JPH0210095B2 - - Google Patents
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- JPH0210095B2 JPH0210095B2 JP23086783A JP23086783A JPH0210095B2 JP H0210095 B2 JPH0210095 B2 JP H0210095B2 JP 23086783 A JP23086783 A JP 23086783A JP 23086783 A JP23086783 A JP 23086783A JP H0210095 B2 JPH0210095 B2 JP H0210095B2
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 19
- 239000011162 core material Substances 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 9
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N phosphinic chloride Chemical compound ClP=O RLOWWWKZYUNIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01853—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01861—Means for changing or stabilising the diameter or form of tubes or rods
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Description
【発明の詳細な説明】
(a) 発明の技術分野
本発明は光フアイバ用母材を化学蒸着堆積法
（以下、CVD法と称す）で製作する方法に係り、
特に光フアイバ母材の屈折率が均一の光フアイバ
母材の製法に関する。
（以下、CVD法と称す）で製作する方法に係り、
特に光フアイバ母材の屈折率が均一の光フアイバ
母材の製法に関する。
(b) 従来技術と問題点
従来、光フアイバ母材をCVD法で製作する方
法について、第１図に従つて説明する。図中、１
は石英管、２はSiCl4，GeCl4，POCl3，O2が混合
した原料ガス、３はバーナ、４はH2，O2の混合
ガス、５はCl2ガス、６はコア材としてのSiO2＋
P2O5＋GeO2をそれぞれ示す。
法について、第１図に従つて説明する。図中、１
は石英管、２はSiCl4，GeCl4，POCl3，O2が混合
した原料ガス、３はバーナ、４はH2，O2の混合
ガス、５はCl2ガス、６はコア材としてのSiO2＋
P2O5＋GeO2をそれぞれ示す。
第１図において、石英管１を一定の速度で回転
させ、光フアイバのクラツドになる部分の石英管
１の内部１′に主原料SiCl4と屈折率を上げる
GeCl4の他にPOCl3等に酸素を加え、水素（H2）
と酸素（O2）の混合ガス４のガスバーナ３で石
英管１を例えば1400℃程度の所定の高温Ｔ１で加
熱すると酸化反応が起り、塩素Cl2が石英管外に
排出され、管内部１′に白色粉末のGeO2をドーブ
した高純度のSiO2＋P2O5が作られ、内部１′の温
度の低い下流側すなわち図面右側に流れて堆積す
る。そこでガスバーナ３を例えば10cm／分程度の
速さで左から右方へ移動させて上記石英管１を順
次加熱し該石英管１の内壁に堆積しているコア素
材としての上記高純度のSiO2＋P2O5をガラス化
する。
させ、光フアイバのクラツドになる部分の石英管
１の内部１′に主原料SiCl4と屈折率を上げる
GeCl4の他にPOCl3等に酸素を加え、水素（H2）
と酸素（O2）の混合ガス４のガスバーナ３で石
英管１を例えば1400℃程度の所定の高温Ｔ１で加
熱すると酸化反応が起り、塩素Cl2が石英管外に
排出され、管内部１′に白色粉末のGeO2をドーブ
した高純度のSiO2＋P2O5が作られ、内部１′の温
度の低い下流側すなわち図面右側に流れて堆積す
る。そこでガスバーナ３を例えば10cm／分程度の
速さで左から右方へ移動させて上記石英管１を順
次加熱し該石英管１の内壁に堆積しているコア素
材としての上記高純度のSiO2＋P2O5をガラス化
する。
上記の透明ガラスの堆積を繰返し行ない、石英
管１の内部１′に透明ガラスが充満された時点に
おいて、前記のガスバーナの温度をＴ１より高い
温度Ｔ２例えば190℃程度の高温にし、石英管１
を左から右に数回Ｔ２にて加熱することによりコ
ア材中空部が密になるまでコラプス作業が行われ
る。しかし、屈折率を高めるための添加剤P2O5
やGeO2の蒸気圧が主成分としてのSiO2より高い
