JPS6060937A - 石英系光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
石英系光フアイバ母材の製造方法Info
- Publication number
- JPS6060937A JPS6060937A JP16735283A JP16735283A JPS6060937A JP S6060937 A JPS6060937 A JP S6060937A JP 16735283 A JP16735283 A JP 16735283A JP 16735283 A JP16735283 A JP 16735283A JP S6060937 A JPS6060937 A JP S6060937A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorine
- porous
- glass layer
- porous glass
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
- C03B2203/26—Parabolic or graded index [GRIN] core profile
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光通信用、ライトガイド用、イメジガイド用な
どの光ファイバを得べき石英系光ファイバ母相の製造方
法に関する。
どの光ファイバを得べき石英系光ファイバ母相の製造方
法に関する。
石英系光ファイバにおいて、そのクラッドにのみ弗素を
含有するものは紋多く知られており、これの具体的なも
のとして、通信に有用なデプレストクラツド・シングモ
ード光ファイバとが、純石英コア・弗素ドープト石英ク
ラッドからなる耐放射線光ファイバなどがあげられる。
含有するものは紋多く知られており、これの具体的なも
のとして、通信に有用なデプレストクラツド・シングモ
ード光ファイバとが、純石英コア・弗素ドープト石英ク
ラッドからなる耐放射線光ファイバなどがあげられる。
最近、クラッドだけでなく、コアにも弗素を含有させる
と、光ファイバの低損失化に効果的であることが判明し
た。
と、光ファイバの低損失化に効果的であることが判明し
た。
コア、クラッドの両方に弗素を含有させる方法はＰＣＶ
Ｄ法において公知であるが、多孔質ガラス体（多孔質母
材）をつくり、これを透明ガラス化する方法、すなわち
ＶＡＤ法や外付けＣＶＤ法等ではコア、クラッドの両方
に弗素をドープすることが技術的に明らかにされておら
ず、クラッドにのみ弗素をドープすることが知での報告
では、第１図のＶＡＤ法において、５ｉＣ１＋がガラス
原料として供給される多重管構造のトーチ１と、Ｓ Ｉ
Ｃ４４％ Ｓ Ｆ＠がガラス原料とじて供給される多
重管構造のトーチ２とによりコア用多孔質ガラス層３と
クラッド用多孔質ガラス層４とを堆積形成し、これによ
り得られた多孔質母材５を透明ガラス化して光フアイバ
母材とした後、該光フアイバ母材を既知の手段で紡糸す
ることにより、第２図の屈折率分布をもつ光ファイバを
製造している。
Ｄ法において公知であるが、多孔質ガラス体（多孔質母
材）をつくり、これを透明ガラス化する方法、すなわち
ＶＡＤ法や外付けＣＶＤ法等ではコア、クラッドの両方
に弗素をドープすることが技術的に明らかにされておら
ず、クラッドにのみ弗素をドープすることが知での報告
では、第１図のＶＡＤ法において、５ｉＣ１＋がガラス
原料として供給される多重管構造のトーチ１と、Ｓ Ｉ
Ｃ４４％ Ｓ Ｆ＠がガラス原料とじて供給される多
重管構造のトーチ２とによりコア用多孔質ガラス層３と
クラッド用多孔質ガラス層４とを堆積形成し、これによ
り得られた多孔質母材５を透明ガラス化して光フアイバ
母材とした後、該光フアイバ母材を既知の手段で紡糸す
ることにより、第２図の屈折率分布をもつ光ファイバを
製造している。
上記の報告をもとにした場合、コア用のトーチ２にも弗
素原料を供給することにより、コア用およびクラッド用
の肉条孔質ガラス層３．４に弗素を含有させることがで
きると考えられるが、このような方法では大量の弗素が
消費されてしまい、好ましくない。
素原料を供給することにより、コア用およびクラッド用
の肉条孔質ガラス層３．４に弗素を含有させることがで
きると考えられるが、このような方法では大量の弗素が
消費されてしまい、好ましくない。
