JPS6131324A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
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- JPS6131324A JPS6131324A JP15262284A JP15262284A JPS6131324A JP S6131324 A JPS6131324 A JP S6131324A JP 15262284 A JP15262284 A JP 15262284A JP 15262284 A JP15262284 A JP 15262284A JP S6131324 A JPS6131324 A JP S6131324A
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- JP
- Japan
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- porous glass
- glass layer
- cladding
- core
- optical fiber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は各種の通信分野に用いられる光ファイバの母材
を製造する方法に関する。
を製造する方法に関する。
（従来の技術）
シングルモード型の光ファイバは低ロスかつ広帯域であ
り、海底ケーブルなど、長距離通信への実用化が進めら
れている。
り、海底ケーブルなど、長距離通信への実用化が進めら
れている。
シングルモード光ファイバには、ゲルマニウムドープト
石英からなるコアと、高純度石英からなるクラッドとを
有するマツチドクラッドシングルモード光ファイバ（以
下ＭＣＳＭＦと略称）、およびゲルマニウムドープト石
英または高純度石英からなるコアと、フッ素ドープト石
英からなるクラットとを有するディプレストクラッドシ
ングルモード光ファイバ（以下ＤＯ８ＭＦと略称）があ
る。
石英からなるコアと、高純度石英からなるクラッドとを
有するマツチドクラッドシングルモード光ファイバ（以
下ＭＣＳＭＦと略称）、およびゲルマニウムドープト石
英または高純度石英からなるコアと、フッ素ドープト石
英からなるクラットとを有するディプレストクラッドシ
ングルモード光ファイバ（以下ＤＯ８ＭＦと略称）があ
る。
上記二種のうち、低ロス化、マイクロベンドロス増が小
さい、ゼロ分散波長が１．５５ｇ＋ｓへ移動できる、長
波長ロス増が小さい、などの観点から最近ではＤＯ３Ｍ
Ｆが注目されている。
さい、ゼロ分散波長が１．５５ｇ＋ｓへ移動できる、長
波長ロス増が小さい、などの観点から最近ではＤＯ３Ｍ
Ｆが注目されている。
既知のＷＡＤ法によりＤＣ９ＭＦ用の多孔質ガラス母材
をつくるとき、つざのような方法が採られている。
をつくるとき、つざのような方法が採られている。
その１つは多孔質ガラス母材作製時、クラッドとなる層
にフッ素をドープする方法であり、他の１つは多孔質ガ
ラス母材の透明ガラス化時においてクラッドとなる層に
フッ素をドープする方法である。
にフッ素をドープする方法であり、他の１つは多孔質ガ
ラス母材の透明ガラス化時においてクラッドとなる層に
フッ素をドープする方法である。
しかしこれら各法ともコアとなる層、クラッドとなる層
の両方にフッ素が均一ドープされてしまい、クラッドと
なる暦にのみフッ素がドープされた真正なりＯ９ＭＦが
得られていない。
の両方にフッ素が均一ドープされてしまい、クラッドと
なる暦にのみフッ素がドープされた真正なりＯ９ＭＦが
得られていない。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は上記の問題点に鑑み、クラッドとなる層にのみ
フッ素がドープされた光ファイバ母材が得られる方法を
提供しようとするものである。
フッ素がドープされた光ファイバ母材が得られる方法を
提供しようとするものである。
（問題を解決するための手段）
