JPS6069054A - ビシクロ〔3.3.0〕オクテン誘導体 - Google Patents
ビシクロ〔3.3.0〕オクテン誘導体Info
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- JPS6069054A JPS6069054A JP58177129A JP17712983A JPS6069054A JP S6069054 A JPS6069054 A JP S6069054A JP 58177129 A JP58177129 A JP 58177129A JP 17712983 A JP17712983 A JP 17712983A JP S6069054 A JPS6069054 A JP S6069054A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pyrane Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(式中s&B水素原子又はアルキル基、ぎ及びgは水素
原子又状水酸基の保護基であシ、Xはアルキレン基又状
ビニレン基である。)で表わされるビシクロ(3,3,
0)オクテン誘導体に関する。
原子又状水酸基の保護基であシ、Xはアルキレン基又状
ビニレン基である。)で表わされるビシクロ(3,3,
0)オクテン誘導体に関する。
本発明の前記一般式(1)で表わされるビシクロ〔3,
3,0)オクテン誘導体は酸化し、次いでウィテイツヒ
反応に付することによシ(3−オキソ−1−アルケニル
)−シス−ビシクロ(3,3,0)オクテン誘導体に導
くことができる(下記参考側参照)。(3−オ、キソー
1−アルケニル)−シス−ビンクロ(3,3,0)オク
テン鱈心体はケトンを還元し、水酸基の脱保護反応を行
い、エステルを加水分解することによ!?、9(0)−
メタノ−Δ6(9′″)−PGllに導くことができる
(下記参考側参照)。
3,0)オクテン誘導体は酸化し、次いでウィテイツヒ
反応に付することによシ(3−オキソ−1−アルケニル
)−シス−ビシクロ(3,3,0)オクテン誘導体に導
くことができる(下記参考側参照)。(3−オ、キソー
1−アルケニル)−シス−ビンクロ(3,3,0)オク
テン鱈心体はケトンを還元し、水酸基の脱保護反応を行
い、エステルを加水分解することによ!?、9(0)−
メタノ−Δ6(9′″)−PGllに導くことができる
(下記参考側参照)。
9(0)−メタノ−Δ6(”)−PGI は強力な血小
板凝集阻止作用を有し、例えばその作用は人血小板を用
いた場合には化学的に不安定なPGI2に匹敵し、種々
の循環器疾患の治療乃至は予防薬として、利用される化
合物である(下記試駿例参照)。
板凝集阻止作用を有し、例えばその作用は人血小板を用
いた場合には化学的に不安定なPGI2に匹敵し、種々
の循環器疾患の治療乃至は予防薬として、利用される化
合物である(下記試駿例参照)。
従来、9(O)−メタノ−Δ6(9a) −PGllを
製造する方法としては(イ)PGE2を原料に14工程
を経て製造する方法C日本薬学会第103年会購演予稿
集156頁(1983年)〕及び(1口1,3−シクロ
オクタジエンから19工程を経て製造する方法〔日本薬
学会第103年会予稿集157頁(1983年)〕が知
られているが((イ)の方法は原料が高価であること、
(ロ)の方法は目的物が2セミ体として生成すること及
び(イ)(ロ)共に全収率が非常に低いことが欠点であ
った。
製造する方法としては(イ)PGE2を原料に14工程
を経て製造する方法C日本薬学会第103年会購演予稿
集156頁(1983年)〕及び(1口1,3−シクロ
オクタジエンから19工程を経て製造する方法〔日本薬
学会第103年会予稿集157頁(1983年)〕が知
られているが((イ)の方法は原料が高価であること、
(ロ)の方法は目的物が2セミ体として生成すること及
び(イ)(ロ)共に全収率が非常に低いことが欠点であ
った。
本発明者等は安価な原料から、収率よくしかも光学活性
体で立体位置特異的に9(0)−メタノ−Δ6(”)−
PGI 1を製造すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明
の化合物がその目的を達成するために重要な中間体に々
シ得ることを見出し本発明を完成した。
体で立体位置特異的に9(0)−メタノ−Δ6(”)−
PGI 1を製造すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明
の化合物がその目的を達成するために重要な中間体に々
シ得ることを見出し本発明を完成した。
本発明の前記一般式(1)で表わされるビシクロ(3,
3,O〕オクテン誘導体はブロスタグ2ンジン骨格の天
然型ω−鎖の他に例えば文献(Casals−8ten
zel 、 J 、 et al、 、Prostag
landins 、LeukotrienesMed、
1983,10 (2)、197−2121に開示され
ている如きよシ活性の高い非天然型ω−鎖を有するブロ
スタグ2ンジン誘導体にも導きうる点で極めて有用な中
間体と言える。
3,O〕オクテン誘導体はブロスタグ2ンジン骨格の天
然型ω−鎖の他に例えば文献(Casals−8ten
zel 、 J 、 et al、 、Prostag
landins 、LeukotrienesMed、
1983,10 (2)、197−2121に開示され
ている如きよシ活性の高い非天然型ω−鎖を有するブロ
スタグ2ンジン誘導体にも導きうる点で極めて有用な中
間体と言える。
本発明の前記一般式(1)で表わされるビシクロ(3,
3,0)オクテン誘導体は下記の反応式に従い製造する
ことができる。
3,0)オクテン誘導体は下記の反応式に従い製造する
ことができる。
同、本発明における水酸基の保護基はゴとしてテトラヒ
ドロビラニル基、メトキシメチル基、4−メトキシテト
ラヒドロピラニル基、1−エトキシエチル基、l−メチ
ル−1−メトキシエテル基、t−ブチルジメチルシリル
基等を例示することができ、to としてt−ブチルジ
メチルシリル基、ベンゾイル基、アセチル基等を例示す
ることができる。
ドロビラニル基、メトキシメチル基、4−メトキシテト
ラヒドロピラニル基、1−エトキシエチル基、l−メチ
ル−1−メトキシエテル基、t−ブチルジメチルシリル
基等を例示することができ、to としてt−ブチルジ
メチルシリル基、ベンゾイル基、アセチル基等を例示す
ることができる。
1’L’O
20
20
xg。
R2゜
三
lO
(式中、R1は水素原子又はアルキル基 R2は水素原
子又は水酸基の保護基であh、”!’は水酸基の保護基
である。) 〔第1工程〕 本工程は前記一般式(It)で表わされるシクロペンチ
リデン誘導体を水利反応させることによル前記一般式(
IIIで表わされるヒドロキシメチルシクロペンタ/誘
導体を製造するものである。
子又は水酸基の保護基であh、”!’は水酸基の保護基
である。) 〔第1工程〕 本工程は前記一般式(It)で表わされるシクロペンチ
リデン誘導体を水利反応させることによル前記一般式(
IIIで表わされるヒドロキシメチルシクロペンタ/誘
導体を製造するものである。
前記一般式(…)で表わされるシクロペンチリデン誘導
体はコーリ−2クトン誘導体を2クトールに還元し、ウ
イテイツヒ反応に付し水酸基を酸化後メチレン化反応を
行うことによシ容易に得られる化合物である(下記参考
側参照)。
体はコーリ−2クトン誘導体を2クトールに還元し、ウ
イテイツヒ反応に付し水酸基を酸化後メチレン化反応を
行うことによシ容易に得られる化合物である(下記参考
側参照)。
本工程の水和反応はヒドロホウ素化し、酸化することに
よシ行なわれる。ヒドロホウ素化にあたっては、例えば
9−BBN(9−ボラビシクロ〔3゜3.1〕ノナン)
、テキシルポ2ン、ジサイアミルボラン等のヒドロホウ
素化試剤を用いることができる。ヒドロホウ素化試剤の
使用量は通常1〜1.5当量用いる。
よシ行なわれる。ヒドロホウ素化にあたっては、例えば
9−BBN(9−ボラビシクロ〔3゜3.1〕ノナン)
、テキシルポ2ン、ジサイアミルボラン等のヒドロホウ
素化試剤を用いることができる。ヒドロホウ素化試剤の
使用量は通常1〜1.5当量用いる。
反応を行うにあたっては溶媒中で行うことが望ましく、
例えはテトラヒドロン2ン、ジグライム、ジエチルエー
テル等のエーテル系溶媒を用いることができる。
例えはテトラヒドロン2ン、ジグライム、ジエチルエー
テル等のエーテル系溶媒を用いることができる。
反応は一り5℃〜室温にて円滑に進行する。
更に本工程はヒドロホウ素化に続き生成物を単離するこ
となく酸化を行うものである。酸化にあたっては、例え
ばアルカリ性過酸化水素、アミンオキシド、酸素、過酸
等の酸化剤を用いることができる。酸化剤の使用量は5
〜15当量である。
となく酸化を行うものである。酸化にあたっては、例え
ばアルカリ性過酸化水素、アミンオキシド、酸素、過酸
等の酸化剤を用いることができる。酸化剤の使用量は5
〜15当量である。
反応は室温〜60℃で円滑に進行する。
賞、本工程において、例えば9− BBNを用いたヒド
ロホウ素化によシ生成する化合物は几20 ・ の如き構造を有していると推察される。
ロホウ素化によシ生成する化合物は几20 ・ の如き構造を有していると推察される。
〔第2工程〕
本工程は前記第1工程で得られた前記一般式(Bで表わ
されるヒドロキシメチルシクロペンタ/誘導体を酸化し
、前記一般式(5)で表わされるβ−ヒドロキシアルデ
ヒド体を製造するものである。
されるヒドロキシメチルシクロペンタ/誘導体を酸化し
、前記一般式(5)で表わされるβ−ヒドロキシアルデ