本発明は上記のごとき事情に鑑みなされたものであり、
その目的とするところは、コアおよびクラッドが共に弗
素を含有している低損失な石英系光ファイバの提供を前
提とし、弗素消費量を少なくして効率よく弗素ドープが
行なえる石英系光フアイバ母材の製造方法を実現するこ
とにある。
その目的とするところは、コアおよびクラッドが共に弗
素を含有している低損失な石英系光ファイバの提供を前
提とし、弗素消費量を少なくして効率よく弗素ドープが
行なえる石英系光フアイバ母材の製造方法を実現するこ
とにある。
本発明では上記の目的を達成する過程においてつぎのよ
うな事項の解明を行なった。
うな事項の解明を行なった。
つまり石英系ガラスに関する文献、報告例等では、弗素
は熱処理により移動しないといわれていたが、石英系ガ
ラスへの弗素の添加機構につき、本発明者らが詳細に検
討し、この際の仮説に基づいて実験したところ、石英系
多孔質ガラス体に弗素が存在しているとき、その多孔質
ガラス体を加熱することにより、弗素が多孔質ガラス体
全域に容易に拡散することが判明し、さらにこうしたメ
カニズムにより、石英系ガラス全体に弗素のドープでき
ることを見い出した。
は熱処理により移動しないといわれていたが、石英系ガ
ラスへの弗素の添加機構につき、本発明者らが詳細に検
討し、この際の仮説に基づいて実験したところ、石英系
多孔質ガラス体に弗素が存在しているとき、その多孔質
ガラス体を加熱することにより、弗素が多孔質ガラス体
全域に容易に拡散することが判明し、さらにこうしたメ
カニズムにより、石英系ガラス全体に弗素のドープでき
ることを見い出した。
本発明は上記の事項に基づいてなされている。
本発明が特徴とするところは、コア用多孔質ガラス層と
による多孔質母料をつくるとき、肉条孔質ガラス層の少
なくとも一方には屈折率分布形成用の酸化物ドーパント
を含有させ、さらに肉条孔質ガラス層のいずれか一方に
は弗素をドーパントとして含有させ、これら肉条孔質ガ
ラス層からなる多孔質母料を熱処理することにより、一
方の多孔質ガラス層に含有されている弗素を他方の多孔
質ガラス層へ拡散させることにある。
による多孔質母料をつくるとき、肉条孔質ガラス層の少
なくとも一方には屈折率分布形成用の酸化物ドーパント
を含有させ、さらに肉条孔質ガラス層のいずれか一方に
は弗素をドーパントとして含有させ、これら肉条孔質ガ
ラス層からなる多孔質母料を熱処理することにより、一
方の多孔質ガラス層に含有されている弗素を他方の多孔
質ガラス層へ拡散させることにある。
本発明方法において多孔質母材をつくるには、酸化反応
、火炎加水分解反応などによす原料を化学反応させ、こ
れにより生成されたガラス微粒子を所定の形状に堆積さ
せればよく、この際、コア用多孔質ガラス層、クラッド
用多孔質ガラス層は同時に形成しても別々に形成しても
よい。
、火炎加水分解反応などによす原料を化学反応させ、こ
れにより生成されたガラス微粒子を所定の形状に堆積さ
せればよく、この際、コア用多孔質ガラス層、クラッド
用多孔質ガラス層は同時に形成しても別々に形成しても
よい。
多孔質母材をつくる具体的な手段としてはＶＡＤ法や外
付けＣＶＤ法が採用される。
付けＣＶＤ法が採用される。
周知の通り、光ファイバはコア（導光部）とクラッド（
被覆部）との相対関係においてコアが高屈折率、クラッ
ドが低屈折率となっており、こうした屈折率は多孔質母
材をつくるときのドーパントにより設定されるのが一般
であり、具体的には５ｉ０２を主成分とするコア用多孔
質ガラス層、クラッド用多孔質ガラス層の両方にドーパ
ントを含有させる、コア用多孔質ガラス層に屈折率高上
用のドーパントを含有させるがクランド用多孔質ガラス
層にはドーパントを含有させない、コア用多孔質ガラス
層にはドーパントを含有させずにクラッド用多孔質ガラ
ス層に屈折率低下用のドーパントを含有させる、などの
手段が採用される。
被覆部）との相対関係においてコアが高屈折率、クラッ
ドが低屈折率となっており、こうした屈折率は多孔質母
材をつくるときのドーパントにより設定されるのが一般
であり、具体的には５ｉ０２を主成分とするコア用多孔
質ガラス層、クラッド用多孔質ガラス層の両方にドーパ
ントを含有させる、コア用多孔質ガラス層に屈折率高上
用のドーパントを含有させるがクランド用多孔質ガラス
層にはドーパントを含有させない、コア用多孔質ガラス
層にはドーパントを含有させずにクラッド用多孔質ガラ