本発明は光が通るコア用の多孔質ガラス層と、光が反射
するクラッド用の多孔質ガラス層とを有する多孔質ガラ
ス母材をつくり、当該母材を透明ガラス化する光ファイ
バ母材の製造方法において、コア用多孔質ガラス層の最
低合体温度がクラッド用多孔質ガラス層のそれよりも低
くなるよう、これら多孔質ガラス層をつくり、コア用多
孔質ガラス層をクラッド用多孔質ガラス層の最低合体温
度以下により透明ガラス化し、その後、クラッド用多孔
質ガラス層を透明ガラス化するとともにクラッド用の該
ガラス層にフッ素をドープすることを特徴としている。
するクラッド用の多孔質ガラス層とを有する多孔質ガラ
ス母材をつくり、当該母材を透明ガラス化する光ファイ
バ母材の製造方法において、コア用多孔質ガラス層の最
低合体温度がクラッド用多孔質ガラス層のそれよりも低
くなるよう、これら多孔質ガラス層をつくり、コア用多
孔質ガラス層をクラッド用多孔質ガラス層の最低合体温
度以下により透明ガラス化し、その後、クラッド用多孔
質ガラス層を透明ガラス化するとともにクラッド用の該
ガラス層にフッ素をドープすることを特徴としている。
（作用）
本発明方法の場合、コア用多孔質ガラス層の最低合体温
度ＴＩとクラッド用多孔質ガラス層の最低合体温度Ｔ２
とがＴＩ＜↑２となるよう、こらら多孔質ガラス層をつ
くり、コア用多孔質ガラス層を先行して透明ガラス化す
るが、この際、Ｔｌ＜７２を利用し、ＴＩに応じた温度
でコア用ガラス層を透明ガラス化するのでクラッド用多
孔質ガラス層は透明ガラス化されない。
度ＴＩとクラッド用多孔質ガラス層の最低合体温度Ｔ２
とがＴＩ＜↑２となるよう、こらら多孔質ガラス層をつ
くり、コア用多孔質ガラス層を先行して透明ガラス化す
るが、この際、Ｔｌ＜７２を利用し、ＴＩに応じた温度
でコア用ガラス層を透明ガラス化するのでクラッド用多
孔質ガラス層は透明ガラス化されない。
その後、クラッド用多孔質ガラス層を透明ガラス化する
とき、これをフッ素含有雰囲気中で実施することにより
、該クラッド用多孔質ガラス層の透明ガラス化とフッ素
ドープとを同時に行なうが、この時点でのコア用ガラス
層はすでに透明ガラス化されており、したがってコア用
ガラス層にはフッ素がドープされず、クラッド用ガラス
層のみにフッ素がドープされる。
とき、これをフッ素含有雰囲気中で実施することにより
、該クラッド用多孔質ガラス層の透明ガラス化とフッ素
ドープとを同時に行なうが、この時点でのコア用ガラス
層はすでに透明ガラス化されており、したがってコア用
ガラス層にはフッ素がドープされず、クラッド用ガラス
層のみにフッ素がドープされる。
なお、上記における最低合体温度とは、異なる組成のス
ート状ガラス微粒子、例えば５１０２とＧ ｅ Ｏ２と
が溶けて互いに一体化する際の最低透明ガラス化温度で
あり、最低焼結温度ともいわれている。
ート状ガラス微粒子、例えば５１０２とＧ ｅ Ｏ２と
が溶けて互いに一体化する際の最低透明ガラス化温度で
あり、最低焼結温度ともいわれている。
例えばＳｉｎ２−Ｇｅｍ２からなる多孔質ガラス（前者
）と、５１０２のみからなる多孔質ガラス（後者）との
比較では、前者の最低合体温度が後者の最低合体温度を
下回るようになる。
）と、５１０２のみからなる多孔質ガラス（後者）との
比較では、前者の最低合体温度が後者の最低合体温度を
下回るようになる。
（実 施 例）
以下本発明方法の実施例につき、図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は既知のＶＡＤ法により、シングルモード型とな
る光ファイバ用の多孔質ガラス母材Ｉを作製している略
示図である。
る光ファイバ用の多孔質ガラス母材Ｉを作製している略
示図である。
同図において、２はコア用の多孔質ガラス層、３．４は
クラッド用の多孔質ガラス層、５は多孔質ガラス層２を
形成するためのバーナ、６は多孔質ガラス層３を形成す
るためのバーナ、７は多孔質ガラス層４を形成するため
のバーナであり、これらバーナ５．８、？はいずれも多
重管構造からなる。
クラッド用の多孔質ガラス層、５は多孔質ガラス層２を
