JPS60139645A - カルバサイクリン類縁体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は構造式 で表わされるカルバサイクリン類縁体即ち、３−（４−
カルボキシブチル）　−６（８）−（３（Ｓ）−ヒドロ
キシ−３−シクロペンテルー１−トランス−プロペニル
Ｊ−７（均一ヒドロキシ−（１８，５８）−シス−ビア
クロ（３，３，０）オクト−２−エン及びその製造方法
に関する。

本発明の３−（４−カルボキシブチル）　−６（Ｓ）−
（３（８）−ヒドロキシ−３−シクロペンテルー１−ト
ランス−プロペニル］−７（ＥＱ−ヒドロキシ−（ｔｓ
、５ｓ）−シスービシクａ（３Ｊ、０］オクト−２−エ
ンは強力な血小板凝集阻止作用を有し、例えにその作用
紘人血小板を用いた場合には化学的に不安定ｅＰＧＩ２
に匹敵し、種々の循環器疾患の治療乃至は予防薬として
、利用される化合物である。さらに杜、ブロスタグ２ン
ジンＥ２に匹敵する抗潰瘍作用をもち１．新しいタイプ
の抗潰瘍系としても有望である（下記試験側参照）。

本発明の３−（４−カルボキシブチル）　−６（Ｓ）−
（３（Ｓ）−ヒドロキシ−３−シクロペンテルー１−ト
ランス−プロペニル）−７（Ｒ１−ヒドロキシ−（１８
，５８）−ｖスーピククロ（’３，３．０）オクト−２
−エンは以下の物性値を有する化合物である。

融点：１１５〜１１６℃（酢酸エテル−ｎ−ヘキサンか
ら再結晶、）１′ 特性赤外吸収スペクトｔｗ　（ＫＢｒ）：３４３０　、
２９６０　。

１７００．１６５５ｃｍ　。

ＮＭＲＩＸぺ声’）　ル（ｐＩ）ｍ）：５．６２（２Ｈ
，ｍ、側鎖オレフィンプロトン）、５．３２（ＩＨ，ｂ
ｓ、項内オレフィンプロトン）、３．９０（２Ｈ，ｍ。

酸素に隣接する炭素につくプロトン）。

３．００（ＩＨ，ｍ、リング接合部の７リリツクプｏ　
トｙ　）　、　１．００〜２．７０（２５Ｈ，ｍ）　。

質量分析スペクトル（ＣＩ　、Ｎ−）ｍ／　ｚ　：　３
６６＋ （Ｍ刊引、）。

旋光度：〔α）　２０−＋　２９°（ｃ−０，３７、Ａ
ｃ０Ｂｔ）。

本発明の前記一般式（１）で表わされる３−（４−カル
ボキシブチル）　＋　６（８）−（３（８）−ヒト四キ
シー３−シクロペンテルー１−）？ンスープロペニル）
−７（Ｒ）−ヒドロキシ−（１８，５８）−シス−ビシ
クロ［３，３，０１オクト−２−エンは下記の反応式に
従い製造するものである。

伺、本発明における水酸基の保護基ａ　Ｂ２としてテト
ラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、４−メトキシ
テトラヒドロピラニル基、１−エトキシエチル基、１−
メチル−１−エトキシエチル基、ｔ−ブチルジメチルシ
リル基等を例示することができ　ｎ４としてドブチルジ
メチルクリル基、ベンゾイル基、アセチル基尋を例示す
ることができる。

ｌ ｔ♂ 晶 ６ ｎ’。

脆　Ｏ （式中、ぎ及びＲ４は水酸基の保護基〆はアルキル基で
あシ　Ｒ５はフェニル基又はアルキル基であ２１ｏ）〔
第１工程〕 本工程は前記一般式（…）で表わされるシクロペンチリ
デン誘導体を水利反応させることによシ前記一般式＠）
で表わされるヒドロキシメチルシクロペンタン誘導体を
製造するものである。

前記一般式（Ｉ）で表わされるシクロペンチリデン誘導
体はコーリーラクトン誘導体をラクトールに還元し、ウ
イテイソヒ反応に付し水酸基を酸化後メチレン化反応を
行うことにより容易に得られる化合物である（下記参考
側参照）。

本工程の水利反応はヒドロホウ素化し、酸化することに
よシ行なわれる。ヒドロホウ素化にあたっては、例えば
９−ＢＢＮ（９−ボラビシクロ〔３゜３．１〕ノナン）
、ジサイアミルポクン、テキシルボラン等のヒドロホウ
素化試剤を用いることができる。ヒドロホウ素化試剤の
使用ムは通常１〜１．５当量用いる。

反応を行うにあたっては溶媒中で行うことが望ましく、
例えばナト２ヒドロフ２ン、ジグライム、ジエチルエー
テル等のエーテル系溶媒を用いることができる。

反応は一り５℃〜室温にて円滑に進行する。

更に本工程はヒドロホウ素化に続き生成物を単離するこ
となく酸化を行うものである。酸化にあたっては、例え
ば過酸化水素等の酸化剤を用いることができる。過酸化
水素を用いて酸化を行う場合には、例えば水酸化ナトリ
ウム等の塩基性の状態で使用することが好ましい。酸化
剤の使用量は５〜１５当量である。

反応は室温〜６０℃で円滑に進行する。

伺、本工程において、例えば９−ＢＢＮを用いたヒドロ
ホウ素化によシ生成する化合物はめ の如き構造を有していると推察される。

〔第２工程〕 本工程は前記第１工程で記られた前記一般式（２）で表
わされるヒト−キシメチルシクロペンタン誘導体を酸化
し、前記一般式俯で表わされるβ−ヒドロキシアルデヒ
ド体を製造するものである。

酸化にあたっては、□例えばジメチルスルホキシド−オ
キザリルクロリド、ジメチルスルホキシド−三酸化イオ
ウのピリジン錯体等を使用することができる。酸化剤の
使用量は通常１〜５当量用いればよい。　・ 反応を行うにあ起りて線溶媒中で行うことが望ましく、
例えば塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素等を用いる
ことができる。

反応は酸化剤の種類によっても異なるが一７０υ〜室温
にて円滑に進行する。

本工程の酸化生成物を得るには、反応物中にトリエチル
アミン、ジイソプロピルエチルアミン婢の第三級アミン
を加え一り０℃〜室温にて処理することにより行なわれ
る。

本工程終了後は生成物を単離することなく次の第３工程
の反応に付することもできる。

〔第３工程〕　： 本工程は前記第２工程で得られた前記一般式（［Ｖ）で
表わされるβ−ヒドロキシアルデヒド体を脱水すること
により前記一般式Ｍで表わされるピックロｒ３．３．０
］オクテニルアルデヒド誘導体を製造するものである。