ヒド体を製造するものである。
酸化にあたっては、例えばジメチルスルホキシド−オキ
ザリルクロリド、ジメチルスルホキシド−三酸化イオウ
のピリジン錯体等を使用するととができる。酸化剤の使
用量は通常1〜5当量用いればよい。
ザリルクロリド、ジメチルスルホキシド−三酸化イオウ
のピリジン錯体等を使用するととができる。酸化剤の使
用量は通常1〜5当量用いればよい。
反応を行うにあたっては溶媒中で行うことが望ましく、
例えば塩化メチレン等のハロゲン化炭イi水素等を用い
ることができる。
例えば塩化メチレン等のハロゲン化炭イi水素等を用い
ることができる。
反応は酸化剤の種類によっても異なるが一り0℃〜室温
にて円滑に進行する。
にて円滑に進行する。
本工程の酸化生成物を得るには、反応物中にトリエチル
アミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第三級アミン
を加え−70℃〜室温にて処理することによシ行なわれ
る。ジアルデヒドが生成するが本条件下ですみゃかに分
子内アルドール縮合が生じ、前記一般式(2)で表わさ
れるI−ヒドロキシアルデヒド体が得られる。
アミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第三級アミン
を加え−70℃〜室温にて処理することによシ行なわれ
る。ジアルデヒドが生成するが本条件下ですみゃかに分
子内アルドール縮合が生じ、前記一般式(2)で表わさ
れるI−ヒドロキシアルデヒド体が得られる。
本工程終了後は生成物を単離することなく次の第3工程
の反応に付することもできる。
の反応に付することもできる。
〔第3工程〕
本工程は酸性触媒の存在下前記第2工程で得られた前記
一般式(5)で表わされるβ−ヒドロキシアルデヒド体
を脱水することによシ前記一般式(至)で表わされるビ
シクロ(3,3,0)オクテニルアルデヒド誘導体を製
造するものである。
一般式(5)で表わされるβ−ヒドロキシアルデヒド体
を脱水することによシ前記一般式(至)で表わされるビ
シクロ(3,3,0)オクテニルアルデヒド誘導体を製
造するものである。
脱水するにあたっては酸性触媒の存在下に行うことが必
要である。酸性触媒としては、酸−アンモニウム塩を使
用することができる。酸−アンモニウム塩触媒は酸とア
ミンとから形成することができる。使用できる酸として
はトリフルオロ酢酸、トルエンスルホン酸、カンファー
スルホン酸、酢酸等を例示することができる。又、使用
できるアミンとしてはジベンジルアミン、ジエチルアミ
ン、ジメチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピペリジ
ン、ピロリジン、ピペラジノ等を例示することができる
。これらの酸とアミンは適宜選択し、組み合わせ使用す
ることができるが、とシわけトリフルオロ酢酸とジベン
ジルアミンを組み合わせた触媒が収率よく目的物を得る
ことができる点で好ましい。触媒の使用量は0.2当量
程度でよいが、反応を速やかに進行させるためには1当
量程度用いることが好ましい。
要である。酸性触媒としては、酸−アンモニウム塩を使
用することができる。酸−アンモニウム塩触媒は酸とア
ミンとから形成することができる。使用できる酸として
はトリフルオロ酢酸、トルエンスルホン酸、カンファー
スルホン酸、酢酸等を例示することができる。又、使用
できるアミンとしてはジベンジルアミン、ジエチルアミ
ン、ジメチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピペリジ
ン、ピロリジン、ピペラジノ等を例示することができる
。これらの酸とアミンは適宜選択し、組み合わせ使用す
ることができるが、とシわけトリフルオロ酢酸とジベン
ジルアミンを組み合わせた触媒が収率よく目的物を得る
ことができる点で好ましい。触媒の使用量は0.2当量
程度でよいが、反応を速やかに進行させるためには1当
量程度用いることが好ましい。
反応を行うにあたっては溶媒の使用が望ましく、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素を用いるこ
とができる。
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素を用いるこ
とができる。
反応温度は室温〜100℃を選ぶことができるが、反応
を円滑に行うには50℃〜70℃の範囲で行うことが好
ましい。
を円滑に行うには50℃〜70℃の範囲で行うことが好
ましい。
〔第4工程〕
本工程は塩基の存在下、前記第3工程で得られた前記一
般式(V)で表わされるビシクロ(3,3,0〕オクテ
ニルアルデヒド銹導体と3−カルボキシプロピルホスホ
ニウムプロミドとを反応させ、前記一般式(1−a)で
表わされるアルケニルビシクロ(3,3,0)オクテン
誘導体を製造するものである。
般式(V)で表わされるビシクロ(3,3,0〕オクテ
ニルアルデヒド銹導体と3−カルボキシプロピルホスホ
ニウムプロミドとを反応させ、前記一般式(1−a)で
表わされるアルケニルビシクロ(3,3,0)オクテン
誘導体を製造するものである。
本工程は塩基の存在下に行うことが必要である。
塩基としてはt−ブトキシカリウム、ブチルリチウム、
ジメチルスルホキシドのナトリウム塩等を使用すること
ができるが、反応を効率よく行うためKはt−ブト午ジ
カリウムの使用が好ましい。
ジメチルスルホキシドのナトリウム塩等を使用すること
ができるが、反応を効率よく行うためKはt−ブト午ジ
カリウムの使用が好ましい。
塩基の使用量は原料である前記3−カルボキシプロピル
ホスホニウムプロミドに対して通常1〜1.2当量用い
る。
ホスホニウムプロミドに対して通常1〜1.2当量用い
る。
反応を行うにあたつてれテトラヒドロフ2ン、ジメトキ
ンエタン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒を好適
に使用することができるが、反応に関与しない溶媒なら
d何ら制限線ない。
ンエタン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒を好適
に使用することができるが、反応に関与しない溶媒なら
d何ら制限線ない。
反応温度は0℃〜50℃の範囲を選択すること。
によシ円滑に反応が進行する。
岡、本工程において得られる化合物は通常遊離のカルボ
ン酸として生成するが、次工程以下の反応のため、ジア
ゾメタンあるいはハロゲン化アルキル−ジアザビシクロ
クンデセン=7セトニトリルという条件を用いてエステ
ルとして単離することができる。エステルに変換するに
あたっては当業者が容易になし得る方法をもって行うこ
とができる。
ン酸として生成するが、次工程以下の反応のため、ジア
ゾメタンあるいはハロゲン化アルキル−ジアザビシクロ
クンデセン=7セトニトリルという条件を用いてエステ
ルとして単離することができる。エステルに変換するに
あたっては当業者が容易になし得る方法をもって行うこ
とができる。
〔第5工程〕
本工程は前記第4工程で得られた前記一般式(I−a)
で表わされるアルケニルビシクロ(3,3゜0)オクテ
ン誘導体を接触還元し、オレフィンの一方のみを選択的
に還元した前記一般式(I −b)で表わされるビシク
ロ(3,3,0)オクテン誘導体を製造するものである
。
で表わされるアルケニルビシクロ(3,3゜0)オクテ
ン誘導体を接触還元し、オレフィンの一方のみを選択的
に還元した前記一般式(I −b)で表わされるビシク
ロ(3,3,0)オクテン誘導体を製造するものである
。
使用できる触媒としてはパラジウム−炭素、パラジウム
黒等のパラジウム触媒、ウィルキンソン触媒、白金、ニ
ッケル等を挙げることができる。
黒等のパラジウム触媒、ウィルキンソン触媒、白金、ニ
ッケル等を挙げることができる。
触媒は所謂触媒量用いれば充分である。
本工程を実施するにあたって水素は常圧で反応させても
よいし、又加圧下に反応させてもよい。
よいし、又加圧下に反応させてもよい。
反応を行うには溶媒を用いることが型抜しく、例えばメ
タノール、エタノール等のアルコール溶媒、酢酸エチル
エステル等のエステル溶媒′を使用することができる。
タノール、エタノール等のアルコール溶媒、酢酸エチル
エステル等のエステル溶媒′を使用することができる。
反応温度は一り5℃〜室温の範囲を選ぶことにより円滑
に進行する。
に進行する。
〔爾6エ程〕
本工程は前記第5工程で得られた前記一般式(I−b
)で表わされるビシクロ(a、a、O)オクテン誘導体
のtoを選択的に脱保膜し、前記一般式(I−c)で表
わされるヒドロキシメチルビシクロ(3,3,0)オク
テン誘導体を製造するものである。
)で表わされるビシクロ(a、a、O)オクテン誘導体
のtoを選択的に脱保膜し、前記一般式(I−c)で表
わされるヒドロキシメチルビシクロ(3,3,0)オク
テン誘導体を製造するものである。
脱保護するにあたりてはW゛がシリル基の場合にはテト
ラ−n−プチルアンモニウムフルオリドを、ベンゾイル
基、アセチル基等の場合には炭酸カリウムを脱保護剤と
して使用することができろ反応を行うにあたっては溶媒
中で行うことが望ましく、脱保護剤としてテトラ−n−
プチルアンモニウムフルオリドを用いる場合にはテトラ
ヒドロフラン、ジメトキシエタン、エチルエーテルのエ
ーテル溶媒を好適に使用でき、脱保護剤として炭酸カリ
ウムを使用する場合にはメタノール、エタノール等のア
ルコール溶媒を好適に使用することができる。
ラ−n−プチルアンモニウムフルオリドを、ベンゾイル
基、アセチル基等の場合には炭酸カリウムを脱保護剤と
して使用することができろ反応を行うにあたっては溶媒