形成するためのバーナ、６は多孔質ガラス層３を形成す
るためのバーナ、７は多孔質ガラス層４を形成するため
のバーナであり、これらバーナ５．８、？はいずれも多
重管構造からなる。
上記ＶＡＤ法により、例えばＤＣ５ＮＦ用の多孔質ガラ
ス母材１をつくるとき、コア用のバーナ５には５ｉｌｌ
（主属Ｎ） 、 ＧｅＧ１ （ドープ原料） 、 ０
２（支燃ガス） 、 Ｈ２（可燃ガス）、不活性ガス（
緩衝ガス）を供給するとともにクラッド用のバーナ３．
４にはそれぞれ５ｉｌｌ、 、 ０２、Ｈ２、緩衝ガス
を供給し、これら各ガスの火炎加水分解反応により生成
したスート状のガラス微粒子を軸方向、径方向に堆積さ
せてコア用多孔質ガラス層２、クラッド用多孔質ガラス
層３．４を有する多孔質ガラス多孔質ガラス母材１を作
製する。
ス母材１をつくるとき、コア用のバーナ５には５ｉｌｌ
（主属Ｎ） 、 ＧｅＧ１ （ドープ原料） 、 ０
２（支燃ガス） 、 Ｈ２（可燃ガス）、不活性ガス（
緩衝ガス）を供給するとともにクラッド用のバーナ３．
４にはそれぞれ５ｉｌｌ、 、 ０２、Ｈ２、緩衝ガス
を供給し、これら各ガスの火炎加水分解反応により生成
したスート状のガラス微粒子を軸方向、径方向に堆積さ
せてコア用多孔質ガラス層２、クラッド用多孔質ガラス
層３．４を有する多孔質ガラス多孔質ガラス母材１を作
製する。
これにより得られた多孔質ガラス母材ｌは、コア用多孔
質ガラス層２がＳ １０２−Ｇ ｅ ０２からなり、ク
ラッド用ガラスＮ３．４は５１０２のみからなる。
質ガラス層２がＳ １０２−Ｇ ｅ ０２からなり、ク
ラッド用ガラスＮ３．４は５１０２のみからなる。
つぎに多孔質ガラス母材ｌをヘリウムと塩化チオニルと
の混合ガス雰囲気中に入れてそのコア用多孔質ガラス層
２のみを先行して透明ガラス化するが、これに際しては
その雰囲気温度を同居２の最低合体温度（Ｓ＋９２の透
明ガラス化温度以下）に設定する。
の混合ガス雰囲気中に入れてそのコア用多孔質ガラス層
２のみを先行して透明ガラス化するが、これに際しては
その雰囲気温度を同居２の最低合体温度（Ｓ＋９２の透
明ガラス化温度以下）に設定する。
かくてコア用多孔質ガラス層２は透明ガラス化されるが
、クラッド用多孔質ガラス層３．４はその多孔質ガラス
状態を保持している。
、クラッド用多孔質ガラス層３．４はその多孔質ガラス
状態を保持している。
その後、多孔質ガラス母材ｌをヘリウムと塩化チオニル
と六フッ化イオウとの混合ガス雰囲気中に入れてそのク
ラッド用多孔質ガラス層３．４を透明ガラス化するので
あり、この際の雰囲気温度はこれら両層３．４の組成Ｓ
＋０２の最低合体温度に設定する。
と六フッ化イオウとの混合ガス雰囲気中に入れてそのク
ラッド用多孔質ガラス層３．４を透明ガラス化するので
あり、この際の雰囲気温度はこれら両層３．４の組成Ｓ
＋０２の最低合体温度に設定する。
こうして熱処理することにより、多孔質ガラス層３．４
はフッ素をドープされながら透明ガラス化され、フッ素
ドープト石英になるが、前記ガラス層２はすでに透明ガ
ラス化されているので、この熱処理時にフッ素がドープ
されない。
はフッ素をドープされながら透明ガラス化され、フッ素
ドープト石英になるが、前記ガラス層２はすでに透明ガ
ラス化されているので、この熱処理時にフッ素がドープ
されない。
上記の熱処理によりガラス母材ｌは多孔質状態から透明
ガラス化状態になり、当該透明ガラス化後の母材１が既
知の加熱延伸により紡糸されて第２図のごとき屈折率分
布をもつディプレストクランドシングルモード光ファイ
バとなる。
ガラス化状態になり、当該透明ガラス化後の母材１が既
知の加熱延伸により紡糸されて第２図のごとき屈折率分
布をもつディプレストクランドシングルモード光ファイ
バとなる。
なお、上述した実施例では、透明ガラス化前におけるコ
ア用多孔質ガラス層２にのみドーパントを含有させ、ク
ラッド用多孔質ガラス層３．４にはドーパントを含有さ
せなかったが、コア用多孔質ガラス層２の最低合体温度
Ｔ１とクラッド用多孔質ガラス層３．４の最低合体温度
Ｔ２とがＴｌ＜７２を満足させているかぎり、透明ガラ