（ 脱水するＫあたっては酸性触媒の存在下に行うものであ
る。酸性触媒としては、酸−アンモニウム塩を使用する
ことができる。酸−アンモニウム塩触媒は酸とアミンと
から形成することができる。

使用できる酸として社トリフルオロ酢酸、トルエンスル
ホン酸、カンフ７−スルホン酸、酢酸等を例示する仁と
ができる。又、使用できるアミンとしてはジベンジルア
ミン、ジエチルアミン、ジメチルアミン、ジインプロピ
ルアミン、ピペリジン、ピロリジン、ピペラジン等を例
示することができる。これらの酸とアミンは適宜選択し
、組み合わせ使用することができるが、とシわけトリフ
ルオロ酢酸とジベンジルアミンを組み合わせた触媒が収
率よく目的物を得ることができる点で好ましい。

触媒の使用量は０．２当量程度でよいが、反応を速やか
に進行させるためには１当量程度用いることが好ましい
。

反応を行うにあたっては溶媒の使用が望ま、シく、ベン
ゼン、トルエン、キクレン等の芳香族炭化水素を用いる
ことができる。

反応温度は室温〜１０町を選ぶことができるが、反応を
円滑に行うには５０℃〜７０′０の範囲で行うことが好
ましい。

〔第４工程〕 本工程は塩基の存在下、前記第３工程で得られた前記一
般式（Ｖ）で表わされるビシクロ〔３，３，０）オクテ
ニルアルデヒド銹導体と３−カルボキシプロビルホスホ
ニウムブロミドとを反応させ、前記一般式（ロ）で表わ
されるアルケニルビシクロ（３，３゜０〕オクテン銹導
体を製造するものである。

本工程は塩基の存在下に行うことが必要である。−塩基
としてはｔ−ブトキシカリウム、ブチルリチウム、ジメ
チルスル小キシドのナトリウム塩寺を使用することがで
きるが、反応を効率よく行うためにはｔ−ブトキシカリ
ウムの使用が好ましい。

塩基の使用量は原料である前記３−カルポキンブロピル
ホスホニウムプロミト４に対して通常１〜１．２当量用
いる。

反応を行うにあたってはテトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒を好適
に使用すること逅できるが、反応は関与しない溶媒なら
ば何４−限はない。

反応温度は０℃〜５０℃の範−を選択することによち円
滑に反応が進行する。

冑、本工程において得られる化合物は通常遊離のカルボ
ン酸として生成す６１１次工程以下の反応のた込、ジア
ゾメタンあるいはハロゲン化アルキル−ジアザビシクロ
ウンデセイーアセトニトリルという条件を用いてエステ
ルとして単離するととができる。エステルに変換するに
あたっては当業者が容易になし得る方法をもって行うこ
とかできる。　□ 〔第５工程〕 本工程は前記第４工程で得られた前記一般式（２）で表
わされるアルケニルビシクロ〔３，３，０〕オクテン誘
導体を接触還元し、オレフィンの一方のみを選択的に還
元゛した前記一般式（至）で表わされるビＶ／口（３，
３，０）オクテン誘導体を製造するものである。

使用＋きる触媒としてはパラ□ジウムー炭素、パラジウ
ム黒′等のパラジウム触媒、ウィルキンソン触媒、白金
、ニッケル等を挙げることができる。

触媒は所首ｉ触媒量用いれに充分゛である。

木工□程を実施するにあたって水素はＩδ圧で反応させ
てもよいし、又加圧下に反応させてもよい。

反応を行うには溶媒を用いることが望ましく、例えばメ
タノール、エタノール等のアルコール溶ｔｉ、酢酸エチ
ルエステル等のエステル溶媒を使用することができる。

　□ 反応温度は一り５℃〜室温の範囲を選ぶことによシ円滑
−進行する。

〔第６エ程〕 本工程状前記第５工程で得られた前記一般式（至）で表
わされるビシクロ〔３，３，０〕オクテン誘導体のＷを
選択的に脱保護し、前記一般式（至）で表わされるヒド
ロキシメチルビシクロ［３，３，０）オクテン誘導体を
製造するものである。

脱保護するにあたってはｇがクリル基の場合にはテトラ
−ｎ−ブチルアンそニウムフルオリドを、ベンゾイル基
、アセチル基等の場合には炭酸カリウムを脱保護剤とし
て使用することができる。

反応を行うにあたっては溶媒中で行うことが望ましく、
脱保護剤としてナト２−ｎ−プテルアンモニウムフルオ
リドを用いる場合にはテトラヒドロフラン、ジメトキシ
エタン、エチルエーテル等のエーテル溶媒を好適に使用
でき、脱保護剤として炭酸カリウムを使用する場合には
、メタノール、エタノール等のアルコール溶媒を好適に
使用することができる。

反応は一り５℃〜室温にて円滑に進行する。

〔第７エ程〕 本工程は前記第６エ程で得られた前記一般式幡で表わさ
れるヒドロキシメチルビシクロ（３，３゜０〕オクテン
誘導体を酸化し、次いで得られた生成物を前記一般式似
）で表わされる化合物又は前記一般式（Ｘ）で表わされ
る化合物と反応させることによシ、前記一般式（至）で
表わされる（３−オキソ−１−アルケニル）−シスービ
シクロｒ３．３．０］オクテン誘導体を製造するもので
ある。

本工程の酸化にあたっては酸化剤の存在下に行うことが
必要である。酸化剤としてはコリンズ試薬、ジメチルス
ルホキシド−三酸化イオウのピリジン錯体、ピリジ÷ウ
ムクｐｐ／ＦＩイ↓、ジメチルスルホキシド−オキザリ
ルクロリド等を使用することができる。酸化剤の使用量
はコリンズ試薬の場合７〜ｌＯ当量、他の酸化剤は１〜
５当量用いる。

反応を行う、にあたりて社溶媒中で行うことが望ましく
、例えばメチレンクロリド、クロロホルム等のハロゲン
化炭化水素が好ましい。

１１ 反応は一り０℃〜−温の範囲で円滑に進行する。

本工程は引き続き酸化によシ得られた生成物を単離する
ことなく前記一般式釦で表わされる化合物又は前記一般
式（Ｘ）で表わされる化合物と反応させるものである。

前記一般式（２）で表わされるイリ□ 物としては、例えば、ジメチル（２−オキソ−２−シク
ロペンチルエテル）フオスホネー）　等ヲ使用すること
ができ、前記一般式（Ｘ）で表わされる化合物としては
、トリブチルホスフィン−２−オキ□ ソー２−シクロペンチルエテリゲン等を使用することが
できる。前記一般式鉛で表わされる化合物を原料として
選択した場合には塩島の存在下に行うことが収率よく目
的物を得る上で好ましく、例えば水素化ナトリウム、ブ
チルリチウム、ｔ−ブト中ジカリウム等を使用すること
ができる。