ため蒸発しコア材内部の屈折率が低下してしま
う。
管１の内部１′に透明ガラスが充満された時点に
おいて、前記のガスバーナの温度をＴ１より高い
温度Ｔ２例えば190℃程度の高温にし、石英管１
を左から右に数回Ｔ２にて加熱することによりコ
ア材中空部が密になるまでコラプス作業が行われ
る。しかし、屈折率を高めるための添加剤P2O5
やGeO2の蒸気圧が主成分としてのSiO2より高い
ため蒸発しコア材内部の屈折率が低下してしま
う。
第２図はフアイバの端面を示す。図中１はクラ
ツドで７はコアを示し、イ，ロ間はコアの中心線
を示す。
ツドで７はコアを示し、イ，ロ間はコアの中心線
を示す。
第３図は第１図の方法によつて作られたフアイ
バ母材の第２図に示す中心線イ，ロ間（コア径）
の屈折率を示す。図中、縦軸は屈折率、横軸はコ
ア径を示す。図において屈折率は段々増加し、上
部の８の位置において屈折率に凹みなるdipが生
じている。これはフアイバの伝搬特性を劣化させ
る欠点となる。
バ母材の第２図に示す中心線イ，ロ間（コア径）
の屈折率を示す。図中、縦軸は屈折率、横軸はコ
ア径を示す。図において屈折率は段々増加し、上
部の８の位置において屈折率に凹みなるdipが生
じている。これはフアイバの伝搬特性を劣化させ
る欠点となる。
(c) 発明の目的
本発明は前記の目的を解決するために、コアの
屈折率の低下を防止した光フアイバ母材の製法を
提供することを目的とする。
屈折率の低下を防止した光フアイバ母材の製法を
提供することを目的とする。
(d) 発明の構成
本発明は上記の目的を達成するために、石英管
に光フアイバのコアを形成するための原料ガスを
注入し化学蒸着堆積法で光フアイバ母材を製造す
る方法であつて、該原料ガスに屈折率を高める原
料ガス添加剤を加えた状態で、化学反応を起こし
且つ該反応で上記石英管内に堆積するコア素材を
ガラス化し得る温度で加熱する手段と、上記石英
管が収縮する更に高い温度で加熱する手段とを交
互に行うことを特徴とする。
に光フアイバのコアを形成するための原料ガスを
注入し化学蒸着堆積法で光フアイバ母材を製造す
る方法であつて、該原料ガスに屈折率を高める原
料ガス添加剤を加えた状態で、化学反応を起こし
且つ該反応で上記石英管内に堆積するコア素材を
ガラス化し得る温度で加熱する手段と、上記石英
管が収縮する更に高い温度で加熱する手段とを交
互に行うことを特徴とする。
(e) 発明の実施例
以下本発明の光フアイバ母材の製法について、
第４図によつて説明する。
第４図によつて説明する。
第４図において、第１図と同一番号、同一符号
は同一部材を示し、９はより高温のガスバーナを
示す。
は同一部材を示し、９はより高温のガスバーナを
示す。
第４図において、石英管内部１′に入れた
SiCl4，GeCl4POCl3に酸素O2を加えこれを温度Ｔ
１のガスバーナ３で加熱し、酸化反応させ、これ
によつてGeO2等をドーブした高純度シリカガラ
スの堆積が作られ、この堆積した高純度シリカガ
ラスを所定の温度Ｔ２（Ｔ２＞Ｔ１）のガスバー
ナ９で再び高温化する。上記の温度Ｔ１とＴ２の
加熱を交互に例えば数回程度繰返し行う。この場
合、やゝ高ドーブのガラス膜を形成してから高温
加熱で管を収縮し、更にガラスの堆積と高温加熱
を繰返しし乍ら、石英管１の中の中空部が完全に
密になるまでつぶす。これにより第５図に示す如
きコア部の屈折率が一様になり、伝搬特性の均一
な光フアイバ母材が作られる。
SiCl4，GeCl4POCl3に酸素O2を加えこれを温度Ｔ
１のガスバーナ３で加熱し、酸化反応させ、これ
によつてGeO2等をドーブした高純度シリカガラ
スの堆積が作られ、この堆積した高純度シリカガ
ラスを所定の温度Ｔ２（Ｔ２＞Ｔ１）のガスバー
ナ９で再び高温化する。上記の温度Ｔ１とＴ２の
加熱を交互に例えば数回程度繰返し行う。この場
合、やゝ高ドーブのガラス膜を形成してから高温
加熱で管を収縮し、更にガラスの堆積と高温加熱
を繰返しし乍ら、石英管１の中の中空部が完全に
密になるまでつぶす。これにより第５図に示す如
きコア部の屈折率が一様になり、伝搬特性の均一
な光フアイバ母材が作られる。
(f) 発明の効果
以上説明した如く、従来の光フアイバ母材の製
法のように始めにSiCl4＋GeCl4等の素材を所定の
温度で数回加熱し、次に高温で更に数回加熱する
方法では屈折率にdipが生じ、光フアイバの伝搬
特性を劣化させる欠点をもつていたが、前記の素
材をＴ１とＴ２の高温で交互に加熱し、コア中空
部を密になるコラプスして伝搬特性の均一なもの
を得る利点がある。
法のように始めにSiCl4＋GeCl4等の素材を所定の
温度で数回加熱し、次に高温で更に数回加熱する
方法では屈折率にdipが生じ、光フアイバの伝搬
特性を劣化させる欠点をもつていたが、前記の素
材をＴ１とＴ２の高温で交互に加熱し、コア中空