中で行うことが望ましく、脱保護剤としてテトラ−n−
プチルアンモニウムフルオリドを用いる場合にはテトラ
ヒドロフラン、ジメトキシエタン、エチルエーテルのエ
ーテル溶媒を好適に使用でき、脱保護剤として炭酸カリ
ウムを使用する場合にはメタノール、エタノール等のア
ルコール溶媒を好適に使用することができる。
反応は一り5℃〜室温にて円滑に進行する。
以上の如くして得られる前記一般式(I−c)で表わさ
れるヒドロキシメチルビシクロ(3.3.0)オクテン
誘導体は以下に説明する如き反応に付することによりω
−鎖を導入することができる。即ち、前記一般式(I−
c)で表わされるヒドロキシメチルビシクロ( a.a
.O )オクテン誘導体を酸化し、次いで得られる生成
物を一般式 %式%() (式中 R4は炭素数5〜lO個の直鎖、分枝鎖若しく
は環状アルキル基又はアルケニル基である。)で表わさ
れる化合物又は一般式 %式%() (式中、R は前記と同じであり、頂まツーニル基又は
アルキル基である。)で表わされる化合物と反応させる
ことにより、一般式 (式中 R1、B2及びR4は前記と同じである。)で
表わされる(3−オキソ−1−アルケニル)−シス−ビ
シクロ( 3.3.0 )オクテン誘導体に導くもので
ある。
れるヒドロキシメチルビシクロ(3.3.0)オクテン
誘導体は以下に説明する如き反応に付することによりω
−鎖を導入することができる。即ち、前記一般式(I−
c)で表わされるヒドロキシメチルビシクロ( a.a
.O )オクテン誘導体を酸化し、次いで得られる生成
物を一般式 %式%() (式中 R4は炭素数5〜lO個の直鎖、分枝鎖若しく
は環状アルキル基又はアルケニル基である。)で表わさ
れる化合物又は一般式 %式%() (式中、R は前記と同じであり、頂まツーニル基又は
アルキル基である。)で表わされる化合物と反応させる
ことにより、一般式 (式中 R1、B2及びR4は前記と同じである。)で
表わされる(3−オキソ−1−アルケニル)−シス−ビ
シクロ( 3.3.0 )オクテン誘導体に導くもので
ある。
酸化するにあたっては酸化剤の存在下に行うことが必要
である。酸化剤としてはコリンズ試薬、ジメチルスルホ
キシド−三酸化イオウのピリジン錯体、ピリジニウムク
ロロクロメイト、ジメチルスルホキシド−オキザリルク
ロリド等を使用することができる。酸化剤の使用量はコ
リンズ試薬の場合7〜10当量、他の酸化剤は1〜5当
量用いる。
である。酸化剤としてはコリンズ試薬、ジメチルスルホ
キシド−三酸化イオウのピリジン錯体、ピリジニウムク
ロロクロメイト、ジメチルスルホキシド−オキザリルク
ロリド等を使用することができる。酸化剤の使用量はコ
リンズ試薬の場合7〜10当量、他の酸化剤は1〜5当
量用いる。
反応を行うにあたっては溶媒中で行うことが望ましく、
例えばメチレンクロリド、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素が好才しい0 反応は一り0℃〜室温の範囲で円滑に進行すム引き続き
酸化により得られた生成物を単離することなく前記一般
式(2)で表わされる化合物又は前記一般式(2)で表
わされる化合物と反応させるものである。前記一般式(
2)で表わされる化合物として代例えばジメチル (2
−オキソヘプチル)フオスホネート、ジメチル (2−
オキソ−3−メチルヘプチル)フオスホネート、ジメチ
ル (2−オキソ−3,3−ジメチルヘプチル)フオス
ホネート、ジメチル (2−オキソ−4,8−ジメチル
−7−ノネニル)フオスホネート、ジメチル (2−オ
キソ−4,4,8−)リメチル−7一ノネニル)フオス
ホネート、ジメチル(2−オキl−2−=’iクロペン
チルエチル)フオスホネート等を使用することができ、
前記一般式へ)で表わされる化合物としては、トリブチ
ルホスフィン−2−オキソヘブチリデン、トリブチルホ
スフィン−2−オキソ−3−メチルへブチリデン、トリ
ブチルホスフィン−2−オキソ−3,3−ジメチルへブ
チリデン、トリブチルホスフィン−2−オキソ−4゜8
−ジメチル−7−ノネニリデン、トリブチルホスフィン
−2−オキソ−4,4,8−)リメチル−7一ノネニリ
デン、トリブチルホスフィン−2−オキソ−2−シクロ
ペンチルエチリデン等を使用することができる。前記一
般式(ロ)で表わされる化合物を原料として選択した場
合には塩基の存在下に行うことが収率よく目的物を得る
上で好ましく、例えば水素化ナトリウム、ブチルリチウ
ム、を−−ブトキシカリウム等を使用することができも
反応を行うにあたっては溶媒中で行うことが望ましく、
例えばテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエチ
ルエーテル等のエーテル溶媒、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族溶媒4% ヲ使用することができる。
例えばメチレンクロリド、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素が好才しい0 反応は一り0℃〜室温の範囲で円滑に進行すム引き続き
酸化により得られた生成物を単離することなく前記一般
式(2)で表わされる化合物又は前記一般式(2)で表
わされる化合物と反応させるものである。前記一般式(
2)で表わされる化合物として代例えばジメチル (2
−オキソヘプチル)フオスホネート、ジメチル (2−
オキソ−3−メチルヘプチル)フオスホネート、ジメチ
ル (2−オキソ−3,3−ジメチルヘプチル)フオス
ホネート、ジメチル (2−オキソ−4,8−ジメチル
−7−ノネニル)フオスホネート、ジメチル (2−オ
キソ−4,4,8−)リメチル−7一ノネニル)フオス
ホネート、ジメチル(2−オキl−2−=’iクロペン
チルエチル)フオスホネート等を使用することができ、
前記一般式へ)で表わされる化合物としては、トリブチ
ルホスフィン−2−オキソヘブチリデン、トリブチルホ
スフィン−2−オキソ−3−メチルへブチリデン、トリ
ブチルホスフィン−2−オキソ−3,3−ジメチルへブ
チリデン、トリブチルホスフィン−2−オキソ−4゜8
−ジメチル−7−ノネニリデン、トリブチルホスフィン
−2−オキソ−4,4,8−)リメチル−7一ノネニリ
デン、トリブチルホスフィン−2−オキソ−2−シクロ
ペンチルエチリデン等を使用することができる。前記一
般式(ロ)で表わされる化合物を原料として選択した場
合には塩基の存在下に行うことが収率よく目的物を得る
上で好ましく、例えば水素化ナトリウム、ブチルリチウ
ム、を−−ブトキシカリウム等を使用することができも
反応を行うにあたっては溶媒中で行うことが望ましく、
例えばテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエチ
ルエーテル等のエーテル溶媒、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族溶媒4% ヲ使用することができる。
反応温度は前記一般式(VDで表わされる化合物を用い
る場合には一25℃〜50℃の範囲であり、又前記一般
式〇9で表わされる化合物を用いる場合には20℃〜1
50℃の範囲である。
る場合には一25℃〜50℃の範囲であり、又前記一般
式〇9で表わされる化合物を用いる場合には20℃〜1
50℃の範囲である。
尚、本工程の酸化により得られる化合物は、一般式
(式中、R1及びR2は前記と同じである。)で表わさ
れる化合物であると推察することができる。
れる化合物であると推察することができる。
以下参考例及び実施例により更に本発明の詳細な説明す
る。
る。
参考例1
(8ij−t−ブチルジメチルシリノ巧茎)アルゴン零
四気下〔2−オキサ−3−オキソ−6−ニキンーt−ブ
チルジメチルシリルオキシメチル−7−エンドーテトラ
ヒドロビラニルオキシビシクo (3,3,0)オクタ
ン) (2,22g、6rrmol)小トルエン(10
m)に溶解し、−75℃に冷却した。水素化ジイソブチ
ルアルミニウム(25g/100mヘキサン溶液5.1
m/ 、 9rrrno I )を加え、−75℃で
70分間攪拌した。−75℃で水素の発生が認められな
くなるまでメタノールを加え、室温まで温度を上げた。
四気下〔2−オキサ−3−オキソ−6−ニキンーt−ブ
チルジメチルシリルオキシメチル−7−エンドーテトラ
ヒドロビラニルオキシビシクo (3,3,0)オクタ
ン) (2,22g、6rrmol)小トルエン(10
m)に溶解し、−75℃に冷却した。水素化ジイソブチ
ルアルミニウム(25g/100mヘキサン溶液5.1
m/ 、 9rrrno I )を加え、−75℃で
70分間攪拌した。−75℃で水素の発生が認められな
くなるまでメタノールを加え、室温まで温度を上げた。
酢酸エチル(130m)で希釈後、飽和食塩水で洗浄し
た(20mX4回)。
た(20mX4回)。
無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去しくJ
l−2−オキサ−3−ヒドロキシ−6−エキソ−t−ブ
チルジメチルシリルオキシメチル−7−エンド−テトラ
ヒドロビラニルオキシビシクロ(3,3,0)オクタン
)(2,33g、100チ)を得た。
l−2−オキサ−3−ヒドロキシ−6−エキソ−t−ブ
チルジメチルシリルオキシメチル−7−エンド−テトラ
ヒドロビラニルオキシビシクロ(3,3,0)オクタン
)(2,33g、100チ)を得た。
IR(neat):3430 、2950 、2860
.835cm−’ 。
.835cm−’ 。
NMRa (CDCI 、)
5.70〜5.30(m、IH)、4.85〜4.55
(m、2H)、4.40〜3.25(m、5H)、0.