反応を行うｋあたりては溶媒中で行うことが望ましく、
例えばテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエチ
ルエーテル等のエーテル溶媒、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族溶媒ｎを使用することができる。

反応温度は、前記一般式叡）で表わされる化合物を用い
る場合には一り５℃〜５０Ｔ１の範囲であシ、又前記一
般式（Ｘ）で表わされる化合物を用いる場合には５０℃
〜１５．０℃の範囲である。

伺、本工程の酸化によシ得られる化合物は、−（式中　
ｎ２は水酸基の保護基であシ、ｔは水素原子又はアルキ
ル基である。）で表わされる化合物であると推察するこ
とができる。

〔第８工程〕 本工程は前記一般式（至）で表わされる（３−オ中ソー
１−アルケニル）−シス−ビシクロ（３，３゜０〕オク
テン誘導体を還元し、水酸基の脱保護反応後加水分解す
ることによシ前記一般式（１）で表わされるカルバサイ
クリン誇導体、即ち３−　（４、−カルボキシブチル’
）　−６（８）−（３（８）−ヒドロキシ−３−シクロ
ペンチル−１−）、ｙンスープロペニル〕−７（均一ヒ
ドロ午シー（１８，５８）−シス−ビシクロ（３，３，
０）オクト−２−エンを製造するものである。

本工程の還元は水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素
亜鉛、リチウム−トリー５ｅｃ−ブチルボロヒドリド、
ジイソブチルア縞ニウムー２，６−ジーｔ−ブチル−４
−メチルフェノキシトを還元剤として使用することがで
きる。還元剤の使用量は前記一般式（至）で表わされる
′（３−オキソ−１−アルケニル）−シス−ビシクロ（
３，３，０）オクテン誘導体に付し、当量ないしやや過
剰量用いるものである。還元するにあたっては溶媒中で
行うことが望ましく、メタノール、エタノール等ノアル
コール溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル溶
媒を還元剤の種類にょシ適宜選択することによシ使用す
ることができる。

反応は一り８℃〜室温の範囲で円滑に進行する。

本工程は還元に続き、水酸基の脱保護反応を行うもので
ある。

脱保護は酢酸、ｅ−トルエン■ン薇等の有機蓋、テトラ
プテルアンモニウムフルオリド、フッ化水素、フッ化カ
リウム等のフッ素イオン発生試剤の存在下に行うことが
できる。

脱保護反応するにあたっては溶媒中で行うことが望まし
くテトラヒドロフラン、エチルエーテル等のエーテル溶
媒、アセトニトリル、ジメチルスルホ中シト、ジメチル
ホルムアミド、水等を一用することができる。

反応は０℃〜７０℃の範囲を選ぶことにょシ円滑に進行
するものである。

本工程は脱係ｌ！反応後、更にエステルの加水分解を行
うものである。

加水分解するにあたっては水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム醇のアルカリ金属水酸化物等を
使用することができる。

加水分解するにあたっては溶媒中で行うことが望ましく
、水、メタノール、エタノール等のアルコール溶媒、テ
トラヒドロフラン嶋を適宜選択し使用することができる
。

反応は一り０℃〜室温の範囲を選ぶことによシ円滑に反
応が進行する。

以下参考例及び実施例によシ更に本発明の詳細な説明す
る。

参考例１ アルゴン雰囲気下（２−オキサ−３−オキソ−６−エ中
ソーーーブチルジメチルクリルオキシメチル−７−エン
ド−ナト２ヒトはビラニルオキシビシクａ　（３，３，
０）オクタｙ　）　（２，２２ｇ　、　６ｍｍｏｌ　）
をトルエン（１０ｍ）に溶解し、−７５℃に冷却した。

水素化ジイソブチルアルミニウム（２５ｇ／１００ＷＬ
！ヘキサン溶液５．１ｍｊ、　９ｍｍｏｌ　）を加え、
−７５℃で７０分間攪拌した。−７５℃で水素の発生が
認められなくなるまでメタノールを加え、室温まで温度
を上げた。酢酸エチル（１３ＯＮ）で希釈後、飽和食塩
水＋洗浄した（２０ｍ１／Ｘ４回）。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を留去し〔１−２−オキサ−３
−ヒドロキシ−６−ニキソーーープチルジメチルシリル
オキクメテルー７−エンドーテトラヒドロピラニルオキ
シビシクロ〔３，３，Ｏ）オクタン］　（２，３３ｇ、
１００チ）を得た。

狭（ｎｅａｔ）：３４３０，２９５０．２８６０，８３
５国　。

ＮＭＲδ（ＣＤＣＩ３） ５．７０〜５．３０　（ｍ　、　ＩＨ）　、４．８５−
４．５５（ｍ、２Ｈ）、４．４０〜３．２５（ｍ、５Ｈ
）、０．９０（ｓ、９Ｈ）。

Ｍａｓｓ　ｍ／ｚ％）　二２１３（５）、　１５９　（
１７）　、８５（１００）、７５（１９）、７３（１３
）。

〔α〕−〇−２８°（ｃ＝１．９８．ＭｅＯＨ）。

参考例２ ＴＨＰＯ’ｌ’□ アルゴン雰囲気下、ｔ−ブトキシカリウム（３，１６ｇ
　、　２８．２ｍｍｏ　１　）を’１）ＩＦ　（５０Ｒ
１）に溶解した。

予め１００°Ｏで減圧下、十分に乾燥したメチルトリフ
エニ、ル、フＶフオニウムプロマイド（１０，０７ｇ、
２８．２ｍｍｏｌ）を室温にて加えた。５分間攪拌した
後、〔１−２−オキサ−３−ヒドロキシ−６−エキソ−
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル−７−エンド−
テトラヒドロピラニルオキシビシクロ〔３゜３６０〕オ
クタン）（３，４０ｇ、９．１ｍｍｏｌ）ＱＴＨＦ溶液
（３０ｗりを加え、室温で２０分間攪拌した。飽和塩化
アンモニウム水溶液を加えた後、減圧下π任を、留去し
た。残留水層をエーテルにて抽出し、飽和食塩水にて洗
浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、エーテルを留
去して得られる残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（エーテル：ｎ−ヘキサン＝２：３）によシ精製
し、（ｄ　−２Ｇ−アリル−３β−ｔ−プテルジメチル
シリルオキシメテル−４α−テトラヒドロピラニルオキ
シ−１α−シクロペンタノール）（３，１８ｇ、９４％
）を得九。