ス層に屈折率低下用のドーパントを含有させる、などの
手段が採用される。
本発明では上述した適宜の手段により、コア用多孔質ガ
ラス層、クラッド用多孔質ガラス層のいずれか一方また
は両方に酸化物ドーパントを含有させる。
ラス層、クラッド用多孔質ガラス層のいずれか一方また
は両方に酸化物ドーパントを含有させる。
ここで酸化物ドーパントを含有させる理由は、前述した
ように一方の多孔質ガラス層から他方の多孔質ガラス層
へ弗素を拡散させたとき、これら両層相互の弗素含有量
が一様となることにより、所定の屈差率差が得られなく
なるのを解消するためである。
ように一方の多孔質ガラス層から他方の多孔質ガラス層
へ弗素を拡散させたとき、これら両層相互の弗素含有量
が一様となることにより、所定の屈差率差が得られなく
なるのを解消するためである。
酸化物ドーパントのうち、屈折率向上用としてはＧ ｅ
（ｈ、Ｐ２Ｏ５、ＡＬｘＯｓｓ ”ｌ’ ｉ （ｈ、
Ｔ ａ２０ｓ、５ｎＯｔ、Ｚ ｒ Ｏｓ％Ｙ ｂｚｏｓ
ｓ Ｌ ａ２０２、Ｇ ａ２０ａ、Ｚｎ０ｔ、Ａｓ２ｅ
ｓなどがあり、屈折率低下用にはＢ！０３があり、これ
らが単独で、または複数の組み合わせで用いられる。
（ｈ、Ｐ２Ｏ５、ＡＬｘＯｓｓ ”ｌ’ ｉ （ｈ、
Ｔ ａ２０ｓ、５ｎＯｔ、Ｚ ｒ Ｏｓ％Ｙ ｂｚｏｓ
ｓ Ｌ ａ２０２、Ｇ ａ２０ａ、Ｚｎ０ｔ、Ａｓ２ｅ
ｓなどがあり、屈折率低下用にはＢ！０３があり、これ
らが単独で、または複数の組み合わせで用いられる。
コア用多孔質ガラス層、クラッド用多孔質ガラス層のい
ずれか一方に弗素をドープするのも、酸化物ドーパント
の場合と同様に行なえる。
ずれか一方に弗素をドープするのも、酸化物ドーパント
の場合と同様に行なえる。
弗素をドープする多孔質ガラス層としてはコア用、クラ
ッド用のいずれでもよいが、クラッド用の方が弗素をよ
くドープできるので好ましい。
ッド用のいずれでもよいが、クラッド用の方が弗素をよ
くドープできるので好ましい。
弗素ドーパントとしての弗素の原料ガスには、ＳＦ６、
ＣＦ、、ＣＣｔｘ Ｆ２、ｃ２Ｆ６、Ｃ２Ｃｔ３Ｆ！、
Ｃ５Ｆｓ、Ｎ Ｆ ３などがあり、これらが有効である
。
ＣＦ、、ＣＣｔｘ Ｆ２、ｃ２Ｆ６、Ｃ２Ｃｔ３Ｆ！、
Ｃ５Ｆｓ、Ｎ Ｆ ３などがあり、これらが有効である
。
弗素ドープ用の原料′ガスに関して、その供給量はＳｉ
原料１原子に対し、Ｆ原料のＦ原子１０までがよく、こ
れ以上になると、多孔質ガラスが堆瑣しなくなる。
原料１原子に対し、Ｆ原料のＦ原子１０までがよく、こ
れ以上になると、多孔質ガラスが堆瑣しなくなる。
なお、シリカ原料としてはＳ ｉ ＣＬ４．５ｉＢｒ＋
、Ｓ ｉ （ＯＣ２Ｈ３）４、Ｓ ｉ （ＯＣＨｆ ）
４などが使用でき、酸化物ドーパントの原料としては前
述した以外のハμゲン化物、有機金属化合物なども用い
られる。
、Ｓ ｉ （ＯＣ２Ｈ３）４、Ｓ ｉ （ＯＣＨｆ ）
４などが使用でき、酸化物ドーパントの原料としては前
述した以外のハμゲン化物、有機金属化合物なども用い
られる。
本発明における多孔質母材の熱処理温度は７００℃以上
、好ましくは１４００℃以上であり、これらの温度域に
おいて高濃度の弗素ドープが行なえる。
、好ましくは１４００℃以上であり、これらの温度域に
おいて高濃度の弗素ドープが行なえる。
熱処理時の雰囲気はＨｅにて形成するのがよ（、さらに
Ａｒ１Ｎ！もよく、酸素、塩素、あるいはこれらの化合
物等を上記雰囲気中に共存させてもよいが、水素とその
化合物は存在してはならない。
Ａｒ１Ｎ！もよく、酸素、塩素、あるいはこれらの化合
物等を上記雰囲気中に共存させてもよいが、水素とその
化合物は存在してはならない。
弗素の拡散と固定とは、こうした熱処理により大部分起
こると肴えられるが、多孔質母料の形成時にもこれの起
こる可能性がある。
こると肴えられるが、多孔質母料の形成時にもこれの起
こる可能性がある。
それは弗素化合物がガス状で大量に多孔質母材形成時の
雰囲気中にあり、その弗素化合物が多孔質母材の各部に
内在することによるといえる。
雰囲気中にあり、その弗素化合物が多孔質母材の各部に
内在することによるといえる。
つぎに本発明の具体的な実施例について説明する０
実施例１
第３図に示すＶＡＤ法において、二本の多血管構造から
なるバーナ１０，２０を用い、コア用のバーナ１０には
５ｉＣＡ４（４０℃） ５０ ｃｃ／”、Ｇ ｅ Ｃ４
（１６℃）４０ｃｃ／ｓ＋ｍ、Ｈｓ １．７１／１ｍ＋