90(s、9H)。
(m、2H)、4.40〜3.25(m、5H)、0.
90(s、9H)。
Mass m/z電(%) : 213(5)、 15
9(17) 、85(Zoo)。
9(17) 、85(Zoo)。
75(19)、73(13)。
〔α)、=−28°(C”1 、98 、MeOl−1
)参考例2 アルゴン零囲気下、t−ブトキシカリウム(3,16g
、28.2zrrnoυをTHF (50w )に溶解
した。
)参考例2 アルゴン零囲気下、t−ブトキシカリウム(3,16g
、28.2zrrnoυをTHF (50w )に溶解
した。
予めioo”aで減圧下、十分に乾燥したメチルトリフ
ェニルフォスフオニウムブロマイド(10,07g。
ェニルフォスフオニウムブロマイド(10,07g。
28.2rrmol)を室温にて加えた。5分間攪拌し
た後、〔1−2−オキサ−3−ヒドロキシ−6−エキソ
−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−7−エンド
−テトラヒドロビラニルオキシビシクロ(3,3,0)
オクタン) (3,40g、9.1trmol)のπ■
浴溶液30y)を加え、室温で20分間攪拌した。飽和
塩化アンモニウム水溶液を加えた後、減圧下田を留去し
た。残留水層を壬−チルにて抽出し、飽和食塩水にて洗
浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エーテルを留
去して得られる残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(エーテル:n−ヘキサン=2:3)により精製
し、(d−2αニア1Jルー3β−1−−ブチルジメチ
ルシリルオキシメチル−4α−テトラヒドロピラニルオ
キシ−1α−シクロペンタノール) (3,18g。
た後、〔1−2−オキサ−3−ヒドロキシ−6−エキソ
−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−7−エンド
−テトラヒドロビラニルオキシビシクロ(3,3,0)
オクタン) (3,40g、9.1trmol)のπ■
浴溶液30y)を加え、室温で20分間攪拌した。飽和
塩化アンモニウム水溶液を加えた後、減圧下田を留去し
た。残留水層を壬−チルにて抽出し、飽和食塩水にて洗
浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エーテルを留
去して得られる残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(エーテル:n−ヘキサン=2:3)により精製
し、(d−2αニア1Jルー3β−1−−ブチルジメチ
ルシリルオキシメチル−4α−テトラヒドロピラニルオ
キシ−1α−シクロペンタノール) (3,18g。
94%)を得た。
IR(neat) : 3500 、2950 、2B
70 、1640 。
70 、1640 。
835α−1
輻化(CDCI、)
5.80(m、IH)、5.00(m、2H)、4.6
5(bs、IH)、4.30〜3.00(m、6H)。
5(bs、IH)、4.30〜3.00(m、6H)。
0.90(S、9H)。
Mass m/z (%) :285(1)、229(
1)、211(3)。
1)、211(3)。
159 (26) 、85 (100)、75 (21
)、73(13)。
)、73(13)。
〔α)、=+21°(c=2 、44 、MeOH)
。
。
参考例3
(d−2α−アリル−3β−t−ブチルジメチルシリル
オキシメチル−4α−テトラヒドロピラニルオキシ−1
α−シクロペンタノール) (3,16g。
オキシメチル−4α−テトラヒドロピラニルオキシ−1
α−シクロペンタノール) (3,16g。
g 、5rtmo l )を塩化メチレン(40m)に
溶解し、ff1crfflすトリウム(28o曙p 2
.6mmo 1 ) 及びセライト(3,36g)を加
えた。アルゴン零囲気下、0℃でピリジニウムクロロク
ロメート(3,68g、17.1rrmo 1 )を加
え、0℃で18時間攪拌した。エーテルで希釈し、フロ
ーリジルカラムクロマトグラフィー(エーテル二〇〜ヘ
キサン=1=3〜3:1)にて精製し〔l−2α−アリ
ル−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−4
α−テトラヒドロピラニルオキシ−1−シクロペンタノ
ン(2,82g、、90チ)を得た。
溶解し、ff1crfflすトリウム(28o曙p 2
.6mmo 1 ) 及びセライト(3,36g)を加
えた。アルゴン零囲気下、0℃でピリジニウムクロロク
ロメート(3,68g、17.1rrmo 1 )を加
え、0℃で18時間攪拌した。エーテルで希釈し、フロ
ーリジルカラムクロマトグラフィー(エーテル二〇〜ヘ
キサン=1=3〜3:1)にて精製し〔l−2α−アリ
ル−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル−4
α−テトラヒドロピラニルオキシ−1−シクロペンタノ
ン(2,82g、、90チ)を得た。
IR(neat):2950,2880,1748,1
642゜840cm−’。
642゜840cm−’。
1樵 a (CDCI 3)
5.70(m、IH)、5.03(d、J=17Hz、
IH)。
IH)。
5.00(d、J=11Hz、 IH)、4.65(b
s、IH)。
s、IH)。
4.30(m、IH)、3.30〜4.00(m、4H
)。
)。
0.90(s、9H)。
Mass m/z (%) : 209(17)、15
9(17) 、85(1oo) 、 75(35) 、
73(23) 、 41 (17)。
9(17) 、85(1oo) 、 75(35) 、
73(23) 、 41 (17)。
〔α〕L0−−55°(C=2 、19 、MeOH)
。
。
参考例4
アルゴン零囲気下s C1−2α−アリル−3β−t−
ブチルジメチルシリルオキシメチル−4α−テトラヒド
ロピラニルオキシ−1−シクロペンタノン、) (2,
79g、7.57rrmol)を塩化メチレン(26s
l)に溶解し、室温で亜鉛−チタニウムクロライドー臭
化メチレン試薬(Zn−T t Cl 4−CH,Br
2/THF、 46M1)を加えた。TCLにて原料の
消失を確認後、反応液を飽和重曹水(500m)とエー
テル(5,00m/ )の混合液中にあけた。エーテル
層を分取後、水層はさらにエーテルで抽出した。エーテ
ル層を合わせ、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(エーテル:n−ヘキサン
=1:10)により精製し、〔ノー2−α−アリル−3
β−ミーブチルジメチルシリルオキシメチル−4α−テ
トラヒドロピラニルオキシ−1−シクロペンチリデン〕
(2,48g、90%)を得た◎ IR(neat) :2950,2870,1660゜
1640.835cm−’ 幅但a (CDCl3) 5.60(m、IH)、4.75〜5.20(m、4H
)、。
ブチルジメチルシリルオキシメチル−4α−テトラヒド
ロピラニルオキシ−1−シクロペンタノン、) (2,
79g、7.57rrmol)を塩化メチレン(26s
l)に溶解し、室温で亜鉛−チタニウムクロライドー臭
化メチレン試薬(Zn−T t Cl 4−CH,Br
2/THF、 46M1)を加えた。TCLにて原料の
消失を確認後、反応液を飽和重曹水(500m)とエー
テル(5,00m/ )の混合液中にあけた。エーテル
層を分取後、水層はさらにエーテルで抽出した。エーテ
ル層を合わせ、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(エーテル:n−ヘキサン
=1:10)により精製し、〔ノー2−α−アリル−3
β−ミーブチルジメチルシリルオキシメチル−4α−テ
トラヒドロピラニルオキシ−1−シクロペンチリデン〕
(2,48g、90%)を得た◎ IR(neat) :2950,2870,1660゜