ＩＲ（ｎｅａｊ）：３５００，２９５０．２８？０，１
６４０゜１ ８３５傭　。

關桓ＣＤＣｌ５） ５．８０（ｍ、　ＩＨ）五〇〇（ｍ、　２Ｈ）　、４．
６５（ｂｓ、ＩＨ）、４．３０〜３．００（ｍ、６Ｈ）
。

０．９０　（ｓ　、　９Ｈ）　。

Ｍａｓｓ　ｍ／ｚ（％）：２８５（１）、２２．９（１
）、２１１（３）、１５９（２６）、８５（１００）、
７５（２１）、７３（１３）・　・ （（１）、％０＝＋２１°（Ｃ＝Ｆ２．４４　、ＭｅＯ
Ｈ）参考例３ １（１ 〔ｄ−２０−アリル−３／１−１−ブテルジメテルシリ
ルオΦジメチル−４０−テトラヒドロピラニルオキシ−
１α−シクロペンタノール〕（３，１６ｇ、８．５ｍｍ
ｏりを塩化メチレン（４０ｍ／）に溶解し、酢酸ナトリ
ウム（２８０ｑ　、　２．６ｍｍｐ　ｌ　）及びセライ
ト（３，３６ｇ）を加えた。アルゴン雰囲気下、０゛Ｏ
でピリジニウムクロロクロメート（３，６８ｇ、１７．
１バ叩ｏ１）を加え、０℃！１８時間攪拌した。エーテ
ルで希釈し、フローリシルカラムクロマトグラフィー（
エーテル：ｎ−へキサン＝１＝３〜３：１）にて精製し
〔ｌ−２α−アリル−３β−ｔ−プチルジメテルシリル
オキシメテル−４α−テトラヒドロピラニルオキシ−１
−シクロペンタノン）（ｚ、、ｓｚｇ、９０チ）を得た
。

ＩＲ（ｎｅａｔ）　：２９５０　、２８ＦＯ，１７４８
、１６４２。

８４０ｃｍ’　。

廣几δ（ＣＤＣＩ、） ５．７０（ｒｒｔ、ＩＨ）、５．０３（−ｄ、Ｊ＝１７
Ｈｚ。

ＩＨ）、５．００（ｄ、Ｊ＝１１１１ｚ、ＩＨ）、４．
６５（ｂｓ、ＩＨ）、４．３０（ｍ、ＩＨ）、３．３０
〜４．００（、ｍ、４Ｈ）、０．９０（ｓ、９Ｈ）。

Ｍａｓｓ　ｍ／ｚ１１）：２０９（１７）、１５９（１
７）、８５（１００）、７５（３５）、７３（２３）、
４１（１７）。

ｒ　ａ　〕Ｄ　；５５　（ｃ＝２．１９　、ＭｅＯ）Ｉ
）　−参考例４ アルゴン雰囲気下、ｒｌ−２α−アリル−３β−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシメチル−４ａ−テトラヒドロ
ピラニルオキシ−１−シクロペンタノン〕（２，７９ｇ
　、７．５７ｍｍｏｌ）を塩化メテレｙ（２６ｍ）に溶
解し、箪温で亜鉛−チタニウムクロライド−臭化メデレ
ン試薬（Ｚｎ　”　Ｔ　ｔ　Ｃ＋　４−ＣＨ２Ｂ　ｒ　
２／Ｔｌ丑−４６Ｉ１１）を加えた。ＴＬＣにて原料の
消失を確認後、反応液を飽和重曹水（５００ｍ）とエー
テル（５０抛Ｏの混合液中にあけた。エーテル層を分取
後、水層はさらにエーテルで抽出した。エーテル層を合
わせ、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（エーテル−〇−ヘキサンー１　：
　１０）により精製し、「１−２−〇−アリルー３β−
ｔ−７”チルジメテルゾリルオ＝ｒ−ジメチル−４α−
テトラヒドロピラニルオキシ−１−シクロペンチリデン
〕（２，４８ｇ、９０％）を得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５０，２８７０，１６６０，１
６４０゜８３５ｃｍ　。

褐倶δ（ＣＤＣｌ２） ５．６０　（ｍ、　ＩＨ）　、　４．７５〜５．２０　
（ｍ　、　４Ｈ）　。

４．６３　（ｂｓ　、　ＩＨ）　、　３．３０〜４．３
０（ｍ、５Ｈ）　。

０．９０　（ｓ　、　９Ｈ）　。

Ｍａｓｓ　ｍ／ｚ（％）：　１５９（１Ｂ　）　、　１
３３（１１）　、８５（１００）、７５（１９）、、７
３（１３）。

（ａ　）％−４３°（ｃ　＝２．８４　、　ＭｅＯＨ）
　。

参考例５ アルゴン雰囲気下、９−ボッビシクロｒ３．３゜１］ノ
ナン（二量体、　２．４７２　ｇ　、　２０，３ｍｍｏ
りをＴＨＦ（２８＃Ｉ／りに懸濁した。〔１−２−α−
アリル−３β−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル
−４α−テトラヒドロピラニル丼キシー１−シクロペン
チリゾｙ　）　（２，４＋７’６ｇ　、　６．７５ｍｍ
ｏｌ　）のＴＨＦ溶液（４５ｍ／りを水冷下流下し、５
〜１０℃で７時間３０分間攪拌した。６Ｎ水酸化ナトリ
ウム水溶液（１３，５ｍ　、　８１　ｍｍｏ　１）及び
３０チ過酸化水素水（１１，５ｍ／、　１０１．３ｍｍ
ｏりを加え６０°０で１時間３０分攪拌した。ＴＨＦを
減ビ下留未後、酢酸エチルにて抽出した。有機層はチオ
硫酸ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄した。無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（エーテル：メタ
ノール＝４０：１）によシ精製し、Ｃｄ−１α−ヒドロ
キシメチル−２０−（３−ヒドロキシプロピル）−３β
−１−ブチルジメチルシリルオキシメチル−４ａ−テト
ラヒドロピラニルオキシシクロベンタン〕（２，６５ｇ
、９７チ）を得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４００’、２９４０，２８６０．
８３５ｃｍ　。

褐批δ（ＣＤＣｌ２） ４．６５（ｂｓ、ＩＨ）、４．１０（ｍ、１）、［）、
３．１５〜３．９５　（ｍ　、　８ｆす、０．９０（ｓ
、９Ｈ）。

Ｍａｓｓ　ｍ／ｚ（％）：１５９（１９）、１４９（１
８）、１３３（１９）、、１２１（１３）、１（１５（
１５）、９３（１０）、９１（１０）、８５（，１（１
０）、７９（１１）、７５（３４）、７３（１８）、６
７（１７）、５７（２４）、５５（１６）、４３（１７
）。