、Ｃｈ ３．０１／ｍ’Ｒを供給して所定の反応、堆積
によりコア用多孔質ガラス層３０を形成するとともにク
ラッド用のバーナ２０にはＳ ＩＣｔ４（４５℃） ５
００ ｃｃ／ｍｉｎ ｓＳＦｇ２００ｃｃ／ｍ、Ｈ２１
０ｔ／ｍｉｘ、０２１０ｔ／配を供給して所定の反応、
堆積によりクラッド用多孔質ガラス層４０を形成した。
なるバーナ１０，２０を用い、コア用のバーナ１０には
５ｉＣＡ４（４０℃） ５０ ｃｃ／”、Ｇ ｅ Ｃ４
（１６℃）４０ｃｃ／ｓ＋ｍ、Ｈｓ １．７１／１ｍ＋
、Ｃｈ ３．０１／ｍ’Ｒを供給して所定の反応、堆積
によりコア用多孔質ガラス層３０を形成するとともにク
ラッド用のバーナ２０にはＳ ＩＣｔ４（４５℃） ５
００ ｃｃ／ｍｉｎ ｓＳＦｇ２００ｃｃ／ｍ、Ｈ２１
０ｔ／ｍｉｘ、０２１０ｔ／配を供給して所定の反応、
堆積によりクラッド用多孔質ガラス層４０を形成した。
こうして得られた多孔質母材５０はコア用多孔質ガラス
層３０の直径が１５ｍφ、クラッド用多孔質ガラス層４
ｏの直径が５５＋ｎｍφであった。
層３０の直径が１５ｍφ、クラッド用多孔質ガラス層４
ｏの直径が５５＋ｎｍφであった。
上記多孔質母材５０を、１６００℃の雰囲気温度、Ｈｅ
１５７／＝＋、Ｓ ＯＣｔ２１０２１ ｔ／ｍｉｎに
よる雰囲気とした眠気炉内に、下降速度１８０ ＋ｎｎ
＋／ｈｒにて挿入し、透明ガラス化した。
１５７／＝＋、Ｓ ＯＣｔ２１０２１ ｔ／ｍｉｎに
よる雰囲気とした眠気炉内に、下降速度１８０ ＋ｎｎ
＋／ｈｒにて挿入し、透明ガラス化した。
こうして得られた石英系光フアイバ母材の元素分布をＥ
ＰＭＡにて測定し、その結果を第４図イに示した。
ＰＭＡにて測定し、その結果を第４図イに示した。
第４図イではＧｅとＦとの分布状況を示しているが、同
図で明らかなようにＳＦａを供与していないコア用ガラ
ス層にまでＦが分布しているのがわかる。
図で明らかなようにＳＦａを供与していないコア用ガラ
ス層にまでＦが分布しているのがわかる。
このＦの含有率は比屈折率差で０．１５−０．２５％に
もなり、かなり大きい値である。
もなり、かなり大きい値である。
実施例２
実施例１と同じ条件で多孔質母材６ｏをつくり、これを
電気炉による１ ０００℃、Ｈｅ １５ ｔＡＲｒｎの
雰囲気中で熱処理した後、該電気炉を１６００℃に昇温
し、Ｈｅ １５１／１ｍ、Ｓ ＯＣＡ２／ ０２１ Ｌ
／ｍｒｎ’ｆ）雰囲気として上記多孔質母材５ｏを透明
ガラス化した。
電気炉による１ ０００℃、Ｈｅ １５ ｔＡＲｒｎの
雰囲気中で熱処理した後、該電気炉を１６００℃に昇温
し、Ｈｅ １５１／１ｍ、Ｓ ＯＣＡ２／ ０２１ Ｌ
／ｍｒｎ’ｆ）雰囲気として上記多孔質母材５ｏを透明
ガラス化した。
このときの母材下降速度は１８ ’０ ＋ｎｍ／ｈｒで
ある。
ある。
これにより得られた石英系光ファイバ母相の径方向の元
素分布は前記第４図イに示したと同じであり、Ｆがコア
用ガラス層にまで均一に分布していた。
素分布は前記第４図イに示したと同じであり、Ｆがコア
用ガラス層にまで均一に分布していた。
Ｆの含有率は実施例１の約３１５であった。
実施例３
前記ＶＡＤ法において、コア用のバーナ１０には５ｔＣ
ｔ２（４０℃） ５０ ｃｃ／ｌ１ｎｓ ＧｅＣ１４Ｃ
１６℃）４０ ＣＣ／”ＩＩ、 Ｓ Ｆｅ １５０ Ｃ
Ｃ７１Ｍ”、Ｈ２１，７ｔ／ｓｉｎ、（ｈ ３．０な−
を供給して所定の反応、堆積によりコア用多孔質ガラス
層３０を形成するとともにクラ゛ツド用のバーナ２０に
はＳ ｉ Ｃｔ４（４５℃） ５００ ｃｑ−１Ｈ２１
０々” 、０２１０ ｔ／ｖａｎを供給して所定の反応
、堆積によりクラッド用多孔質ガラス層４０を形成した
。
ｔ２（４０℃） ５０ ｃｃ／ｌ１ｎｓ ＧｅＣ１４Ｃ
１６℃）４０ ＣＣ／”ＩＩ、 Ｓ Ｆｅ １５０ Ｃ
Ｃ７１Ｍ”、Ｈ２１，７ｔ／ｓｉｎ、（ｈ ３．０な−
を供給して所定の反応、堆積によりコア用多孔質ガラス
層３０を形成するとともにクラ゛ツド用のバーナ２０に
はＳ ｉ Ｃｔ４（４５℃） ５００ ｃｑ−１Ｈ２１
０々” 、０２１０ ｔ／ｖａｎを供給して所定の反応
、堆積によりクラッド用多孔質ガラス層４０を形成した
。
こうして得られた多孔質母材６０はコア用多孔質ガラス
層３０の直径が１３（転）ψ、クラット用多孔質ガラス
層４０の直径が６０闘φであった。
層３０の直径が１３（転）ψ、クラット用多孔質ガラス
層４０の直径が６０闘φであった。
上記多孔質母材６Ｑを実施例１と同じ熱処理条件にて透
