後ついで８０℃で１時間加熱した。その後ヘキサン
及び水で洗浄し膜を得た、この膜の酸素透過速度はｌ　
、　Ｉ　Ｘ　１０−’　ｃｃ／ｍ・ｓｅｅ　・ｃｖＨ９
、酸素／窒累の選択性は３．０であった。

実施例４下記（３）式％式％）の化合物を０．５重量％及びアルミニウムト１ノメトキ
サイド０．０００５重ｆｉｌ含むエチレング１ノフール
溶液に実施例１で用いた平膜状のポリスルホン多孔膜を
１０分間浸漬し、液切りの後、末端シラノールポリメチ
ルフェニルジクキサン（平均分子量３００００　）　０
．５Ｉｆ５、メ牛ルエトキシシラン０．０５部、ジブチ
ル斗ンジラウレート０．０００１Ｍ、ヘキサン９５部お
よびトルエン５部よりなる溶液に３０秒間浸漬し、弓１
きあげた後ついで８０℃で１時間加熱する。更にヘキす
ン及び水で洗浄して膜を得た。この膜の酸素透過速度は
３　、４　Ｘ　１０−’　ｃｃ／７・ｓｅｅ　・ｔｙｒ
ｋＪ９、酸素／窒素の選択性は２．７であった。

実施例５０．２部の末端シラノールポリジメチルシロキサン（平
均公刊ＩＦｔ　１００００　）、０．０１部のメチルト
リアセトキシシラン−ｅ−＝ｅ＝中番、５０部のヘキサ
ン及び５０部のへキサテセンよりなる溶液を実施例１で
用いたポリスルホン多孔膜の表面にクーラーを用いて塗
布する。

ついで下記（４）式の化合物０．５部およびソデイウムメトキサイド０．０
００２部、二手しングリフール９９．５部よりなる溶液
に３分間浸ｍＬ引きあげた後、８０°Ｃで１時間加熱し
た。ヘキサン及び水で洗浄の後膜を得た。この膜の酸素
透過速度は５．Ｉ　Ｘ　１０−’ｃｃ／（ｉｓ　ｓｅｃ
　・ｃｘＨ９、酸素／窒素の選択性は２．９であった。

＼−二″

Claims

【特許請求の範囲】

　支持体（Ａ）及びその上に存在する２個以上のアミノ
基を含有するポリシロキサン化合物とシラノール基を含
有するポリシロキサン化合物成分とから主として形成さ
れる選択性透過膜（Ｂ）とからなる分離膜。