ス化前のクラッド用ガラスＭ３．４にもドーパントを含
有させてもい。
ア用多孔質ガラス層２にのみドーパントを含有させ、ク
ラッド用多孔質ガラス層３．４にはドーパントを含有さ
せなかったが、コア用多孔質ガラス層２の最低合体温度
Ｔ１とクラッド用多孔質ガラス層３．４の最低合体温度
Ｔ２とがＴｌ＜７２を満足させているかぎり、透明ガラ
ス化前のクラッド用ガラスＭ３．４にもドーパントを含
有させてもい。
才た、これら各ガラス層に含有させるドーパントとして
は、ＴＩ＜７２を満足させる範囲内においてＰ 、 Ｂ
、 ＡＩ、Ｓｎ、 Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｇａ、 Ｍｇ、
Ｓｂ、 Ｃａ、 Ｂｒ、Ａｓなど、Ｇｅ以外の金属の
酸化物が採用できる。
は、ＴＩ＜７２を満足させる範囲内においてＰ 、 Ｂ
、 ＡＩ、Ｓｎ、 Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｇａ、 Ｍｇ、
Ｓｂ、 Ｃａ、 Ｂｒ、Ａｓなど、Ｇｅ以外の金属の
酸化物が採用できる。
さらに本発明方法によるとき、グレーデッドインデック
ス型とか、ステップインデックス型となる光ファイバの
母材も作製できる。
ス型とか、ステップインデックス型となる光ファイバの
母材も作製できる。
つぎに本発明方法のより具体的な実施例について説明す
る。
る。
第１図に略示したＶＡＤ法により、コア用多孔質ガラス
層２と、クラッド用ガラス層３．４とからなる多孔質ガ
ラス母材ｌをつくるとき、比屈折率差がΔ＋＝０．２％
となるよう、コア用バーナ５には５ｉｌｌ とＧｅＣ
ｌ４を、クラッド用バーナ６．７にはそれぞれＳ ｒ
Ｃｌ ａを供給し、これらを酸水素炎により火炎加水分
解し、その反応生成物たる各種ガラス微粒子を図示のご
とく堆積させてＤＣ３ＩＩＩＦ用に適した寸法の多孔質
ガラス母材ｌを作製した。
層２と、クラッド用ガラス層３．４とからなる多孔質ガ
ラス母材ｌをつくるとき、比屈折率差がΔ＋＝０．２％
となるよう、コア用バーナ５には５ｉｌｌ とＧｅＣ
ｌ４を、クラッド用バーナ６．７にはそれぞれＳ ｒ
Ｃｌ ａを供給し、これらを酸水素炎により火炎加水分
解し、その反応生成物たる各種ガラス微粒子を図示のご
とく堆積させてＤＣ３ＩＩＩＦ用に適した寸法の多孔質
ガラス母材ｌを作製した。
上記多孔質ガラス母材１を電気炉内に入れて第１回目の
熱処理を行なうとき、その電気炉の炉心管内には３０交
／ｍｉｎのＨｅと、 １ｆＬ／ｉｉｎの）Ｉｅによりバ
ブリングして担持した塩化チオニルとを導入し、１３８
０℃の該炉心管内に挿入された多孔質ガラス母材ｌを、
１２０＋＊ｍ／Ｈの引上速度で引き上げて熱処理した。
熱処理を行なうとき、その電気炉の炉心管内には３０交
／ｍｉｎのＨｅと、 １ｆＬ／ｉｉｎの）Ｉｅによりバ
ブリングして担持した塩化チオニルとを導入し、１３８
０℃の該炉心管内に挿入された多孔質ガラス母材ｌを、
１２０＋＊ｍ／Ｈの引上速度で引き上げて熱処理した。
なお、上記温度１３８０℃は９８．７ｗｔ％５ｉ０２−
残部Ｇ ｅ Ｏ２からなるコア用多孔質ガラス層２の最
低合体温度である。
残部Ｇ ｅ Ｏ２からなるコア用多孔質ガラス層２の最
低合体温度である。
この第１回目の熱処理ではコア用多孔質ガラス層２のみ
が透明ガラス化され、クラッド用多孔質ガラス層３．４
はその多孔質ガラス状態を保持していた。
が透明ガラス化され、クラッド用多孔質ガラス層３．４
はその多孔質ガラス状態を保持していた。
その後、上記炉心管内にＬｉｔ／ｍｉｄのＨｅによりバ
ブリングして担持した塩化チオニルと８０ｆＬｌ履ｉｎ
のＳｒ１とを導入し、該炉心管内を１４００℃に保持し
て引上状態にあった前記母材１を１２０■ｍ／）Ｉの降
下速度で引き下げ、第２回目の熱処理を行なった。
ブリングして担持した塩化チオニルと８０ｆＬｌ履ｉｎ
のＳｒ１とを導入し、該炉心管内を１４００℃に保持し
て引上状態にあった前記母材１を１２０■ｍ／）Ｉの降
下速度で引き下げ、第２回目の熱処理を行なった。
なお、上記温度１４００°ＣはＳ＋０２からなるクラッ