1640.835cm−’ 幅但a (CDCl3) 5.60(m、IH)、4.75〜5.20(m、4H
)、。
4.63(bs、 IH) 、3.30〜4.30(m
、5H)。
、5H)。
0.90(!1,9H)。
Mass m/z 部) :159(18)、133(
11)。
11)。
85(100)、75(19)、73(13)。
(”)D=−43(C=2.84.MeOH)。
参考例5
アルゴン零囲気下、9−ボラビシクロ(3,3゜1〕ノ
ナン(二量体、 2.472g 、 20.3rrrn
Oりを′r?(”′、2βd)に懸濁した。〔ノー2−
α−アリル−3β−一一ブチルジメチルシリルオキシメ
チル−4α−テトラヒドロピラニルオキシ−1−シクロ
ペンチリデン)(2,476g、6.75面o1)のT
HF溶液(45sl)を氷冷下漬下し、5〜lO℃で7
時間30分間攪拌した。6N水酸化ナトリウム水溶液(
13,5s+7,81rrmol)及び30チ過酸化水
素水(11,5M、101.3面01)を加え60℃で
1時間30分攪拌した0升伊 を減圧下留去後、酢酸エ
チルにて抽出した。有機層はチオ硫酸ナトリウム水溶液
及び飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(エーテル:メタノール=40:1)に
より精製し、〔ct−1α−ヒドロキシメチル−2ατ
(3−ヒドロキシメチル)−3β−ミーブチルジメチル
シリルオキシメチル−4α−テトラヒドロピラニルオキ
シシクロペンタン)(2,65g、97%)を得たIR
(neat) : 3400 、2940 、2B60
、835cm−’NMR11(CDCI、) 4.65(bs、IH)、4.10(m、IH) 、3
.15〜3.95(m、8H) 、0.90(s、9H
)。
ナン(二量体、 2.472g 、 20.3rrrn
Oりを′r?(”′、2βd)に懸濁した。〔ノー2−
α−アリル−3β−一一ブチルジメチルシリルオキシメ
チル−4α−テトラヒドロピラニルオキシ−1−シクロ
ペンチリデン)(2,476g、6.75面o1)のT
HF溶液(45sl)を氷冷下漬下し、5〜lO℃で7
時間30分間攪拌した。6N水酸化ナトリウム水溶液(
13,5s+7,81rrmol)及び30チ過酸化水
素水(11,5M、101.3面01)を加え60℃で
1時間30分攪拌した0升伊 を減圧下留去後、酢酸エ
チルにて抽出した。有機層はチオ硫酸ナトリウム水溶液
及び飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(エーテル:メタノール=40:1)に
より精製し、〔ct−1α−ヒドロキシメチル−2ατ
(3−ヒドロキシメチル)−3β−ミーブチルジメチル
シリルオキシメチル−4α−テトラヒドロピラニルオキ
シシクロペンタン)(2,65g、97%)を得たIR
(neat) : 3400 、2940 、2B60
、835cm−’NMR11(CDCI、) 4.65(bs、IH)、4.10(m、IH) 、3
.15〜3.95(m、8H) 、0.90(s、9H
)。
Mass m/z (%) :159(19)、149
(18)。
(18)。
133(19)、121(13)、105(15)、9
3(10)、91(10)、85(100)、79(1
1)。
3(10)、91(10)、85(100)、79(1
1)。
75(34)、73(18)、67(17)、57(2
4)。
4)。
55(16)、43(17)、41(21)。
〔α)B=+2 (C=1.65.MeOH)。
参考例6
□
アルゴン零囲気下、−60℃でオキザリルクロリド(1
、88w、 20 、0rrmol )を55 Mノb
化メチレンに溶解した0ジメチルスルホキシド(3,3
9a#、47.7mmol )の塩化メチレン溶1(1
5a#)を加えた。−60℃で20分間攪拌後、(d−
1α−ヒドロキシメチル−2α−(3−ヒドロキシフロ
ヒル)−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル
−4α−テトラヒドロピラニルオキシシクロペンタン)
(1,48g、3.67皿o1)の塩化メチレン溶液(
30m)を加えた。−60℃で20分間撹拌後、トリエ
チルアミン(15,36m1゜110 、 lrrmo
l )を加え、室温まで温度を上昇させた・水を加え塩
化メチレンで抽出した。有機層は食塩水で洗浄後無水硫
酸マグネシウムで乾燥した溶媒を留去して、〔2−ヒド
ロキシ−3−ホルミル−6−エキソ−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシメチル−7−エンド−テトラ/?、ドロ
ピラニルオキシビシクロ(3,3,0)オクタン) (
1,19g。
、88w、 20 、0rrmol )を55 Mノb
化メチレンに溶解した0ジメチルスルホキシド(3,3
9a#、47.7mmol )の塩化メチレン溶1(1
5a#)を加えた。−60℃で20分間攪拌後、(d−
1α−ヒドロキシメチル−2α−(3−ヒドロキシフロ
ヒル)−3β−t−ブチルジメチルシリルオキシメチル
−4α−テトラヒドロピラニルオキシシクロペンタン)
(1,48g、3.67皿o1)の塩化メチレン溶液(
30m)を加えた。−60℃で20分間撹拌後、トリエ
チルアミン(15,36m1゜110 、 lrrmo
l )を加え、室温まで温度を上昇させた・水を加え塩
化メチレンで抽出した。有機層は食塩水で洗浄後無水硫
酸マグネシウムで乾燥した溶媒を留去して、〔2−ヒド
ロキシ−3−ホルミル−6−エキソ−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシメチル−7−エンド−テトラ/?、ドロ
ピラニルオキシビシクロ(3,3,0)オクタン) (
1,19g。
81%)を得た。スペクトルデータから、本化台\ヒl
物は、β−−ドロキシアルデヒドとラフ−トールとの間
の平衡混合物であった。
の平衡混合物であった。
IR(KBr):3450,2950,2870,27
50゜1730.835cm 。
50゜1730.835cm 。
NMFL a(CDCI3)
9 、75(trace)、4 、65(m、IH)、
3 、10〜4.50(m、6H)、0.90(s、9
H)。
3 、10〜4.50(m、6H)、0.90(s、9
H)。
Mass m/z fs) : 313 (trace
、M+−85) 。
、M+−85) 。
159(15)、85(100)、75(17)、73
(12)、57(12)、47(11)。
(12)、57(12)、47(11)。
参考例7
〔2−ヒドロキシ−3−ホルミル−6−エキソ−1−ブ
チルジメチルシリルオキシメチル−7−エンド−テトラ
ヒドロビラニルオキシビシクロ(3,3,0)オクタン
)(1,19g、2.97mnol )をベンゼン(4
,5M)に溶解した。アルゴン零囲気下、ジベンジルア
ンモニウムドリフルオロアセテート(1,14g、3.
66rrmol)を加え、50〜70℃で16時間攪拌
した。放冷後、水(sO*)を加え、エーテルで抽出し
た。エーテル層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和重
曹水、及び水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=1:1)によ
り精製し、C1−3−ホルミル−6−エキソ−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル−7−エンド−テトラヒ
ドロビラニルオキシビシクロ〔3゜3.0〕オクト−2
−エン)(1,03g、82チ)を得た。
チルジメチルシリルオキシメチル−7−エンド−テトラ
ヒドロビラニルオキシビシクロ(3,3,0)オクタン
)(1,19g、2.97mnol )をベンゼン(4
,5M)に溶解した。アルゴン零囲気下、ジベンジルア
ンモニウムドリフルオロアセテート(1,14g、3.