□ ４１（２１）、　、、 Ｃ（１１Ｄ＝＋２　（ｃ＝１．６５　、ＭｅＯＨ）。

−前例６ □ アルゴン雰囲気下、−６０℃でオキザリルクロリド（１
，８８ｍ、　２０．０ｍｍｏｌ）を５５１の塩化メチレ
ンに溶解した。ジメチルスルホキシド（３，３９ｍ　。

４７．７ｍｍｏｌ）の塩化メチレン溶液（１５Ｒ１）を
加えた。−６０°０で２０分間攪拌後、ｒｄ−１α−ヒ
ドロキシメチル−２ａ−（３−ヒドロキシプロピル）−
３β−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル−４α−
テトラヒドロピラニルオキシンクロペンタン〕（１，４
８ｇ　、　３．６７ｍｍｏりの塩化メチレン溶液（３０
ｍ／）を加えた。−６０℃で２０分間攪拌後、トリニブ
ルアミン（１５，３６ｍｌ　、　１１０．１ｍｍｏりを
加え、室温まで温度を上昇させた。水を加え塩化メチレ
ンで抽出した。有機層は食塩水で洗浄後無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を留去して、〔２−ヒドロキシ
−３−ホルミル−６−ニキンーｔ　−７’チルジメチル
シリルオキシメチル−７−エンド−テトラ−ヒドロピラ
ニルオキシビシクロ１．３．０）オクタン）（１，１９
ｇ、８１％）を得た。スペクトルデータから、本化合物
は！−ハイドロキシアルデヒドとラクトールとの間の平
衡混合物であった。

ＩＲ（ｌＧ３ｒ）：３４５０　、２９５０　、２８７０
　、２７５０　。

１７３０．８３５ＣＩ＋。

心倶δ（ＣＤＣｌ２） ９．７５（ｔｒａｃｅ）、４．６５（ｍ、　ＩＨ）　、
　３．１０〜４．５０　（ｍ、　６Ｈ）　、　０．９０
　（、ｓ　、　９Ｈ）　。

＋ Ｍａ＠ｓ　ｍ／ｚ（％）：　３１３　（ｔｒａｃｅ、Ｍ
　−８５）　。

１５９（１５）、８５（１００）、７５（１７）。

７３（１２）、５７（１２）、４７（１１）。

参考例７ Ｔ）ＩＰＯ’Ｉ￥（ＰＯ 〔２−ヒドロキシ−３−ホルミル−６−ニキソーｔ−プ
チルジメチルシリルオキシメテル−７−エンドーテトラ
ヒドロピラニルオキシビシクロｒ３．３，０１オクタｙ
　）　（１，１９ｇ　、　２．９７ｍｍｏりをベンゼン
（４，５ｍｌ）に溶解した。アルゴン雰囲気下、ジイン
ジルアンモニウムドリフルオロアセテート　。

（１・１４ｇ、３．６６ｍｍｏ、りを加え、５０〜７０
℃で１６時間攪拌した。放冷後、水（５０ｍ／）を加え
、エーテルで抽出した。ニー夢ルーを飽和塩化アンモニ
ウム水溶液、飽和重曹水、及ｄ水で洗浄した。無水硫酸
マグネシウムで′乾燥後、溶媒を留去し友。

残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（エーテ
ル：ｎ−ヘキサン−１：１）によシ精製し、Ｃｌ−３−
ホルミル−６−エキソ−ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シメチル−７−エンドーテトラヒドロピツニ４ルオキシ
ビシクロｒ３．３．Ｏ〕オクト−２−エン）（１，０３
ｇ、８２チ）を得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５０．２８７０．１６８０．１
６２０　。

８３５鐸−１，□ 心組δ（ＣＤＣｌ２） ９．７８（ｓ、　ＩＨ）　、６．７１　（ｄ、Ｊ＝２Ｈ
ｚ）　。

４．６０（ｂｓ、ＩＨ）、３，０ｔ）−４，２０（ｍ、
６Ｈ）。

０．９０（ｓ、９Ｈ）。

Ｍａｓｓ　ｍ／ｚ（％）：２９５（１）、１５９（３３
）、８５（１００）。

７５（２６）、７３（１９）、６７（１２）、５７（１
４）、４５（１４）、４３（２２）。

１：　Ｑ　）ｐ　−−７７（Ｃ−２，７’７　、ＭｅＯ
Ｈ）。

参考例８ ’ｉ’ｉ−ｎ’ｏ　’ｌ１（Ｐ。

アルゴン雰囲気下、３−カルボキシプロビルトリフェニ
ルホスホニウムプロミ）”（５，５８ｇ、１３ｍｍｏ　
１　）を’Ｉ）ＩＰ（６０１Ｒ１）に懸濁した。ｔ−プ
トキシカリウＡ　（３，０１Ｍ　、　２６ｍｍｏｌ）の
ＴＨＦ溶液（５０ｍ）を加え、室温で１０分間攪拌した
。そこへＣ１−３−ホルミル−６−エキソ−ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシメチル−７−エンド−テトラヒド
ロピラ４ルオキシビシクロ［３，３，０］−オクト−２
−ｘｙ　）（９９０ｑ、２．６ｍｍｏりのＴＨＦ溶液（
２０ｍ）を滴下し、室温で３０分間攪拌した。飽和塩化
アン七ニウム水溶液を加え、π１を減圧で留去した。

残留水層を１０％塩酸水溶液にてｐＨ５〜４に調整し、
酢酸エチルにより抽出した。有機層は無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を留去した。残留物にエーテルを加
え、不溶物を接遇によって除去した。濾液にジアゾメタ
ンのエーテル溶液を加えた。薄層クロットゲ２フイーに
よｐｒ３−（４−カルボキシ−１−ブテニル）−６−ニ
キソーーープテルジメチルシリルオキシメテルー７−エ
ンドーテトラヒドロピ２ニルオキシビシクロ（３，３。

０〕オクト−２−エン〕のスポットの消失を確認後、少
量のギ酸を加え、ただちに飽和重曽水、飽和食塩水で洗
浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去して
得られた残留物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（エーテル：ｎ−ヘキサン：１−：２）により精製し
、Ｃｌ、３−（４−メドキシカルボニル−１−ブテニル
）−６−ニキソーーーブチルジメチルシリルオキシメテ
ルー７−エンドーテトラヒドロビ２ニルオキシビシクロ
ｒ３．３．０）オクト−２−エン）（１，０９ｇ、９０
％）を得た。■）−及び（ト）−異性体比は２対１であ
った。