明ガラス化し、これにより得られた石英系光フアイバ母
材の元素分布ＥＰＭＡにより測定してその結果を第４図
口に示した。
明ガラス化し、これにより得られた石英系光フアイバ母
材の元素分布ＥＰＭＡにより測定してその結果を第４図
口に示した。
第・１図μで明らかなように、コア用多孔質ガラス層３
０にＦを含有させた場合でも、コア用ガラス層とほぼ同
量のＦがクラッド用ガラス層に分布している。
０にＦを含有させた場合でも、コア用ガラス層とほぼ同
量のＦがクラッド用ガラス層に分布している。
このＦの含有率は比屈折率差で０．１８〜０．２５％に
もなる。
もなる。
実施例４
実施例３と同じ条件で多孔質母１’ ５０をつくり、こ
れを電気炉による１０００℃、Ｈｅ１５々偏、Ｏｓ ｉ
ｔ／＝の雰囲気中で熱処理した後、該電気炉を１６０
０℃に昇温し、Ｈｅ １５ ｔ／ａＲ，Ｓ ＯＣＡ２１
０ｘ１１７ｍの雰囲気として上記多孔質母材６ｏを透明
ガラス化した。
れを電気炉による１０００℃、Ｈｅ１５々偏、Ｏｓ ｉ
ｔ／＝の雰囲気中で熱処理した後、該電気炉を１６０
０℃に昇温し、Ｈｅ １５ ｔ／ａＲ，Ｓ ＯＣＡ２１
０ｘ１１７ｍの雰囲気として上記多孔質母材６ｏを透明
ガラス化した。
このときの母材降下速度は１８０ ｍ＄ｈｒである。
これにより得られた石英系光フアイバ母材の径方向の元
素分布は、前記第４図口に示したと同じであり、Ｆがク
ラッド用ガラス層にまで均一に分布していた。
素分布は、前記第４図口に示したと同じであり、Ｆがク
ラッド用ガラス層にまで均一に分布していた。
Ｆの含有率は実施例１の約１／３であった。
なお、各実施例により得られた光フアイバ母材を紡糸し
、光ファイバを製造したところ、コアおよびクラッドと
も、弗素の含有されており、伝送特性が良好であった。
、光ファイバを製造したところ、コアおよびクラッドと
も、弗素の含有されており、伝送特性が良好であった。
以上説明した通り、本発明方法によるときは、コア用あ
るいはクラッド用、いずれか一方の多孔質ガラス層に弗
素を添加しておくだけでよいから、弗素の消費量が少な
くて足り、もちろんコア用、クラッド用の両ガラス層に
充分弗素をドープさせることができ、これにより伝送特
性のよい光ファイバが提供できるとともに１つの層への
弗素添加ですむので製造易度が増し、段端での経済性も
はかれる。
るいはクラッド用、いずれか一方の多孔質ガラス層に弗
素を添加しておくだけでよいから、弗素の消費量が少な
くて足り、もちろんコア用、クラッド用の両ガラス層に
充分弗素をドープさせることができ、これにより伝送特
性のよい光ファイバが提供できるとともに１つの層への
弗素添加ですむので製造易度が増し、段端での経済性も
はかれる。
第１図は従来例のＶＡＤ法を暗示した説ψＪ図、第２図
はクラッドにのみ弗素を含有する従来の光ファイバの屈
折率分布図、第３区は本発明方法におけるＶＡＤ法の暗
示説明図、第４図イ、口は本発明方法により製造された
石英系光フアイバ母材の元素分布説明図である。 ３０・・・・・コア用多孔質ガラス層 ４０・０・・クラット用多孔質ガラス層５ｏ・・・・・
多孔質母材 〔４面のｉ？３（内を午に変更なし） 第１【４ 第２図 第 ３ 図 ＳＦ６凛ｌ〜ｏｉ０１．＞ 第 ４ 図 （イ） （ロ） 手続補正書（方幻 昭和５９年２り／夕日 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 古河電気工業株式会社 ４、復式 理 人 〒１００ ６、補正の対象 明細書全文および図面、委任状 ７、補正の内容
はクラッドにのみ弗素を含有する従来の光ファイバの屈
折率分布図、第３区は本発明方法におけるＶＡＤ法の暗
示説明図、第４図イ、口は本発明方法により製造された
石英系光フアイバ母材の元素分布説明図である。 ３０・・・・・コア用多孔質ガラス層 ４０・０・・クラット用多孔質ガラス層５ｏ・・・・・
多孔質母材 〔４面のｉ？３（内を午に変更なし） 第１【４ 第２図 第 ３ 図 ＳＦ６凛ｌ〜ｏｉ０１．＞ 第 ４ 図 （イ） （ロ） 手続補正書（方幻 昭和５９年２り／夕日 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 古河電気工業株式会社 ４、復式 理 人 〒１００ ６、補正の対象 明細書全文および図面、委任状 ７、補正の内容
Claims (1)
- コア用多孔質ガラス層とクラッド用多孔質ガラス層とに