66rrmol)を加え、50〜70℃で16時間攪拌
した。放冷後、水(sO*)を加え、エーテルで抽出し
た。エーテル層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和重
曹水、及び水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(エーテル:n−ヘキサン=1:1)によ
り精製し、C1−3−ホルミル−6−エキソ−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル−7−エンド−テトラヒ
ドロビラニルオキシビシクロ〔3゜3.0〕オクト−2
−エン)(1,03g、82チ)を得た。
IR(neat):2950,2870,1680,1
620゜835cm−’ NMRδ(CDCI、) 9.78(s 、 IH) 、6.71 (d 、J=
2Hz)。
620゜835cm−’ NMRδ(CDCI、) 9.78(s 、 IH) 、6.71 (d 、J=
2Hz)。
4.60(bs、IH)、3.00−4.20(m。
6H)、0.90(s、9H)。
Mass m/z %):295(1)、159(33
)。
)。
85(100)、75(26)、73(19)。
67(12)、57(14)、45(14)。
43(22)。
((X)、 !−77°(ca=2 、77 、MeO
H)。
H)。
実施例1
アルゴン雰囲気下、3−カルボキシプロピルトリフェニ
ルホスホニウムプロミド(5,58g、13mmol)
をTHF (6ON)に懸濁した。t−ブトキシカリウ
A (3,01g、26mmol)の’II(F溶液(
50ゴ)を加え、室温で10分間攪拌した。そこへCノ
ー3−ホルミル−6−ニキソーt−プチルジメテルシリ
ルオキシメテル−7−二/トーチトラヒドロビラニルオ
キシビシクロ(3,3,0)−オクト−2−エン) (
990q、2.6mmol )のIII′(F+溶液(
20コ)を滴下し、室温で30分間攪拌した。飽和塩化
アンモニウム水溶液を加え、πWを減圧で留。
ルホスホニウムプロミド(5,58g、13mmol)
をTHF (6ON)に懸濁した。t−ブトキシカリウ
A (3,01g、26mmol)の’II(F溶液(
50ゴ)を加え、室温で10分間攪拌した。そこへCノ
ー3−ホルミル−6−ニキソーt−プチルジメテルシリ
ルオキシメテル−7−二/トーチトラヒドロビラニルオ
キシビシクロ(3,3,0)−オクト−2−エン) (
990q、2.6mmol )のIII′(F+溶液(
20コ)を滴下し、室温で30分間攪拌した。飽和塩化
アンモニウム水溶液を加え、πWを減圧で留。
去した。残留水層を10チ塩酸水溶液にてpH5〜4に
調整し、酢酸エチルによシ抽出した。有機層は無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残留物にエー
テルを加え、不溶物を濾過によって除去した。濾液にジ
アゾメタンのエーテル溶液を加えた。薄層クロマトグラ
フィーによシ〔3−(4−カルボキシ−1−ブテニル)
−6−エ午ンーーープチルジメチルゾリルオキシメテル
−7−エンドーテトラヒドロピラニルオキシビツクロ(
3,3,0)オクト−2−エン〕のスポットの消失を確
認後、少量のギ酸を加え、ただちに飽和重曹水、飽和食
塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を
留去して得られた残留物を、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー(エーテル:\:/ n−ヘキサン多1:2)によシ精製し、〔ノー3−(4
−メト牛シカルボニ、A/−1−ブテニル)−6−エΦ
ソーt−ブチルジメチルシリルオキシメチル−7−エン
ド−テトラヒドロピラニルオキシビシクロ(3,3,0
)オクト−2−エン)(1,09g。
調整し、酢酸エチルによシ抽出した。有機層は無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残留物にエー
テルを加え、不溶物を濾過によって除去した。濾液にジ
アゾメタンのエーテル溶液を加えた。薄層クロマトグラ
フィーによシ〔3−(4−カルボキシ−1−ブテニル)
−6−エ午ンーーープチルジメチルゾリルオキシメテル
−7−エンドーテトラヒドロピラニルオキシビツクロ(
3,3,0)オクト−2−エン〕のスポットの消失を確
認後、少量のギ酸を加え、ただちに飽和重曹水、飽和食
塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を
留去して得られた残留物を、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー(エーテル:\:/ n−ヘキサン多1:2)によシ精製し、〔ノー3−(4
−メト牛シカルボニ、A/−1−ブテニル)−6−エΦ
ソーt−ブチルジメチルシリルオキシメチル−7−エン
ド−テトラヒドロピラニルオキシビシクロ(3,3,0
)オクト−2−エン)(1,09g。
90チ)を得た。(6)−及び(6)−異性体比は2対
1であった。
1であった。
IR(neat):2950,2870,1745,8
40cm 。
40cm 。
NMRδ(CDCl2)
6.24(d 、J=16Hz、 1/3H,tran
s)。
s)。
5.98(d、J=11Hz、2/3H,cis)。
5.57(bs、IH)、5.30(m、IH)。
4.60 (bs 、 IH) 、 3.20〜4.2
5 (m、 8H)。
5 (m、 8H)。
2.95(IH)、0.90(s、9H)。
Mass m/z (%) 二464(trace、M
+)。
+)。
323(20)、231(2B)、159(29)。
157(16)、117(11)、85(100)。
75(25)、73(20)、67(12)。
57(14)、43(13)、41(13)。
(α)20−−s θ°(c−1,36、MeOH)
。
。
実施例2
(J−3−(4−メトキシカルボニ/I/−1−ブテニ
ル)−6−ニキソーt−プテルジメテルシリルオキシメ
テル−7−エンドーテト2ヒドロピ2ニルオキシビシク
ロ(3,3,0)オクト−2−エン〕(547mg、1
.18mmol )をメタノール(10m)に溶解した
。10チパラジウム/炭素(150q)を加え、水素雰
囲気下、室温で1時間10分授拌した。
ル)−6−ニキソーt−プテルジメテルシリルオキシメ
テル−7−エンドーテト2ヒドロピ2ニルオキシビシク
ロ(3,3,0)オクト−2−エン〕(547mg、1
.18mmol )をメタノール(10m)に溶解した
。10チパラジウム/炭素(150q)を加え、水素雰
囲気下、室温で1時間10分授拌した。
触媒を篩別し、濾液の溶媒を留去した。残留物をシリカ
ゲルカ2ムクロマトグラソイー(エーテル:n−ヘキサ
ン=1:5)によシ精製し、〔l−3−(4−メトキシ
カルボニルブチル)−6−エキソ−1−−ブテルジメテ
ルシリルオキシメテル−7−エンド−テトラヒドロビラ
ニルオキシビシクロ(3,3,0)オクト−2−cy)
(509In9.93%)を得た。
ゲルカ2ムクロマトグラソイー(エーテル:n−ヘキサ
ン=1:5)によシ精製し、〔l−3−(4−メトキシ
カルボニルブチル)−6−エキソ−1−−ブテルジメテ
ルシリルオキシメテル−7−エンド−テトラヒドロビラ
ニルオキシビシクロ(3,3,0)オクト−2−cy)
(509In9.93%)を得た。
IR(neat) 二2950,2880,1745,
840cm 。
840cm 。
NM几δ(CDCI、)
5.25(d 、J=IHz 、 IH) 、4.60
(bs 。
(bs 。
IH)、3.65(s、3H)、2.90(m、IH)
。
。
0.9’0(s 、9H) 。
Mass m/z (%)= 325(8)−,233
(12)。
(12)。
159(2B)、85(10u)、75(17)。
73(13)。
C(1);’= −12°(c=1.68.MeOf−
I) 。
I) 。
尖施例3
(J−3−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−エ
キソ−t−ブチルジメチルシリ化オキシメチル−7−ニ
ンドーテト2ヒドロビ2二々オキシビシクロ[3,3,
0)オクト−2−エン)(585■、1.26mmol
)を’11(F (5ILt )に溶解した。テトラ−
n−プチルアンモニウムフルオリド(IMTHF溶液2
、5ml 、 2 、5mmol )を加え、室温で
3時間攪拌した。飽和食塩水を加え、π■゛を減圧で留
去した。残留水層をエーテルで抽出し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、溶媒を留去した。残留物をシリカ
ゲルカ2ムクロマトグラフィーにょシ精製し、(l−3
−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−ニキソーヒ
ドロキシメチルー7−エンドーテト2ヒドロビ2ニルオ
キシビシクロ〔3゜3.0〕オクト−2−エン) (4
25M9,95.2g6)を得た。
キソ−t−ブチルジメチルシリ化オキシメチル−7−ニ
ンドーテト2ヒドロビ2二々オキシビシクロ[3,3,
0)オクト−2−エン)(585■、1.26mmol
)を’11(F (5ILt )に溶解した。テトラ−
n−プチルアンモニウムフルオリド(IMTHF溶液2
、5ml 、 2 、5mmol )を加え、室温で
3時間攪拌した。飽和食塩水を加え、π■゛を減圧で留
去した。残留水層をエーテルで抽出し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、溶媒を留去した。残留物をシリカ
ゲルカ2ムクロマトグラフィーにょシ精製し、(l−3
−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−ニキソーヒ
ドロキシメチルー7−エンドーテト2ヒドロビ2ニルオ
キシビシクロ〔3゜3.0〕オクト−2−エン) (4
25M9,95.2g6)を得た。
IR(neat):3480,2950,2880゜1
740c*’。
740c*’。
NM几 δ(CDCI5)
5.25(d、J−IHz、IH)、4.60(m。
IH)、3.66(s 、3H) 、3.00(m、1
)I)。
)I)。
Mass m/z 舒) :352(trace、M+
)。
)。
268(3)、85(100)、67(11)、57(
10)。
10)。
41(11)。