ド用多孔質ガラス層３．４の最低合体温度である。
ド用多孔質ガラス層３．４の最低合体温度である。
この第２回目の熱処理により両ガラス層３，４が透明ガ
ラス化され、これらガラス層３．４中には期待通り、フ
ッ素がドープされていた。
ラス化され、これらガラス層３．４中には期待通り、フ
ッ素がドープされていた。
すでに透明ガラス化されているコア用のガラス層２には
フッ素がドープされておらず、これは透明ガラスに対す
るフッ素ガスの拡散係数が小さいことによると推定でき
る。
フッ素がドープされておらず、これは透明ガラスに対す
るフッ素ガスの拡散係数が小さいことによると推定でき
る。
第２図の屈折率分布図は上記具体例の母材を紡糸して得
たディプレストクラッドシングルモード光ファイバのΔ
を示したもので、同図で明らかなごとくコアのΔ＋は約
０．２ｚとなっている。
たディプレストクラッドシングルモード光ファイバのΔ
を示したもので、同図で明らかなごとくコアのΔ＋は約
０．２ｚとなっている。
この屈折率分布図から、フッ素がコアに拡散していない
ことが理解できる。
ことが理解できる。
（発明の効果）
以上説明した通り、本発明方法によるときは。
クラッドとなるガラス層にのみフッ素をドープすること
ができ、したがってグレーテッドインデックス型、Δの
大きいステップインデックス型の光ファイバ母材が製造
できるのはもちろん、ディプレストクラッドシングルモ
ード光ファイバの母材をも満足に製造することができ、
光ファイバ通信で要求される低ロスかつ広帯域化に十分
貢献することができる。
ができ、したがってグレーテッドインデックス型、Δの
大きいステップインデックス型の光ファイバ母材が製造
できるのはもちろん、ディプレストクラッドシングルモ
ード光ファイバの母材をも満足に製造することができ、
光ファイバ通信で要求される低ロスかつ広帯域化に十分
貢献することができる。
第１図は本発明方法の１実施例を略示した説明図、第２
図は本発明方法による母材を紡糸して得た光ファイバの
屈折率分布図である。
図は本発明方法による母材を紡糸して得た光ファイバの
屈折率分布図である。
Claims (7)
- （１）光が通るコア用の多孔質ガラス層と、光が反射す
るクラッド用の多孔質ガラス層とを有する多孔質ガラス
母材をつくり、当該母材を透明ガラス化する光ファイバ
母材の製造方法において、コア用多孔質ガラス層の最低
合体温度がクラッド用多孔質ガラス層のそれよりも低く
なるよう、これら多孔質ガラス層をつくり、コア用多孔
質ガラス層をクラッド用多孔質ガラス層の最低合体温度
以下により透明ガラス化し、その後、クラッド用多孔質
ガラス層を透明ガラス化するとともにクラッド用の該ガ
ラス層にフッ素をドープすることを特徴とする光ファイ
バ母材の製造方法。 - （２）透明ガラス化前におけるコア用多孔質ガラス層が
ドープト石英、クラッド用多孔質ガラス層が純石英から
なる特許請求の範囲第１項記載の光ファイバ母材の製造
方法。 - （３）透明ガラス化前におけるコア用多孔質ガラス層が
高ドープト石英、クラッド用多孔質ガラス層が低ドープ
ト石英からなる特許請求の範囲第１項記載の光ファイバ
母材の製造方法。 - （４）ドーパントが酸化ゲルマニウムからなる特許請求
の範囲第２項または第３項記載の光ファイバ母材の製造
方法。 - （５）ドーパントが酸化ゲルマニウム以外の金属酸化物
からなる特許請求の範囲第２項または第３項記載の光フ
ァイバ母材の製造方法。 - （６）ディプレストクラッド層からなるクラッド用多孔
質ガラス母材をつくる特許請求の範囲第１項ないし第３
項いずれかに記載の光ファイバ母材の製造方法。 - （７）シングルモード型の光ファイバ母材をつくる特許
請求の範囲第１項ないし第３項いずれかに記載の光ファ
イバ母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15262284A JPS6131324A (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15262284A JPS6131324A (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6131324A true JPS6131324A (ja) | 1986-02-13 |