よる多孔質母材をつくるとき、両多孔質ガラス層の少な
くとも一方には屈折率分布形成用の酸化物ドーパントを
含有させ、さらに両多孔質ガラス層のいずれか一方には
弗素をドーパントとして含有させ、これら両多孔質ガラ
ス層からなる多孔質母材を熱処理することにより、一方
の多孔質ガラス層に含有されている弗素を他方の多孔質
ガラス層へ拡散させる石英系光フアイバ母材の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16735283A JPS6060937A (ja) | 1983-09-10 | 1983-09-10 | 石英系光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16735283A JPS6060937A (ja) | 1983-09-10 | 1983-09-10 | 石英系光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6060937A true JPS6060937A (ja) | 1985-04-08 |
| JPH0524093B2 JPH0524093B2 (ja) | 1993-04-06 |
Family
ID=15848131
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16735283A Granted JPS6060937A (ja) | 1983-09-10 | 1983-09-10 | 石英系光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6060937A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6148437A (ja) * | 1984-08-17 | 1986-03-10 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ＧｅＯ↓２−ＳｉＯ↓２系ガラス母材の製造方法 |
| US6230355B1 (en) | 1999-01-04 | 2001-05-15 | Stephen D. Harada | Lingual toothbrush |
| EP1120382A2 (en) * | 2000-01-28 | 2001-08-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Glass preform and optical fibre and method of manufacturing the preform |
| US6438786B2 (en) | 1999-01-04 | 2002-08-27 | Stephen D. Harada | Toothbrush with longitudinal bristle reinforcement |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5767037A (en) * | 1980-10-06 | 1982-04-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Manufacture of base material for single-mode optical fiber |
-
1983
- 1983-09-10 JP JP16735283A patent/JPS6060937A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5767037A (en) * | 1980-10-06 | 1982-04-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Manufacture of base material for single-mode optical fiber |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6148437A (ja) * | 1984-08-17 | 1986-03-10 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ＧｅＯ↓２−ＳｉＯ↓２系ガラス母材の製造方法 |