rQ):0=−19°(c=2.09.Meα1)。
参考例8
アルゴン雰囲気下、コリンズ試薬(Cro 3・2PY
。
。
660〜,2.56mmol)及び上2イト(66#)
を塩化メ・テレン(10m/)に懸濁した。(l−3−
(4−メトキシカルボニルブチル)−6−ニキソーヒド
ロキシメチルー7−エ/ドーテト2ヒドロピラニルオキ
シビシクロ(3,3,0)オクト−2−エン)、(50
1v、0.142mmol)の塩化メチレン溶液(2,
5M)を加え、0℃で30分間攪拌した。硫酸水素ナト
リウム−水和物1.32gを加え、さらに0℃で10分
間攪拌した。無水硫酸マグネシウムを濾過助剤として反
応液を濾過し、塩化メチレンで洗浄した。濾液を合わせ
、溶媒を留去し、〔3−(4−メトキシカルボニルブチ
ル)−6−ニキソーホルミlL、 −7−ニンドーテト
2ヒドロピラニルオキシビシクロ(3,3,0)オクト
−2−エン〕(48IR9,96チ)を得た。
を塩化メ・テレン(10m/)に懸濁した。(l−3−
(4−メトキシカルボニルブチル)−6−ニキソーヒド
ロキシメチルー7−エ/ドーテト2ヒドロピラニルオキ
シビシクロ(3,3,0)オクト−2−エン)、(50
1v、0.142mmol)の塩化メチレン溶液(2,
5M)を加え、0℃で30分間攪拌した。硫酸水素ナト
リウム−水和物1.32gを加え、さらに0℃で10分
間攪拌した。無水硫酸マグネシウムを濾過助剤として反
応液を濾過し、塩化メチレンで洗浄した。濾液を合わせ
、溶媒を留去し、〔3−(4−メトキシカルボニルブチ
ル)−6−ニキソーホルミlL、 −7−ニンドーテト
2ヒドロピラニルオキシビシクロ(3,3,0)オクト
−2−エン〕(48IR9,96チ)を得た。
一方、水素化ナトリウム(油性60%、11J++9゜
0.28mmol)を、アルゴン雰囲気下ペンタンで洗
浄し、31のm(ジメト=?シェタン)に懸濁した。ジ
メチル(2−オキソヘプチル)ホスホネー) (641
119,0,29mm01 )のM溶液(3d)を加え
、室温で25分間攪拌した。(3−(4−メトキシカル
ボニルブチル)−6−ニキソーホルミルー7−エンドー
テトラヒドロピラニルオキシビシクロ(3,3,0)オ
クト−2−:x、ン) (48In9) ノDME溶液
(3m/)を加え、室温で1時間攪拌後、飽和塩化アン
モニウム水溶液を加えた。減圧下、仏化を留去後、ニー
?−ルで抽出し、エーテル層を飽和食塩水で洗浄した。
0.28mmol)を、アルゴン雰囲気下ペンタンで洗
浄し、31のm(ジメト=?シェタン)に懸濁した。ジ
メチル(2−オキソヘプチル)ホスホネー) (641
119,0,29mm01 )のM溶液(3d)を加え
、室温で25分間攪拌した。(3−(4−メトキシカル
ボニルブチル)−6−ニキソーホルミルー7−エンドー
テトラヒドロピラニルオキシビシクロ(3,3,0)オ
クト−2−:x、ン) (48In9) ノDME溶液
(3m/)を加え、室温で1時間攪拌後、飽和塩化アン
モニウム水溶液を加えた。減圧下、仏化を留去後、ニー
?−ルで抽出し、エーテル層を飽和食塩水で洗浄した。
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して得られ
た残留物を、シリカゲルカ2ムクロマトグ2フィー(エ
ーテ/I/:n−ヘキサン−2: 5 )によルfit
製し、(3−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−
ニキソー(3−オキソ−トランス−1−オクテニル)−
7−ニントーテトラヒドロピラ二ルオキシビゾクロ(3
,3,0)オクト−2−エン〕(35ダ、57チ)を得
た。
た残留物を、シリカゲルカ2ムクロマトグ2フィー(エ
ーテ/I/:n−ヘキサン−2: 5 )によルfit
製し、(3−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−
ニキソー(3−オキソ−トランス−1−オクテニル)−
7−ニントーテトラヒドロピラ二ルオキシビゾクロ(3
,3,0)オクト−2−エン〕(35ダ、57チ)を得
た。
III、 (neat):2950,2880.174
2,169B。
2,169B。
1672.1628備 。
NMRδ(CDCI、)
6.80(m、 II() 、 6.17(dXd 、
J =16 。
J =16 。
4)iz、IH) 、5.30 (d 、J−IIh
、 IH) 。
、 IH) 。
4.65.4.55(各bs 、 total IH)
。
。
3.68(s、3)1)、3.00(m、IH)。
Mass m/z (g6) :362(10)、31
B(13)。
B(13)。
85(100)、67(16)、57(18)。
55(13)、43(20)、41(20)。
参考例9〜12
πWδ
HPO
参考例8と同様の方法で、各種ジメチル(2−オキソア
ルキ/I/)ホスホネートとの反応によシ(3−オキソ
−1−アルケニル)−シス−ビシクロ(3,3,0)オ
クテン誘尋体を合成した結果を表−1に、そのスペクト
ルデータを表−2に示す。
ルキ/I/)ホスホネートとの反応によシ(3−オキソ
−1−アルケニル)−シス−ビシクロ(3,3,0)オ
クテン誘尋体を合成した結果を表−1に、そのスペクト
ルデータを表−2に示す。
表−2
参考例13
(3−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−二牛ノ
ー(3−オキソート2ンスー1−オクテニル)−7−ニ
ンドーテトラヒドロビ2ニルオキシビシクロ(3,3,
0)オクト−2−エン)(32ffip。
ー(3−オキソート2ンスー1−オクテニル)−7−ニ
ンドーテトラヒドロビ2ニルオキシビシクロ(3,3,
0)オクト−2−エン)(32ffip。
0.072mmol)をメタノール(5m1) ic溶
解した。
解した。
−20℃に冷却し、過剰の水素化ホウ素ナトリウムを加
えた。−20℃で20分間攪拌後、過剰のアセトンを加
えた。室温にもどした後、飽和塩化アンモニウム水溶液
を加え、減圧下、メタノールおよびアセトンを留去した
。残留水層をエーテルで抽出し、無水硫散マグネシウム
で乾燥後、溶媒を留去して、(3−(4−メトキクカル
ボニルブチル)−6−ニキソー(3−ヒドロキシ−トラ
ンス−1−オクテニル)−7−ニンドーテト2ヒドロピ
2ニルオキシビシクロ(3,3,0)オクト−2−エン
〕(32〜、100%)を得た。
えた。−20℃で20分間攪拌後、過剰のアセトンを加
えた。室温にもどした後、飽和塩化アンモニウム水溶液
を加え、減圧下、メタノールおよびアセトンを留去した
。残留水層をエーテルで抽出し、無水硫散マグネシウム
で乾燥後、溶媒を留去して、(3−(4−メトキクカル
ボニルブチル)−6−ニキソー(3−ヒドロキシ−トラ
ンス−1−オクテニル)−7−ニンドーテト2ヒドロピ
2ニルオキシビシクロ(3,3,0)オクト−2−エン
〕(32〜、100%)を得た。
IR(neat):3470,3230,2950゜1
2880.1742aa 。
NM几δ(C1l)C13)
5.57(m、2H)、5.28(d、J−IHz。
IH)、4.63(bs、IH)、3.65(s、3H
)。
)。
2.95(m、IH)。
Mass m/z (%) 二430(1,M’−H2
O)。
O)。
302(15)、85(100)、67(13)。
57(16)、55(11)、43(17)。
41(1B)。
参考例14〜17
THPOO
開
参考例13と同様の方法で各種3−オキソ−1−アルケ
ニル−シス−ビシクロ(3,3,0)オクテン誘導体の
還元を行った結果及びスペクトルデータを表−3に示す
。
ニル−シス−ビシクロ(3,3,0)オクテン誘導体の
還元を行った結果及びスペクトルデータを表−3に示す
。
参考例18
田
H
(3−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−ニキソ
ー(3−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−7
−ニンドーテトラヒドロビラニルオキクビシクロ(3,
3,0)オクト−2−エン〕(32mg、0.072m
mol )を酢酸:水: Tf廿” (0,5m1)(
3二1:1.容積比)混合液に溶解し、45〜50℃で
5時間攪拌した。エーテルで希釈後飽和重曹水で中和し
た。エーテル層は飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残留物をク
リカグルカラムクロマトグ2フィー(エーテル:n−ヘ
キサン上5=1〜エーテル:メタノール=4o : 1
)によシ精製し、極性のよシ高いフラクションとして
(3−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−ニキソ
ー(3α−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−
7−ニンドーヒドロキシビシクロ(3,3,0)オクト
−2−エン)(13ダ、48%)及び極性のよカルボニ
ルブチ#)−6−ニキソー(3β−ヒドロ生シート2ン
スー1−オクテニル)−7−ニンドーヒドロキシビシク
ロ(3,3,0)オクト−2−エン)(7IR9#26
%)を得た。α−エピマーのスペクトルデータを以下に
示す。β−エピマーのスペクトルも同様である。
ー(3−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−7
−ニンドーテトラヒドロビラニルオキクビシクロ(3,
3,0)オクト−2−エン〕(32mg、0.072m
mol )を酢酸:水: Tf廿” (0,5m1)(
3二1:1.容積比)混合液に溶解し、45〜50℃で
5時間攪拌した。エーテルで希釈後飽和重曹水で中和し
た。エーテル層は飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残留物をク
リカグルカラムクロマトグ2フィー(エーテル:n−ヘ
キサン上5=1〜エーテル:メタノール=4o : 1
)によシ精製し、極性のよシ高いフラクションとして
(3−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−ニキソ
ー(3α−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−
7−ニンドーヒドロキシビシクロ(3,3,0)オクト
−2−エン)(13ダ、48%)及び極性のよカルボニ
ルブチ#)−6−ニキソー(3β−ヒドロ生シート2ン