ＩＲ（ｓｗｅａｔ）　：２９５０，２８７０，１７４５
．８４０ｃｍ　。

心組δ（ＣＤＣ１，） ６．２４　（ｄ　、Ｊ＝１６Ｈｚ　、　１／３Ｈ，ｔｒ
ａｎｓ）。

５．９８（ｄ、Ｊ＝１１Ｈ否、　２／３Ｈ，ｃｉｓ）　
。

５．５７（ｂｓ、ＩＨ）　、　５．３０（ｍ、　ＩＨ）
　、４．６０（ｂｓ、ｉＨ）　、３．２０〜４．’２５
（ｍ、８Ｈ）　、２．９５（ＩＨ’）　、０．９０（ｓ
　、９Ｈ）　。

Ｍａｓｓ　ｍ／ｚ（％）：４６４（ｔｒａｃｅ、Ｍ＋）
　、３゜３（２０）。

２３１（２Ｂ）、１５９（２９）、１５７（１６）。

１１７（１１）、８５（１００）、７５（２５）。

７３（２０）、６フ（１２）、５７．（１４）、４３（
１３）、４１（１３）。

〔α〕Ｈａ冨−５ロー５０°１．３６．Ｍ門ＯＨ）。

を 参考例９ ＴＩ（ＰＯ ’　Ｃｌ−３−（４−メトキシカルボニル−１−ブテニ
ル）−６−エキソ−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメ
チル−７−エン□トーチトラヒドロビラニルオキシビシ
クロ〔３，３゜０〕オクト−２−エン〕（５４７＃、１
．１８ｍｍｏ、１）をメタノール（１０ｍ／’）に溶解
した。１０チパラジウム／炭素（ｔ５０ｍ９）を加え、
水素雰囲気下、室温で１時−１０分指拌した。触媒を濾
別し、濾液の溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（エーテル：ｎ−ヘキサン隼１：
５）によシ精製し、〔ｌ−３−（４−メトキシカルボニ
ルブチル）−６−ニキソーｔ−プテルジメチルシリルオ
キシメテル−７−エンド−テトラヒドロピラニルオキシ
ビシクロ（３，３，０〕オクト−２−エン）（５０９■
、９３チ）を得た。

■几（ｎｅａｔ）：２９５０．２８８０．１７４５．８
４０ＣＩＩ−’。

Ｎ■ｔδ（ＣＤＣｌ２） ５．２５（ｄ　、Ｊ−ＩＨｚ　、　ＩＨ）　、　４．６
０（ｂｓ、ＩＨ）。

３．６５（ｓ、３Ｈ）、２．９０（ｍ、ＩＨ）、０．９
０（５９Ｈ）。

Ｍａｓｓ　ｍ／ｚ１％）：３２５（８）、　２３３（１
２）　、　１５９　（２８）。

８５（１００）、７５（１７）、７３（１３）。

（ａ）、　＝−１２（ｃ＝１．６８　、ＭｅＯＨ）。

参考例１０ ＣＩ−３−（４−メトキシカルボニルブチル）−６−ニ
キクーｔ−ブナルジメテルシリルオキシメチル−７−エ
ンド−テトラヒドロピラニルオキシビシクロ（３，３，
０１オクト−２−エン］　（５８５ダ。

１．２６ｍｍｏりを慣廿’（５ｍ／）に溶解した。テト
ラ−ｎ−プテルアンモニウムフルオリド（ＩＭＴＨＦ溶
液２．５′ＩＬ！、　２．５　ｍｍｏ　ｌ　）を加え、
室温で３時間攪拌した。

飽和食塩水を加え、Ｔ掛゛を減圧で留去した。残留水層
をエーテルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
ドグ２フイーによシ精製し、〔１Ｉ−３−（４−メトキ
シカルボニルブチル）−６−ニキソーヒドロキシ、メチ
ル−７−エンドーテトラヒドロピ２ニルオキシビシクロ
（３，３，０）オクト−２−エン）（４２５ダ、９５．
２チ）を得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４８０，２９５０．２Ｂ８０，１
７４０ｃ！ｌｉ　。

心組δ（ＣＤＣｌ２） ５．２５（ｄ、Ｊ−ＩＨｚ、ＩＨ）、４．６０（ｍ、Ｉ
Ｈ）。

３．６６（ｓ、３Ｈ）、３．００（ｍ、ＩＨ）＋ Ｍａｓｓ　ｍ／４）：３５２（ｔｒａｃｅ、Ｍ　）　、
２６８（３）、８５（１００）、６７（１１）、５７．
（１０）、４１（１１）。

ｒａ）Ｄ＝−１９（ｃ＝２．０９　、ＭｅＯＨ）　。

参考例１Ｉ Ｔ）ＩＰＯ アルゴン雰囲気下、コリンズ試薬（Ｃｒ０３・２Ｐｙ。

６６０＃Ｉ１７．２．５６ｍｍｏｌ）及びセライト（６
６０１Ｒ９）を塩化メチレン（１０ｍ）に懸濁した。（
Ａ’−３−（４−メトキシカルボニルブチル）−６−エ
ギソーヒドロキシメチルー７−エンドーテトラヒドロピ
ラニルオキシビシクロ（３，３，０）オクト−２−エン
〕（５０Ｉｎｇ、　０．１４２ｍｍｏりの塩化メチレン
溶液（２８５１Ｒ１）を加え、０℃で３０分間攪拌した
。硫酸水素ナトリウム−水和物１．３２ｇを加え、さら
に０℃で１０分間攪拌した。無水硫酸マグネシウムを濾
過助剤として反応液を濾過し、塩化メチレンで洗浄した
。濾液を合わせ、溶媒を留去し、（３−（４−メトキシ
カルボニルブチル−６−エ午ソーホルミル−７−エンド
ーテトラヒドロビラニルオキシピゾクロ（３，３，０１
オクト−２−エン〕（４８ｙＲｇ。

９６チ）を得た。

一方、水素化ナトリウム（油性６０チ、ｌｌ１１ｇ。

０．２８ｍｍｏ＋）を、アルゴン雰囲気下ペンタンで洗
浄し、３１の態化（ジメトキシエタン）に懸濁した。

ジメチル（２−オキソ−２−オキソ−２−シクロペンチ
ルエテル）ホスホネー）　（６４Ｍ９，０．２９ｍｍｏ
ｌ）の關溶液（３ＲＩりを加え、室温で２５分間攪拌し
た。（３−（４−メトキシカルボニルブチル）−６−ニ
キソーホルミルー７−エンドーテトラヒドロピラニルオ
キシビシクロ（３，３，０）オクト−２−エン）（４８
ダ沖仏侶溶液（３ｄ）を加え、室温で１時間攪拌後、飽
和塩化アンモニウム水溶液を加えた。減圧下、フ化を留
去後、エーテルで抽出し、エーテル層を飽和食塩水で洗
浄した。