| JPH0225847B2 (ja) * | 1984-08-17 | 1990-06-06 | Sumitomo Electric Industries | |
| US6230355B1 (en) | 1999-01-04 | 2001-05-15 | Stephen D. Harada | Lingual toothbrush |
| US6438786B2 (en) | 1999-01-04 | 2002-08-27 | Stephen D. Harada | Toothbrush with longitudinal bristle reinforcement |
| EP1120382A2 (en) * | 2000-01-28 | 2001-08-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Glass preform and optical fibre and method of manufacturing the preform |
| EP1120382A3 (en) * | 2000-01-28 | 2002-07-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Glass preform and optical fibre and method of manufacturing the preform |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0524093B2 (ja) | 1993-04-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| GB1558550A (en) | Glass fibre light conductors | |
| JPS6060937A (ja) | 石英系光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPH0526731B2 (ja) | ||
| JPS60260430A (ja) | フツ素をクラツド部に含有する光フアイバ用母材の製造方法 | |
| JPS61191544A (ja) | 石英系光フアイバ | |
| JPS6131324A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPS60264338A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPH0559052B2 (ja) | ||
| JPS6140843A (ja) | 光フアイバ | |
| JPS5838368B2 (ja) | 光フアイバの製造方法 | |
| JPS60263103A (ja) | 光フアイバ用母材およびその製造方法 | |
| JPS6036343A (ja) | 光伝送用ガラス素材の製法 | |
| JPS6131328A (ja) | 光フアイバ | |
| JP2898705B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JPS6051635A (ja) | 石英系光フアイバ | |
| JP2831842B2 (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPS5946898B2 (ja) | 光フアイバ−の製造方法 | |
| JPS60231434A (ja) | 石英系多孔質ガラス母材の熱処理方法 | |
| JPS60239336A (ja) | 石英系多孔質ガラス母材の熱処理方法 | |
| JPS6060938A (ja) | 石英系光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPH0733460A (ja) | 光ファイバプリフォームおよびその製造方法 | |
| JPS62283838A (ja) | 光フアイバの製造方法 | |
| JPS63285137A (ja) | 光通信用石英系ファイバ及びその製造方法 | |
| JPS59137333A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPS63201030A (ja) | フツ素添加光フアイバの製造方法 |