スー1−オクテニル)−7−ニンドーヒドロキシビシク
ロ(3,3,0)オクト−2−エン)(7IR9#26
%)を得た。α−エピマーのスペクトルデータを以下に
示す。β−エピマーのスペクトルも同様である。
IR(neat):3400,2970,2930.2
870゜1742備。
870゜1742備。
NMRδ(CDCl2)
5.60(m、2H)、5.33(bs、IH)。
4.12(m、IH)、3.69(s、3H)。
3.00(m、IH)。
Mass m/z (%) :346(25,M’−H
2O)。
2O)。
328(18)、315(9)、302(71)。
275(15)、247(11)、232(32)。
199(17)、193(19)、180(30)。
179(27)。
参考例19〜22
参考例18と同様の方法で各種(3−(4−メトキ7カ
ルボニルブテル)−6−ニキソー(3−”ヒドロ生シー
ト2ンスー1−アルケニル)−7−ニンドーテト2ヒド
ロピ2ニルオキシビシクロ〔3,3,0)オクト−2−
エン〕の脱瞥化を行い更にシリカゲルカ2ムクロマトグ
ンフイーにて15−位水酸基に基づく異性体を分離した
。結果及びスペクトルデータを表−4に示す。いずれの
場合も極性の高い異性体をα−エピマー、極性の低い異
性体をβ−エピマーとした。
ルボニルブテル)−6−ニキソー(3−”ヒドロ生シー
ト2ンスー1−アルケニル)−7−ニンドーテト2ヒド
ロピ2ニルオキシビシクロ〔3,3,0)オクト−2−
エン〕の脱瞥化を行い更にシリカゲルカ2ムクロマトグ
ンフイーにて15−位水酸基に基づく異性体を分離した
。結果及びスペクトルデータを表−4に示す。いずれの
場合も極性の高い異性体をα−エピマー、極性の低い異
性体をβ−エピマーとした。
参考例23
(3−(4−メトキシカルボニルブチル)−6−ニキノ
ー(3α−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−
7−エンド−ヒドロキシビシクロ(3,3,0)オクト
−2−エン〕(10〜、0.027mmoりをメタノー
ル(0,3m)に溶解した。0℃で10%水酸化ナトリ
ウム水溶液(0,2m)を加えた。
ー(3α−ヒドロキシ−トランス−1−オクテニル)−
7−エンド−ヒドロキシビシクロ(3,3,0)オクト
−2−エン〕(10〜、0.027mmoりをメタノー
ル(0,3m)に溶解した。0℃で10%水酸化ナトリ
ウム水溶液(0,2m)を加えた。
0℃で9時間攪拌後、冷却下、10チ塩酸水溶液にて中
和した。減圧下メタノールを留去後、pH3〜4に調整
し、酢酸エチルで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を情夫して(9(0)−メタノ−Δ6(”)
−PGll)(10In9,100%)を得たO IR(neat):3350,2910,2850゜1
700.1450,1250α。
和した。減圧下メタノールを留去後、pH3〜4に調整
し、酢酸エチルで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を情夫して(9(0)−メタノ−Δ6(”)
−PGll)(10In9,100%)を得たO IR(neat):3350,2910,2850゜1
700.1450,1250α。
NMRJ(CDCl2)
5.60(m、2H)、5.31(bs、IH)。
4.11(m、IH)、33−80(、IH)。
3.00(m、IH)、0.90(t、J−6Hz。
3H)。
Mass (CI、NE(、)m/z :36B(M+
+NH4)。
+NH4)。
融点ニア3〜79℃
〔α〕D =+16°(C=lIO,25、MeOH)
。
。
同様に、15/−エピマ一体も加水分解し、9(0)−
メタノ−Δ6(9′″)−PGI 、の15β異性体を
得た。スペクトルータータ(IR,、NMR,Mass
)はΔ6c9″)−PGllのデータと一致する。
メタノ−Δ6(9′″)−PGI 、の15β異性体を
得た。スペクトルータータ(IR,、NMR,Mass
)はΔ6c9″)−PGllのデータと一致する。
参考例24〜27
H
参考例23と同様の方法で、各種(3−(4−メトキシ
カルボニルブチル)−6−ニキノー(3α−ヒドロ上シ
ート2ンスー1−アルケニk) −7−ニンドーヒドロ
キシビシクロ(3,3,0)オクト−2−エン゛〕を加
水分解して各fi(9(0)−メタノ−Δ6(9a)−
PG工1誘導体〕を得た。結果及びスペクトルデータを
表−5に示す。
カルボニルブチル)−6−ニキノー(3α−ヒドロ上シ
ート2ンスー1−アルケニk) −7−ニンドーヒドロ
キシビシクロ(3,3,0)オクト−2−エン゛〕を加
水分解して各fi(9(0)−メタノ−Δ6(9a)−
PG工1誘導体〕を得た。結果及びスペクトルデータを
表−5に示す。
同様に、15β−エピマ一体も加水分解し、9(0)−
メタノ−Δ6(9″)−PGI、誘導体の15β異性体
を得た。スペクトルデータ(IR,NMR,Mass)
はΔ6(?“ゝ−PGI 1誘導体のデータとそれぞれ
一致する。
メタノ−Δ6(9″)−PGI、誘導体の15β異性体
を得た。スペクトルデータ(IR,NMR,Mass)
はΔ6(?“ゝ−PGI 1誘導体のデータとそれぞれ
一致する。
試験例
以上の方法で合成された化合物のうち例えば9(0)−
メタノ−Δ6C9” −PGI 、は、以下に記す生物
活性を有する。ウサギの血液を用いた場合、アデノシン
ニリン酸(ADP)によって誘発される血小板の凝集を
PGI 2の士の強さで抑制し、又、人の血液を用いた
場合にはPGI2の7という強さを示した。血圧に対す
る影響では2ツトを用いた場合PGI 、、と同程度の
強さを示し、0.1μg/kgの投与量で血圧降下作用
を示した。6搏度数に対する影響もPGI2の強さとほ
ぼ同様であシ、ラットを用いた実験では、1μg/Ic
gの投与量で6搏度数の増大を示した。抗潰瘍作用でも
ウサギの胃を用いた実験において10 Mという低濃度
で活性を示し、これはPGE2と同程度の強さである。
メタノ−Δ6C9” −PGI 、は、以下に記す生物
活性を有する。ウサギの血液を用いた場合、アデノシン
ニリン酸(ADP)によって誘発される血小板の凝集を
PGI 2の士の強さで抑制し、又、人の血液を用いた
場合にはPGI2の7という強さを示した。血圧に対す
る影響では2ツトを用いた場合PGI 、、と同程度の
強さを示し、0.1μg/kgの投与量で血圧降下作用
を示した。6搏度数に対する影響もPGI2の強さとほ
ぼ同様であシ、ラットを用いた実験では、1μg/Ic
gの投与量で6搏度数の増大を示した。抗潰瘍作用でも
ウサギの胃を用いた実験において10 Mという低濃度
で活性を示し、これはPGE2と同程度の強さである。
細胞毒性は非常に弱く、工C3o=5μg/dである。
特許出願人
財団法人 相模中央化学研究所畠
Claims (1)
- (1) 一般式 で表わされるビシクロ(3,3,0)オクテン誘導体(
式中、几1は水素原子又はアルキル基 R2及びtは水
素原子又は水酸基の保護基であシ、Xはアルキレン基又
社ビニレン基である。)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58177129A JPS6069054A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | ビシクロ〔3.3.0〕オクテン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58177129A JPS6069054A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | ビシクロ〔3.3.0〕オクテン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6069054A true JPS6069054A (ja) | 1985-04-19 |
JPH039892B2 JPH039892B2 (ja) | 1991-02-12 |
Family
ID=16025675
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58177129A Granted JPS6069054A (ja) | 1983-09-27 | 1983-09-27 | ビシクロ〔3.3.0〕オクテン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6069054A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62153258A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-08 | Sagami Chem Res Center | (1−アルケニル)−ビシクロ〔3.3.0〕オクテン誘導体の製造法 |
US5107014A (en) * | 1990-05-10 | 1992-04-21 | K.K. Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo | Prostaglandin I analogue |
-
1983
- 1983-09-27 JP JP58177129A patent/JPS6069054A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62153258A (ja) * | 1985-12-26 | 1987-07-08 | Sagami Chem Res Center | (1−アルケニル)−ビシクロ〔3.3.0〕オクテン誘導体の製造法 |
JPH0419217B2 (ja) * | 1985-12-26 | 1992-03-30 | Sagami Chuo Kagaku Kenkyusho | |
US5107014A (en) * | 1990-05-10 | 1992-04-21 | K.K. Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo | Prostaglandin I analogue |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH039892B2 (ja) | 1991-02-12 |
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