Family
ID=15544400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15262284A Pending JPS6131324A (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6131324A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62108746A (ja) * | 1985-11-04 | 1987-05-20 | コ−ニング グラス ワ−クス | ガラス物品の製造方法 |
| JPS63184214U (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-28 | ||
| JPH03163214A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-07-15 | Takano:Kk | 軸受装置 |
| JPH04113051U (ja) * | 1991-03-19 | 1992-10-01 | 福井機械株式会社 | 機械の故障診断装置 |
| EP1251107A1 (en) * | 2001-04-19 | 2002-10-23 | Lucent Technologies Inc. | Controlled collapse of depressed index optical fiber preforms |
| WO2015107931A1 (ja) * | 2014-01-16 | 2015-07-23 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法および光ファイバの製造方法 |
-
1984
- 1984-07-23 JP JP15262284A patent/JPS6131324A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62108746A (ja) * | 1985-11-04 | 1987-05-20 | コ−ニング グラス ワ−クス | ガラス物品の製造方法 |
| JPS63184214U (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-28 | ||
| JPH03163214A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-07-15 | Takano:Kk | 軸受装置 |
| JPH04113051U (ja) * | 1991-03-19 | 1992-10-01 | 福井機械株式会社 | 機械の故障診断装置 |
| EP1251107A1 (en) * | 2001-04-19 | 2002-10-23 | Lucent Technologies Inc. | Controlled collapse of depressed index optical fiber preforms |
| US6802191B2 (en) * | 2001-04-19 | 2004-10-12 | Lucent Technologies Inc. | Controlled collapse of depressed index optical fiber preforms |
| WO2015107931A1 (ja) * | 2014-01-16 | 2015-07-23 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法および光ファイバの製造方法 |
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