無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して得られ
た残留物を、シリカゲルカ２ムクロマトグ２フィー（エ
ーテル：ｎ−ヘキサン＝２：５）によシ精製し、（３−
（４−メトキシカリボニルブチル）−６−ニキソー（３
−オキソ−３−シクロベ／チル−トランス−１−プロペ
ニル）−７−エンドーテトラヒドロビラニルオキゾビシ
クロ〔３゜３．０〕オクト−２−エン〕（３２呼、５２
チ）を得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：２９５０　、２８Ｂ０　、　ｌ　７
４２　、１６９８　。

１６７２．１６２８国　。

Ｍ　Ｊ（Ｃｒ）Ｃ１，） り、８０（ｉｌｌ、ｍ）　、６．２０（［１，ｄｘｄ、
Ｊ＝１５゜４Ｈｚ）　、５．２８（ＩＨ，ｂｓ）、４．
６３．４．５０（各ｂ　ｓ　、　ｔｏｔａＬ　ＩＨ）、
３．８０　（２Ｈ、ｍ）　。

３．６８（３Ｈ，ｓ）　、３．５０（ＩＨ，ｍ）　、３
．０５（２）１．ｍ）。

＋ Ｍａｓｓ　ｍ／ｚ（％）：４１３（１、Ｍ　−３１）　
、３６０（１３。

＋ Ｍ　−８４）、３４２（１７，Ｍ　−１０２）、３１６
＋ （１８，Ｍ　−１２８）、２７３（１７）、９７（２２
）、９１（１７）、８５（１００）、６９（３７）、６
７（２５）、５７（２６）、５５（２６）。

４３（２３）、４１（３５）。

参考例１２ （３−（４−メトキシカルボニルブチル）−６−エΦソ
＝（３−オキソ−３−シクロペンテルー）９ンスー１−
プロペニル）−７−エントーテト２ヒドロピラニルオキ
シビシクロ［３，，３，０］オクト−２−エン）　（３
２ＩＱ、　０．０７２ｍｍｏりをメタノール（５ν）に
溶解した。−２０℃に冷却し、過剰の水素化ホウ素ナト
リウムを加えた。−２０°０で２０分間攪拌後、過剰の
アセトンを加えた。室温にもどした後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液を加え、減圧下、メタノールおよびアセト
ンを留去した。残留水層をエーテルで抽出し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去して、〔，３−（，
４−メトキシカルボニルブチル）−６，−エキソ、−（
３−ヒドロキシ−３−シクロペンテ、ルートランス−１
−プロベニ／Ｉ／）、−７−エンドーテトラヒドロビ２
ニルオキシビシクロ（３，３，０）オクト−２，−エン
〕（３２■、１００チ）を得た。

ＩＲ（ｎｅａｔ）二３４Ｂ０．２９５０，２，８８０，
１７４０ｃ＋ｎ　。

ＮＭＲａ　（ＣＤＣＩ　、） ５．５０（ｍ、２Ｈ）、５．２５（ｄ、Ｊ−ＩＨｚ。

ＩＨ）、４．６０’（ｂｓ、ＩＨ）、３．３０〜４．０
０（ｍ、４Ｈ）、３．６５（ｓ、３Ｈ）、２．９５（ｍ
。

ＩＨ）。

＋ Ｍａｓｓ　ｍ／ｚ（％）：　３４４（ｔｒａｃｅ、Ｍ　
−１０２）　。

＋ ３２６（ｔｒａｃｅ、Ｍ　−１２０）、３００（２゜＋ Ｍ　−１４６）、１６７（３６）、１４９（１００）。

８５（２２）、７１（３１）、７０（２３）、５７（５
１）、５５（２１）、４３（３４）４１（２７）。

参考例１３ Ｈ ＋ （３−（４−メトキシカルボニルブチル）−６−ニキソ
ー（３−ヒドロキシ−３−シクロペンテルートランス−
１−プロペニル）−７−エントーテトラヒドロピラニル
オキシビシクロｒ３．３．０１オクト−２−エン）（３
２ダ、０．０７２ｍｍｏｌ）を酢酸：水：π１Ｆ（０，
５ｉｄ）（３：　１　：　１　、容積比）混合液に溶解
し、４５〜５０℃で５時間攪拌した。エーテルで希釈後
飽和重１水で中和した。エーテル層は飽和食塩水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して
得られた残留□物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（エーテＡ−：　ｎ−へ午サンー５：１〜エーテル：
メタノール恕４０：１）に、１リシ精製し、極性のよル
高いフラクシ盲ンとして（３−（４−メトキシカルポニ
ルプ、チル）−６−ｘキソ−’（３α−ヒドロ午シー３
−シクロペンテルートランス−１−プロベニ′ル）−７
−エンド−ヒドロキシビシクロ（３，３，０）オクト−
２−エン〕（１１４，３９％）及び極性のよシ低いフッ
クシ１ンとして（３−（４−メトキシカルボニルブチル
）−６−ニキソー（３β−ヒドロ午シー３−シクロペン
テルートランス−１−プロペニル）−７−エンドーヒド
ロキシビククロｒ３．３．０）オクト−２−エン）（５
ａｐ’、２０％）を得九。α−エピマーのスペクトルデ
ータを以下に示す。β−エピマーのスペクトルも同様で
ある。

ＩＲ（ｎｅａｔ）：３４００，２９６０．２８８０．１
７４０ｃｍ　。

心組δ（ＣＤＣＩ、）　′ ５．６１（ｍ、２Ｈ）、５．３２（ｂｓ、ＩＨ）。

３．８５（ｍ、２Ｈ）、３．６７（ｓ、３Ｈ）。

３．００（ｍ、ＩＨ）。

Ｍａｓｓ　ｍ／ｚ（％）：３４４（１４、Ｍ　−１８）
　、３２６＋ （２０，Ｍ　−３６）、３００（５６，Ｍ　−６２）。

２７５（２７）、２４３（２４）、２３２（２６）。

２２５（２７）、１？９（５９）、１９３（２３）。

１８３（２４）、１８１（２９）、１８０（３３）。

１７９（４１）、１４１（５２）、１１９（６７）。

１１７（７４）、１０５（７３）、９３（５７）。

９１（１００）、８１（５５）、７９（９５）、６９（
８８）、６７（７４）、５５（５２）、４１（９０）。

実施例 ＨＯ’ａｉ−ｒ ［３−（４−メト中ジカルボニルブチル）−６−ニキソ
ー（３α−ヒドロキシ−３−７クロペンテルートランス
ー１−プロペニル）−７−エンドーヒドロ午シビシクロ
（３，３，０）オクト−２−エン〕（Ｉ　Ｇａｐ、　ｏ
、ｏ　２７ｍｍｏｌ）をメタノール（０，３ｉ１）に溶
解した。０℃で１０％水酸化ナトリウム水溶液（０，２
ｓｄ）を加えた。０℃で甑時間攪拌後、冷却下、１０ｇ
６塩酸水溶液にて中和した。減圧下メタノールを留去後
、ｐＨ３〜４に調整し、酢酸エチルで抽出した。無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去してｊｅ−）−３
−（４−カルボキシブチル）−ｓ（８）　−［３（８）
−ヒドロキシ−３−シクロペンテルー１−）？ンスープ
ロペニル］−７（Ｒ）−ヒドロキシ−（１８，５８）−
７スービシクロｒ３．３．０）オクト−２−エン１（１
０〜、ｘ００％）を無色固体として得た。これを酢酸エ
チル−ｎ−ヘキサンから再結晶すると８■の無色パウダ
ーが得られた。