部を密になるコラプスして伝搬特性の均一なもの
を得る利点がある。
第１図は従来の光フアイバ母材の製法、第２図
は光フアイバの断面図、第３図は第１図の方法に
よつて得られた屈折率、第４図は本発明の実施
例、第５図は第４図の方法によつて得られた屈折
率を示す。 図中、１は石英管、１′は内部、２はSiCl4，
GeCl4，POCl3，O2が混合した原料ガス、３はバ
ーナ、４はH2，O2の混合ガス、５はCl2ガス、６
はコア材としてのSiO2＋P2O5＋GeO2、７はクラ
ツド、８はコア、９はバーナを示す。
は光フアイバの断面図、第３図は第１図の方法に
よつて得られた屈折率、第４図は本発明の実施
例、第５図は第４図の方法によつて得られた屈折
率を示す。 図中、１は石英管、１′は内部、２はSiCl4，
GeCl4，POCl3，O2が混合した原料ガス、３はバ
ーナ、４はH2，O2の混合ガス、５はCl2ガス、６
はコア材としてのSiO2＋P2O5＋GeO2、７はクラ
ツド、８はコア、９はバーナを示す。
Claims (1)
- １ 石英管に光フアイバのコアを形成するための
原料ガスを注入し化学蒸着堆積法で光フアイバ母
材を製造する方法であつて、該原料ガスに屈折率
を高める原料ガス添加剤を加えた状態で、化学反
応を起こし且つ該反応で上記石英管内に堆積する
コア素材をガラス化し得る温度で加熱する手段
と、上記石英管が収縮する更に高い温度で加熱す
る手段とを交互に行うことを特徴とした光フアイ
バ母材の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23086783A JPS60122739A (ja) | 1983-12-07 | 1983-12-07 | 光ファイバ母材の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23086783A JPS60122739A (ja) | 1983-12-07 | 1983-12-07 | 光ファイバ母材の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60122739A JPS60122739A (ja) | 1985-07-01 |
| JPH0210095B2 true JPH0210095B2 (ja) | 1990-03-06 |
Family
ID=16914546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23086783A Granted JPS60122739A (ja) | 1983-12-07 | 1983-12-07 | 光ファイバ母材の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60122739A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6145345A (en) * | 1998-06-05 | 2000-11-14 | Lucent Technologies Inc. | Modified chemical vapor deposition using independently controlled thermal sources |
| KR100277358B1 (ko) * | 1998-06-25 | 2001-01-15 | 윤종용 | 화학기상증착방법에 의한 광섬유모재 제조장치 및 방법 |
| KR20010083653A (ko) * | 2000-02-17 | 2001-09-01 | 권문구 | 다수개의 버너를 사용하는 엠.씨.브이.디 공법에 의한광섬유 프리폼의 제조방법 |
| KR100450928B1 (ko) * | 2001-07-23 | 2004-10-02 | 삼성전자주식회사 | 수정된 화학기상 증착법을 이용한 광섬유 모재의 제조장치 및 방법 |
| KR100521958B1 (ko) * | 2002-09-18 | 2005-10-14 | 엘에스전선 주식회사 | 수정화학기상증착법에 있어서 이중토치를 이용한 광섬유모재의 제조 방법 및 장치 |
| CN107721150B (zh) * | 2017-11-20 | 2020-06-23 | 成都富通光通信技术有限公司 | 一种利用mcvd制作芯棒的方法 |
-
1983
- 1983-12-07 JP JP23086783A patent/JPS60122739A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60122739A (ja) | 1985-07-01 |
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