ＩＲ（ＫＢｒ）：３４３０，２９６０，１７００．１６
５５ｍ　。

＆几δ（ＣＤＣｌ２） ５．６２（２Ｈ，ｍ、側鎖オレフィンプロトン）。

５．３２（ＩＨ，ｂｓＪ内オレオレフインプロトン３．
９０（２Ｈ，ｍ、酸素に隣接する炭素につくプロトン）
、３．００（ＩＨ，ｍ、リング接合部のアリリックプロ
トン）、１．００〜２．７０（２５Ｈ，ｍ）。

＋ Ｍａｓｓ　（ＣＩ、ＮＨ３）　ｍ／ｚ　二３３６（Ｍ　
→−Ｎ）１４）。

融点：１１５〜１１６℃ （α）　Ｄ　７＋　２９　（ｃ−０，３７、Ａｃ０Ｂｔ
　）　−同様に、１５β−エピマ一体も加水分解し、カ
ルバサイクリン類縁体の１５β−エピマ一体を得た。ス
ペクトル・データ（■几、ＮＭＲ，Ｍａｓｓ　）は１ｓ
ｄ体と一致した。

試験例 以上の方法で合成された化合物、すなわちい→−３−（
４−カルボキシブチル）　−６（８）−Ｃ３（８）−ヒ
ドロキシ−３７シクロペンチルーｌ−トランス−プロペ
ニル）−７（Ｂ）−ヒドロキシ−（ＩＳ。

５８）−シス−ビシクロ（３，３，０）オクト−２−エ
ン１Ｌ１以下に記す生物活性をｉする。ウサギの胃（ｒ
ａｂｂｉｔ　ｓｔｏｍａｃｈ　ｅｐｉｔｈｅｌｉａｌ　
ｃｅＩｌｓ）を用いて富田らの方法［Ｋ、ＭａＬｓｕｏ
ｋａ’、Ｙ　、Ｍｉｔｓｕｉ　、ａｎｄ８　、Ｍｕｒｏ
ｔａ　、Ｊ　、ＰｈａＹ２ｍ、４．．５．９１１（１９
８２）　］４ に従りた実験を行うと、０．５ＸｌＯＭという低績度で
顕著な抗潰瘍作用を示した。これは抗潰瘍作用を有する
代表的ブロスタグ２ンジン・ＰＧＥ２よ〕優るとも劣ら
ない活性強度である。ＰＧＥ２が激しい下剤を誘発する
のに比して、上記カルバサイクリン類縁体は下痢誘発作
用をも九カい。以上の事を考慮すると、本カルバサイク
リン類縁体は新しいタイプの抗潰瘍薬として使用できう
ると考える。

特許出願人 手　続　補　正　書（自発） 昭１ａ５９年４月２１日 特許庁長官　若杉和夫殿 １、事件の表示 昭和５８住特許願第２４４６９６号 ２、発明の名称 カルバサイタリン類縁体及びその製造方法３゜補正をす
る者 事ｆ１との関係　特許出願人 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ５、補正の内容 （１）　本願明細書第７頁１行の「接合部」を「接合部
」に訂正する。

２０ 」 」 （３）同第１９頁４行の「（■）」を「（Ｖ罎）」に、
訂正する。

（４）　同第２９頁４行のｊ　Ｍｌ（ＣＤＣ１６）　、
１を「階徂、ｔ　（ＣＤＣＩ、）Ｊに訂正する。

（５）　同Ｍ３２頁６行、３３頁５行の「２−α」を「
２α」に訂正する〇 （６）　同第３５頁５行のｊ’２０．ＯＪをｆ２１．６
Ｊ化訂正する。

（７）Ｉ’ｔｌ第３６頁８行の「−ヒドロピラニル・・
・」の「−」を削除し４１０行の「ハイドロキシ」を「
ヒドロキシ」に訂正する・ （８）同第３９頁１０行のｊ　（３，３，０）−オクト
」の「−」を削除する。

（９）同第４４頁４行の「エキシ」を「エキソ」に訂正
する。

（ｌの同第４７頁ｌＯ行の「２−オキソ−」を削除する
。

（１１）同第４８頁５行の「カリボニル」を「カルボニ
ル」に訂正する。

（１２）同第５２頁１〜３行の ハυ　υＨ 」 （１３）同第５５頁２〜３行の ＨＯＯＨを する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）構造式 で表わされるカルバサイクリ／類縁体 で表わされる（３−オキソ−１−アルケニル）−シスー
   ビシクロｒ３．３．０〕オクテン誘導体を還元し、水酸
   基の脱保護反応、次いで加水分解することからなる、構
   造式 で表わされるカルバサイクリ／類縁体の製造方法（式中
   　Ｂ２は水酸基の保護基であり、Ｗはアルキル基である
   。）。 （３）一般式 で表わされるアルケニルビシクロ〔３，３，０）オクテ
   ン誘導体を接触還元し、一般式 Ｒリ テ表ワされるビシクロ（３，３，０）オクテン誘導体を
   得、−級水酸基の脱保護によシ、一般式で表わされるヒ
   ドロキシメチルビシクロ〔３゜３．０〕オクテン誘導体
   とし、該誘導体を酸化し、又は一般式 で表わされる化合物を反応させ、一般式で表ワされる（
   ３−オキソ−１−アルケニル）−シスービシクロｒ３．
   ３．ｏ］オクテン誘導体へ導きさらＫこれを還元し、水
   酸基の脱保護反応、次いで加水分解することからなる、
   構造式で表わされるカルバサイクリン類縁体の製造方法
   （式中、Ｗ及びＷは水酸基の保護基　ＲＭはアルキル基
   であ’ｐ、’はアルキル基又はフェニル基である。）。 −−べて−